当前位置: 首页 > 专利查询>吴光辉专利>正文

宽滚动支撑型上罗拉轴承制造技术

技术编号:7370012 阅读:150 留言:0更新日期:2012-05-27 10:01
本发明专利技术涉及一种宽滚动支撑型上罗拉轴承,专门为配合一种上罗拉轴承的多位握持结构而设计,属于纺织专件制造技术领域。它由外壳、芯轴、钢球、保持架、防尘圈、密封帽、胶辊构成。其特征在于所述的芯轴两外沟道中心平面距离b≥16mm;所述的外壳内沟道中心平面与外壳轴向中心平面的距离≥b/2。本发明专利技术具有适应性强、运转支撑平稳等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种宽滚动支撑型上罗拉轴承,专门为配合一种上罗拉轴承的多位握持结构而设计,属于纺织专件制造

技术介绍
与本专利技术同时提出专利技术专利申请的一种上罗拉轴承的多位握持结构,它能够周期性改变纱线动程在胶辊上的位置,从而能够增加两倍以上的胶辊利用率。由此而带来的问题是由于纺纱动程在胶辊的外圆柱面上能够轴向换位,因而使纱线作用在轴承上的作力位置发生了偏移,其偏移极限超出了传统上罗拉轴承双列球之间的支撑面,因此造成了上罗拉轴承外壳因轴承间隙而产生的径向翘动,这个径向翘动严重地影响到纱线的条干质量。
技术实现思路
基于上述原因,本专利技术提出了一种宽滚动支撑型上罗拉轴承,以解决轴承外壳因作力位置发生偏移而带来的径向翘动问题。本专利技术采用以下技术方案实施,它由外壳、芯轴、钢球、保持架、防尘圈、密封帽、胶辊构成。其特征在于所述的芯轴两外沟道中心平面距离16mm;所述的外壳内沟道中心平面与外壳轴向中心平面的距离>芯轴两外沟道中心平面距离的一半。本专利技术具有适应性强、运转支撑平稳等优点。附图说明附图1为本专利技术的主剖视结构示意图;在附图1中1密封帽、2保持架、3外壳、4钢球、5防尘圈、6芯轴、7胶辊。实施方式在附图1中,用成形砂轮将芯轴6的两侧磨削成中心平面距离为b的两外沟道,用成型砂轮在外壳3距轴向中心平面为b/2的位置上磨削内沟道,用内孔砂轮在外壳的另一端磨削内滚道。在芯轴6的外沟道和外壳3的内沟道、内滚道上装上钢球4、保持架2,外圆柱面上压入防尘圈5,便成为本专利技术所提出的宽沟距双列球上罗拉轴承。在现场使用中,盖上密封帽1套上胶辊7进入细纱机的牵伸钳口。由于本专利技术所述的芯轴6其特征在于所述的芯轴6两外沟道中心平面距离b彡16mm ;又由于环绽纺的动程一般设定为6 8mm、紧密纺的动程一般设定为3 4mm,因此两倍的环绽纺动程和三倍的紧密纺动程其不重叠的动程极限,均没有超出本专利技术所述的双列球距为b的支撑面,因而避免了上罗拉轴承外壳3因动程作力点发生偏移带来的径向翘动现象。权利要求1.一种宽滚动支撑型上罗拉轴承,它由外壳、芯轴、钢球、保持架、防尘圈、密封帽、胶辊构成,其特征在于所述的芯轴两外沟道中心平面距离b彡16mm。2.根据权利要求1所述的一种宽滚动支撑型上罗拉轴承,其特征在于所述的外壳内沟道中心平面与外壳轴向中心平面的距离>芯轴两外沟道中心平面距离的一半。全文摘要本专利技术涉及一种宽滚动支撑型上罗拉轴承,专门为配合一种上罗拉轴承的多位握持结构而设计,属于纺织专件制造
它由外壳、芯轴、钢球、保持架、防尘圈、密封帽、胶辊构成。其特征在于所述的芯轴两外沟道中心平面距离b≥16mm;所述的外壳内沟道中心平面与外壳轴向中心平面的距离≥b/2。本专利技术具有适应性强、运转支撑平稳等优点。文档编号D01H5/74GK102465367SQ20101055046公开日2012年5月23日 申请日期2010年11月19日 优先权日2010年11月19日专利技术者吴光辉 申请人:吴光辉本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴光辉
申请(专利权)人:吴光辉
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术