有机层沉积设备和使用其制造有机发光显示装置的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种有机层沉积设备和一种使用该有机层沉积设备制造有机发光显示装置的方法。所述有机层沉积设备包括静电夹盘，所述静电夹盘与基底组合，以固定地支撑所述基底。所述有机层沉积设备包括：用于容纳所述基底的具有设定的曲率的容纳表面；沉积源，用于朝向所述基底排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在所述沉积源的一侧，并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴；图案化狭缝片，被设置为面向所述沉积源喷嘴单元，并具有沿垂直于所述第一方向的第二方向布置的多个图案化狭缝，其中，所述图案化狭缝片在由沿所述第二方向和第三方向延伸的线形成的平面上的剖面弯曲设定的程度，其中，所述第三方向垂直于所述第一方向和所述第二方向。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的多个方面涉及一种有机层沉积设备和一种通过使用该有机层沉积设备制造有机发光显示装置的方法，更具体地说，涉及一种能够简单地以大规模制造大型显示装置并能够用于高清晰度图案化的有机层沉积设备和一种通过使用该有机层沉积设备制造有机发光显示装置的方法。
技术介绍
与其它显示装置相比，有机发光显示装置具有更大的视角、更好的对比度特性和更快的响应速度，因此作为下一代显示装置而备受关注。有机发光显示装置包括中间层，该中间层包括设置在被布置为彼此相对的第一电极和第二电极之间的发射层。可以通过各种方法形成电极和中间层，其中一种方法是对每个层执行单独的沉积方法。当通过使用单独的沉积方法来制造有机发光显示装置时，与将要形成的有机层具有相同图案的精细金属掩模(FMM)被设置为紧密地接触基底，并在FMM 上方沉积有机材料，从而形成具有期望的图案的有机层。然而，使用这样的FMM的单独沉积方法不适合于制造使用具有第五代(5G)尺寸或更大的母玻璃的更大的装置。换言之，当使用这样的大掩模时，该掩模会由于自重而弯曲， 由此使图案变形。这不益于近来朝着高清晰度图案的趋势。
技术实现思路
本专利技术的一个或多个方面涉及一种适合于以大规模制造大型显示装置并能够用于高精细图案化的有机层沉积设备和一种通过使用该有机层沉积设备制造有机发光显示装置的方法。根据本专利技术构思的实施例，提供了一种用于在基底上形成有机层的有机层沉积设备，该设备包括静电夹盘，与所述基底组合以固定地支撑所述基底，并包括用于容纳所述基底的具有设定的曲率的容纳表面；沉积源，用于朝向所述基底排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在所述沉积源的一侧，并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴；图案化狭缝片，被设置为面向所述沉积源喷嘴单元，并具有沿垂直于所述第一方向的第二方向布置的多个图案化狭缝，其中，所述图案化狭缝片在由沿所述第二方向和第三方向延伸的线形成的平面上的剖面弯曲设定的程度，其中，所述第三方向垂直于所述第一方向和所述第二方向。所述沉积源、所述沉积源喷嘴单元和所述图案化狭缝片与所述基底隔开设定的距离，从而在所述基底沿所述第一方向相对于所述沉积源、所述沉积源喷嘴单元和所述图案化狭缝片移动的同时执行沉积。当所述基底与所述静电夹盘的所述容纳表面组合时，基底可以被弯曲为与所述静电夹盘具有相同的曲率。所述图案化狭缝片可以与所述基底隔开设定的距离，并可以被弯曲为与所述静电夹盘的所述容纳表面具有基本上相同的曲率。所述图案化狭缝片可以与所述基底隔开设定的距离，并可以具有与所述静电夹盘的所述容纳表面的形状对应的多边形形状。 在一个实施例中，所述设备被构造为在与所述基底组合的所述静电夹盘沿所述第一方向相对于所述沉积源、所述沉积源喷嘴单元和所述图案化狭缝片移动的同时执行沉积。在一个实施例中，所述容纳表面被构造为由于所述静电夹盘施加的电磁力而与所述基底紧密地组合。所述沉积源、所述沉积源喷嘴单元和所述图案化狭缝片可以经由一个或多个连接构件整合为一体。所述一个或多个连接构件可以弓I导所述沉积材料的移动。所述一个或多个连接构件可以密封设置在所述沉积源的所述一侧的所述沉积源喷嘴单元与所述图案化狭缝片之间的空间。