本发明专利技术公开一种用于化工、冶金等行业中对生产过程的原料气、干气产品或尾气进行淋洗的系统的辅助装置，以减少淋洗处理过程形成的结晶物在淋洗塔或淋洗设备内的沉积。本发明专利技术的方法是将淋洗液体在进入淋洗装置前先通过一个高频电场，用高频电场对其进行作用。本发明专利技术的装置是在带有液体输入和输出管的容器内设置有电极，该电极与高频能量发生器的输出同轴电缆的内芯相连，容器的外壳与高频能量发生器的输出同轴电缆的外屏敝层短路相连。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于化工、冶金等行业中对生产过程的原料气、干气产品或尾气进行淋洗的系统的辅助装置，这种装置可有效延缓或避免结晶物在淋洗系统中形成结晶的沉积。本专利技术特别适于对化学工业生产过程中所产生的含酸根的工艺尾气、生产过程的大部分含酸根原料气以及含酸根干气产品用碱性溶液进行淋洗，在去除气体中酸根及其它有害物质时，减少处理过程形成的结晶物在淋洗塔或淋洗设备的腔体内壁、格栅、捕集层，以及风机叶轮上沉积。
技术介绍
在化学工业生产过程中，大部分的原料气和干气产品，如氨、烷、氢、氧、氯、氮、氟、汽化油以及尾气等，多数含有其它酸性气体以及杂质和有害物质，由于原料气和干气产品中存在的酸性气体以及杂质和有害物质会对生产过程、产品质量造成严重影响，而尾气中的酸性气体会对环境造成污染。为解决上述存在的问题，多数采用碱性溶液对其进行淋洗的方法，以去除原料气、干气产品以及尾气中存在的酸性气体以及杂质和有害物质，保证生产过程原料气、干气产品质量，和使尾气达到排放标准。但是，在淋洗的工艺过程中，由于淋洗溶液与原料气、干气产品以及尾气中存在的酸性气体，在进行反应生成新的化合物的同时还将部分其它物质捕集于溶液之中，这些新生成的化合物和物质由于与淋洗系统存在电位差，以用溶液对其的溶解能力趋于饱和、其质量大于溶液等原因，使其极容易在淋洗塔的格栅、内壁、捕集层、以及系统中的引风机叶轮等部位形成结晶和沉积。当这些结晶和沉积物在格栅上形成后，会减少格栅的通气面积，形成较大的气阻，致使通过格栅的气体速度会越来越高，所形成的高速射流又会将更多的溶液带至捕集层、引风机叶轮等部位，造成上述部位更多的结晶和沉积，如此恶性循环使上述各部位的结晶和沉积越来越严重，严重影响设备的正常工作，甚至不得不停产抢修。此情况导致的恶果主要有以下三个方面1格栅气隙的总截面积越来越小，为了通过足够的气量保持所需的负压，就不得不通过增加引风机电机的功率，结果造成了电能的浪费；同时增大引风量后形成高速气体射流会携带走更多的溶液，因此不得不补加新的溶液，造成了水、配制的碱等原材料以及人力资源的浪费。2当格栅气隙因结晶、沉积物的影响，其总截面积小到一定程度，或者捕集层、引风机叶轮上结晶物和沉积物达到一定厚度时，就不得不停产清理结晶和沉积物。如此产生的后果是系统在不正常的工作状况下运行，不仅影响淋洗效果，而且还会增加有害物质的排放量，造成环境污染，不利于清洁生产。被迫停产清理结晶和沉积物还存在以下弊端A直接影响产品的产量；B造成人力资源的浪费；C造成较多的不安全因素，例如会造成人员的损伤，不利于安全生产。D提高了产品的综合成本。3在引风机叶轮上产生结晶和沉积物后，会破坏引风机的动平衡，不仅会产生更大的噪音，而且还会在较短的时间内损坏引风机的轴、瓦或者轴承，加大设备发生事故的隐患。为解决此问题，部分企业用去离子水配制淋洗用溶液。但因结晶是由于淋洗过程中大量新生成的化合物和被淋洗液捕集到气体中的其它物质所致，所以收效甚微。现阶段尚未发现解决结晶和沉积问题的主动有效办法。
技术实现思路
