壳体及其制作方法技术

技术编号:7412936 阅读:151 留言:0更新日期:2012-06-08 09:07
本发明专利技术提供一种具有蓝色外观的壳体,其包括基体及形成于基体表面的色彩层,该色彩层为氮氧化锡层,该色彩层呈现的色度区域于CIE?LAB表色系统的L*坐标介于35至38之间,a*坐标介于3至4之间,b*坐标介于-10至-15之间。本发明专利技术还提供一种上述壳体的制作方法。该色彩层可使壳体呈现出蓝色,从而丰富了真空镀膜层的颜色。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种,尤其涉及一种具有蓝色外观的。
技术介绍
为了使电子装置的外壳具有丰富色彩,目前主要通过阳极氧化、烤漆、烤瓷等工艺制备装饰涂层。相比这些传统工艺,PVD镀膜技更加绿色环保,且采用PVD镀膜技术可在产品外壳表面形成具有金属质感的装饰色彩层。然而现有技术中,利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限,目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色、蓝色等色系,能够稳定生产的颜色更是少之又少。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供一种能够稳定生产的蓝色的PVD镀膜的壳体。另外,本专利技术还提供一种上述壳体的制作方法。一种壳体,其包括基体及形成于基体表面的色彩层,该色彩层为氮氧化锡层,该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于35至38之间,a*坐标介于3至4 之间,b*坐标介于-10至-15之间。一种壳体的制作方法,其包括如下步骤提供一基体;在该基体的表面形成一色彩层,该色彩层为氮氧化锡层,形成所述色彩层采用磁控溅射法,以锡靶为靶材,以氧气和氮气为反应气体,控制氧气的流量为50 150sCCm,氮气的流量为10 50SCCm,溅射的温度为50 100°C,溅射的时间为15 30min ;所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于35至38之间,a*坐标介于3至4之间,b*坐标介于-10至-15之间。相较于现有技术,所述壳体的制备方法在形成色彩层时,通过对靶材的选取、反应气体氧气和氮气流量的设计和对溅射温度和溅射时间的控制,从而达到使色彩层呈现蓝色的目的。以该方法所制得的壳体呈现出具有吸引力的蓝色的外观,丰富了真空镀膜层的颜色,极大地提高了产品的外观竞争力。附图说明图1是本专利技术一较佳实施例壳体的剖视图。主要元件符号说明壳体10基体 11色彩层 1具体实施例方式请参阅图1,本专利技术一较佳实施例的壳体10包括基体11及形成于基体11表面的色彩层13。该色彩层13呈现蓝色。基体11的材质可为金属、玻璃、陶瓷或塑料。色彩层13可以磁控溅射的方式形成于基体11的表面。该色彩层13为氮氧化锡 (SnON)层。该色彩层13的厚度可为300 450nm。该色彩层13肉眼直观呈现蓝色,而其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于35至38之间,a*坐标介于3至4之间, b*坐标介于-10至-15之间。本专利技术壳体10的制作方法包括以下步骤提供一基体11。该基体11的材质可为金属、玻璃、陶瓷或塑料。将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗并烘干备用。在基体11的表面形成一色彩层13。该色彩层13为氮氧化锡层。该色彩层13采用磁控溅射的方式形成。形成该色彩层13的具体操作方法可为将基体11固定于一磁控溅射镀膜机(图未示)的转架上,设置转架的公转转速为3rpm(转/分钟),抽真空使该镀膜机的腔体的真空度为8X10_5Pa,加热该腔体使温度为100 110°C ;以锡靶为靶材,开启锡靶,设定锡靶的功率为3 4kw,设定施加于基体11的偏压为-100 -200V ;通入反应气体氧气和氮气,氧气的流量可为50 150sCCm(标准状态毫升/分钟),氮气的流量可为 10 50sccm ;通入工作气体氩气,氩气的流量可为200 300sccm,沉积所述色彩层13。沉积所述色彩层13的时间可为15 30min。所述色彩层13的厚度可为300 450nm。该色彩层13于CIE LAB表色系统的L*坐标介于35至38之间,a*坐标介于3至 4之间,b*坐标介于-10至-15之间。本专利技术壳体10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体,或为其他装饰类产品的壳体。相较于现有技术,所述壳体10的制备方法在形成色彩层13时,通过对靶材的选取、反应气体氧气和氮气流量的设计和对溅射温度和溅射时间的控制,从而达到使色彩层 13呈现蓝色的目的。以该方法所制得的壳体10呈现出具有吸引力的蓝色的外观,丰富了真空镀膜层的颜色,极大地提高了产品的外观竞争力。权利要求1.一种壳体,其包括基体及形成于基体表面的色彩层,其特征在于该色彩层为氮氧化锡层,该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的I;坐标介于35至38之间,a*坐标介于3至4之间,b*坐标介于-10至-15之间。2.如权利要求1所述的壳体,其特征在于所述色彩层的厚度为300 450nm。3.如权利要求1所述的壳体,其特征在于所述色彩层呈现蓝色。4.如权利要求1所述的壳体,其特征在于所述基体的材质为金属、玻璃、陶瓷或塑料。5.一种壳体的制作方法,其包括如下步骤提供一基体;在该基体的表面形成一色彩层,该色彩层为氮氧化锡层,形成所述色彩层采用磁控溅射法,以锡靶为靶材,以氧气和氮气为反应气体,控制氧气的流量为50 150sCCm,氮气的流量为10 50SCCm,溅射的温度为50 100°C,溅射的时间为15 30min ;所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于35至38之间,a*坐标介于3至4之间, b*坐标介于-10至-15之间。6.如权利要求5所述的壳体的制作方法,其特征在于形成该色彩层的工艺参数为 真空度为8X10_5Pa,锡靶的功率为3 4kw,以氩气为工作气体,氩气的流量为200 300sccm,施加于基体的偏压为-100 -200V。7.如权利要求5所述的壳体的制作方法,其特征在于该基体的材质为金属、玻璃、陶瓷或塑料。8.如权利要求5所述的壳体的制作方法,其特征在于该色彩层的厚度为300 450nmo全文摘要本专利技术提供一种具有蓝色外观的壳体,其包括基体及形成于基体表面的色彩层,该色彩层为氮氧化锡层,该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于35至38之间,a*坐标介于3至4之间,b*坐标介于-10至-15之间。本专利技术还提供一种上述壳体的制作方法。该色彩层可使壳体呈现出蓝色,从而丰富了真空镀膜层的颜色。文档编号C23C14/06GK102480863SQ201010560959公开日2012年5月30日 申请日期2010年11月26日 优先权日2010年11月26日专利技术者张新倍, 蒋焕梧, 陈文荣, 陈正士, 黄嘉 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张新倍陈文荣蒋焕梧陈正士黄嘉
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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