流体能研磨方法及设备技术

技术编号:741209 阅读:201 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种流体能研磨设备,它包括调节用于研磨的压缩空气的湿度的装置,该设备提供改进的微粉化产品,特别是在药用组合物中用作药物的水合物。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及生产细碎粉末,特别是药物粉末的方法及设备。具体地本专利技术涉及流体能研磨的改进。流体能研磨,也称为微粉化,通常是用于制备细碎粉末的程序。它特别适用于药物的微粉化,因为没有研磨介质沾污产品。在流体能研磨中,其粒度的减小是利用压缩空气产生的能量使被研磨物质颗粒之间的互磨引起的。在流体能研磨中所用的压缩空气的湿度非常低,这是由于在压缩空气系统中增加了冷凝能力。在压缩后,从空气中去除湿气,以避免其在使用压缩空气的设备中冷凝。通常是通过冷凝、在压缩后冷却压缩空气和然后使压缩空气在进入流体能研磨机之前通过干燥塔来实现去除湿气。在流体能研磨中所用的压缩空气的压力通常约为6bar,其露点在-40℃以下,也可低到-70℃。在研磨过程中,微粉化方法可能破坏被处理物质的晶体结构。当研磨晶状水合物和溶剂合物时,互磨和非常干的空气的组合可引起附加的损害,这是因为在处理过程中,从晶体结构中除去水/溶剂合物分子引起的。在研磨之后,该微粉化的物质经一段时间后依贮存条件还可再获得其原来的晶体结构。因此,呈晶状水合物的药物在流体能研磨后可能不处于其原始规格,并在不可预见长的贮存时间后可返回到其原始的规格。此外,由互磨/去溶剂化作用引起的损害会影响产品的所预定的特性,例如,表面能、稳定性、生物利用率。在特定情况下,研磨的粉末在进一步的处理过程中合聚集,而不是均匀分散。本专利技术是基于下述发现,即将在流体能研磨中所用的压缩空气的湿度控制在明显高于通常所用的范围,但低于会导致研磨中发生冷凝的湿度,就可对研磨产品的结晶性造成较小的损害。在研磨过程中该物质干燥作用的随之减少或避免也有利于在研磨后再获得其原始水平的结晶度。因此,本专利技术提供特性更一致并且质量控制更优的微粉化的产品。这就大大减少批量生产之间的变化,导致较少的再加工处理或批量失效。此外,本专利技术方法对由微粉化处理达到的粒度降低没有有害的影响。最主要的是本专利技术提供一种流体能研磨设备,该设备包括调节研磨用的压缩空气的湿度的装置。本专利技术还提供一种研磨方法,该方法包括将压缩空气供入含颗粒物质的研磨室,并使该物质经流体能研磨,其特征在于,监测该压缩空气的湿度,需要时调节该湿度以减少对研磨产品的损害。根据本专利技术所作的调节通常是增加湿度。但是,一旦确定了最佳值,并且设备已调整到使压缩空气产生所需的湿度增加,则在研磨过程中需要作的是上下校准湿度水平,以保持其最佳值。典型的流体能研磨系统包括压缩空气源、干燥塔和含研磨室和收集装置的研磨机。该收集装置可以是出口空气物流中的滤袋或是膨胀室,在该膨胀室中空气物流的能量被耗散以使研磨的物质沉积下来。在研磨机中的工艺空气的湿度通过旁通干燥塔的布置来增加,以使压缩空气从空源直接进入研磨机。但是,该系统最好设计成可控的,其方法是设置绕过干燥塔的旁通回路,并有控制阀在旁通回路和干燥塔之间换向空气流动,由此,通过旁通的和通过塔的压缩空气的相对比例是可改变的。由监测进入研磨机的空气的湿度,利用控制阀可调节通过旁通和通过干燥塔的空气量,以达到研磨室中所需的湿度。在另一个实施方案中,未经干燥的空气可和经干燥的空气在一特定的压缩空气出口混合,以仅对供给特定装备的工艺空气进行湿度调节。在别外的实施方案中,湿度可由喷水调节,最好将水以雾状或喷淋状送入在上游位置的压缩空气管道,它可在使水分在进入研磨机之前分散在整个空气物流中。湿度最好以露点测量来估值。本专利技术包括调节湿度的任何过程,以使研磨机中的工艺空气的露点高于所产生的压缩空气的露点。通常湿度增加到露点为-30℃-5℃,优选约为-15℃-0℃。对特定物质的最佳值可由例行试验以改变露点和评估产品质量来确定。湿度通常由露点湿度计测量。