本专利技术提供一种可有效阻止淋洗系统结晶物产生的方法及装置，以解决现存的问题。本专利技术的方法是将淋洗液体在进入淋洗装置前先通过一个高频电场，用高频电场对其进行作用。试验表明使淋洗液通过高频电场，即可有积极的效果。根据相关的试验表明，对淋洗溶液进行高频电场处理的频率为2000KHz～30000KHz，所使用电的总功率为0.2KVA～0.7KVA/100m3·h。其最佳电场的频率为3000KHz～8000KHz，液体在高频电场中被作用的时间最小为1秒。本专利技术的高频电场最佳功率为0.3KVA～0.6KVA/100m3·h。实现本专利技术所述方法的装置，即处理装置是在带有液体输入和输出管的容器内设置有电极，该电极与高频能量发生器的输出同轴电缆的内芯相连，容器的外壳与高频能量发生器的输出同轴电缆的外屏敝层短路相连。本专利技术的装置所使用的高频能量发生器系用商品化的高频信号发生器与商品化的高频功率放大器组合。本专利技术装置的容器横截面为圆形，其输入管设于容器的底部，其输出管设于容器的顶部，这样可以使进行容器的液体得到最佳的处理效果。本专利技术装置的电极第一种设置方式是将其设于容器的中心位置。对于需处理较大液体量的装置应在容器中设置有两根以上的电极，电极的设置位置应当满足如下条件，即两电极之间的间距离为直径，并做一与容器为同一圆心，且过两电极的圆将容器的横截面分为内外两部分，其中位于该“圆”内部的面积应基本等于或略小于该“圆”外部的圆环面积，采用这一结构可以使处理容器内的液体处于均匀的电场中。在本专利技术的一个实施例中，电极是设置于靠近壳体处且等于容器横截面中心距壳体内壁距离的60％处。在同一容器内两电极的工作频率差最好在300KHz～800KHz的范围内。在容器横截面中心设置有一根辅助电极，辅助电极与外壳短路相连。在这一最佳实施例中所采用的电极直径为16毫米，辅助电极的直径为25～75毫米。本专利技术的装置中所使用的高频电源其频率应当满足2000KHz～30000KHz，所使用的电功率与所要处理的淋洗液量间关系为0.2KVA～0.7KVA/100m3·h。其最佳电场的频率为3000KHz～8000KHz，液体在这一电场中被作用的时间最小应不低于1秒钟，这一条件的满足可以通过设定容器高度和调节液体流速的方式实现。专利技术人所进行的试验表明，处理电场的最佳功率为0.3KVA～0.6KVA/100m3·h。根据相关的试验表明，本专利技术的处理装置中采用两个相串联的容器其效果最佳，其中处于上游的容器的工作频率范围与处于下游的容器的工作频率范围不等。两处理容器的工作频率范围相差200KHz～1000KHz时效果比较理想。试验表明淋洗液体经本专利技术的装置处理后再进行淋洗，可以明显延缓结晶沉积，大大延长清理结晶沉积物的周期。试验还发现采用本专利技术的方法、装置后可以延长补加淋洗液的时间，减小在淋洗液中补加碱的数量，大大降低了生产成本，保障生产的正常进行，提高了产品质量。同时还可以降低设备发生事故的几率。附图说明图1为本专利技术一个最佳实施例处理容器的示意图。图2为图1的剖视示意图。图3为本专利技术的另一个最佳实施例处理容器的示意图。图4为图3的剖视示意图。图5为本专利技术采用两个串联处理容器的实施例示意图。在上述图中(1)为为保护高频电能输入高频电能接线端而设置的罩盖，(2)为形成密封容器的上封头板，(3)为容器筒体，(4)为被处理液体输入管，(5)为液体输出管，(6)为电极与容器的上绝缘装置，(7)为液体腔，(8)为电极，(9)为电极与容器的下绝缘装置，(10)为形成密封容器的下封头板，(11)为设于罩盖上的引入高频馈电电缆入口，(12)、(13)共同组成高频电能接线端，(14)为带有双电极的容器上的上封头板，(15)为与壳体相连的辅助电极，(16)为双电极的接线端，(17)为贮液容器(即待处理液体存贮罐)，(18)为系统连接法兰，(19)为液体输送泵，(20)为第一级液体处理容器，(21)为液体回流管，(22)为第二级液体处理容器，(23)为淋洗塔，(24)为被淋洗气体入口，(25)为连通管路，(26)为外壳，(27)为淋洗塔的格栅，(28)为淋洗塔的捕集层，(29本文档来自技高网...
【技术保护点】
阻止淋洗系统结晶物产生的方法，其特征在于将淋洗液体在进入淋洗装置前先通过一个高频电场，用高频电场对其进行处理。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：田永征，
申请(专利权)人：田永征，王培，仲兰萍，
类型：发明
国别省市：62[中国|甘肃]
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