在所述基底或所述有机层沉积设备沿所述第一方向相对于彼此移动的同时，所述沉积材料可以连续地沉积在所述基底上。所述有机层沉积设备的图案化狭缝片比所述基底小。所述图案化狭缝片的沿所述第二方向的宽度可以基本上等于所述基底的沿所述第二方向的宽度。所述多个沉积源喷嘴可以以设定的角度倾斜。所述多个沉积源喷嘴可以包括沿在所述第一方向上的两个行布置的沉积源喷嘴， 沿所述两个行的所述沉积源喷嘴可以倾斜以彼此面对。所述多个沉积源喷嘴可以包括沿在所述第一方向上形成的第一行和第二行布置的沉积源喷嘴。位于所述图案化狭缝片的左侧的所述第一行的沉积源喷嘴可以被布置为面向所述图案化狭缝片的右边第二侧，位于所述图案化狭缝片的右侧的所述第二行的沉积源喷嘴可以被布置为面向所述图案化狭缝片的所述左侧。根据本专利技术构思的另一实施例，提供了一种通过使用用于在基底上形成有机层的有机层沉积设备来制造有机发光显示装置的方法，该方法包括使所述基底弯曲，以具有设定的曲率；将所述基底设置为与所述有机层沉积设备隔开设定的距离；在使所述有机层沉积设备或所述基底相对于另一者移动的同时将从所述有机层沉积设备排出的沉积材料沉积到所述基底上。使所述基底弯曲的步骤可以包括将所述基底设置在静电夹盘上，所述静电夹盘包括具有设定的曲率的容纳表面；将电压施加到所述静电夹盘，以使所述基底与所述容纳表面紧密地组合。所述有机层沉积设备可以包括图案化狭缝片，所述图案化狭缝片具有多个图案化狭缝，并被弯曲为与所述静电夹盘的所述容纳表面具有基本上相同的曲率。可以通过所述图案化狭缝片使沉积在所述基底上的所述沉积材料图案化。所述有机层沉积设备可以包括图案化狭缝片，所述图案化狭缝片包括多个图案化狭缝，并被形成为具有与所述静电夹盘的所述容纳表面的形状对应的多边形形状。可以通过所述图案化狭缝片使沉积在所述基底上的所述沉积材料图案化。根据本专利技术构思的另一实施例，提供了一种制造有机发光显示装置的方法，该方法包括将有机层沉积设备设置为与固定到静电夹盘上的基底隔开，所述静电夹盘包括具有设定的曲率的容纳表面，其中，所述基底与所述容纳表面具有相同的曲率；在使所述有机层沉积设备或固定到所述静电夹盘上的所述基底相对于另一者移动的同时在所述基底上执行沉积。所述有机层沉积设备可以包括沉积源，用于排放沉积材料；沉积源喷嘴单元， 设置在所述沉积源的一侧，并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴；图案化狭缝片，被设置为面向所述沉积源喷嘴单元，并具有沿垂直于所述第一方向的第二方向布置的多个图案化狭缝，其中，所述图案化狭缝片在由沿所述第二方向和第三方向延伸的线形成的平面上的剖面弯曲设定的程度，其中，所述第三方向垂直于所述第一方向和所述第二方向。附图说明附图与说明书一起对本专利技术的示例性实施例进行举例说明，并与描述一起用于解释本专利技术的原理。图1是根据本专利技术实施例的有机层沉积设备的示意图；图2是图1的静电夹盘的示例的剖视图；图3是根据本专利技术实施例的图1的有机层沉积设备的有机层沉积组件的示意性透视图；图4是图3的有机层沉积组件的示意性剖面侧视图；图5是图3的有机层沉积组件的示意性剖面平面图；图6示出了根据对比实施例的当图案化狭缝片和基底被形成为平坦时形成在基底上的有机层；图7具体示出了根据本专利技术实施例的包括在图3的有机层沉积组件中的图案化狭缝片和基底；图8示出了根据本专利技术另一实施例的与图7的图案化狭缝片不同的图案化狭缝片；图9是根据本专利技术另一实施例的有机层沉积组件的示意性透视图；图10是示意性地示出当沉积源喷嘴在图9的有机层沉积组件中未倾斜时形成在基底上的沉积膜的分布图案的曲线图；图11是示意性地示出当沉积源喷嘴在图9的有机层沉积组件中倾斜时形成在基底上的沉积膜的分布图案的曲线图；图12是通过使用根据本专利技术实施例的有机层沉积设备制造的有源矩阵有机发光显示装置的剖视图。具体实施例方式在下面的详细描述中，仅通过举例说明的方式示出并描述了本专利技术的特定示例性实施例。如本领域技术人员将认识到的，本专利技术可以以许多不同的形式来实施，而不应当被解释为限于在此提出的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：瓦列里·布鲁辛斯奇，林·卡普兰，郑世呼，玄元植，罗兴烈，朴庆太，郑炳成，崔镕燮，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：