例如可通过将探头放在进入研磨室前的空气物流中进行连续测量;或利用对进入研磨室前的空气物流取样进行间断测定。本专利技术可应用于任何流体能研磨过程,例如应用于当颗粒达到预定大小由内部分级器排出该颗粒的系统或应用于设有分级器的系统,在这种系统中,产品多次通过研磨机直到颗粒为所需的粒度范围。本专利技术除对微粉化产品的有利效果外,其另一优点为改进了微粉化过程的本身,使维持进料速率及空气压力平衡更为容易。此外,本专利技术方法改进了在连续生产周期中微粉化的药物产品的一致性和质量。此外,本专利技术对制备用于药用组合物的细粉药物特别有效。因此,在另一方面本专利技术提供一种含有由上述方法所得的药物的药用组合物。本专利技术将改进大部分物质的微粉化产品的质量,但特别应用于在加工过程中对结晶损害敏感的物质的微粉化。因为结晶(如果存在)本身的水的去除可使晶体结构不稳定,在晶状水合物的传统微粉化处理过程中,晶体损害的可能性是一严重的问题,本专利技术将克服此问题。在一优选实施方案中,本专利技术的程序是用于制备微粉化的莫匹罗星(mupirocin)钙二水合物(EPO 167856-A2,BEECHAM Group plc)。以前,这种物质的流体能研磨产生的微粉化产品在混入软膏基料中时会形成不希望的聚集体。已经假定这是由在非常干的空气中研磨造成结晶水的损失和对晶体结构的损害所产生的表面能的改变引起的。将工艺空气的湿度控制到大气压露点为-15℃-0℃克服了此问题。按本专利技术程序产生的微粉化的莫匹罗星钙二水合物的水分含量优选为3.0-4.0%,更优选为3.4-3.7%,并在结晶性恢复后有低的无定形含量,最好为5%或更少。因此,在另一方面本专利技术提供一种药用组合物,它包含由上述方法得到的微粉化的莫匹罗星钙二水合物。该类组合物的优点为包含更一致质量特性的药物,并避免在例如软膏中形成莫匹罗星钙二水合物的聚集体。优选地,这类组合物包括软膏、乳剂和鼻喷雾剂,如在EPO 231621-A2(Beecham Group plc)、EP0 251434-A2(Beecham Group plc)、WO95/10999(Smithkline Beecham Corp)和WO98/14189(Smithkline Beecham)中所描述的。一种优选的组合物是一种在含甘油酯的白色软性石蜡基料中的含莫匹罗星钙二水合物的膏剂,可由Smithkline Beecham公司以产品Bactroban Nasal购到。另一种优选的组合物是一种在含矿物油、聚乙二醇(1000)单鲸蜡基醚、鲸蜡基醇、十八烷醇、黄原酸胶和水的基料中的含莫匹罗星钙二水合物的乳剂,可由Smithkline Beecham公司以产品Bectroban Cream购得。本专利技术以下列实施例说明。实施例1一座用于微粉化莫匹罗星钙二水化物的工业规模的工厂,将压缩空气经硅胶柱送入微粉化研磨机。在向研磨机供工艺空气中设置旁通硅胶干燥柱的回路。利用阀门改变旁通干燥柱的空气的比例,以使工艺空气中的湿度能被控制。取单批量莫匹罗星钙,并将其分成三份以进行三次单独的微粉化。第一次微粉化(子批A)是使用工厂压缩机通常供给的工艺空气。空气的露点为-58℃。另两份进料的微粉化是一次(子批B)是使用将露点控制在-10℃的空气,一次(子批C)是使用将露点控制在0℃的空气(本工厂可得到的湿度上限值)。每次运行产生约5kg的微粉化产品。每一情况下,露点都由在空气进入口附近的研磨机的上游空气取样而测定的,并以在大气压下的露点来评定。所有三次微粉化的子批均符合所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流体能研磨设备,它包括调节用于研磨的压缩空气的湿度的装置。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:AG哈顿
申请(专利权)人:史密丝克莱恩比彻姆有限公司
类型:发明
国别省市:GB[英国]

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