一种自支撑分子印迹聚合物膜的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种自支撑分子印迹聚合物膜的制备方法。该方法通过二价金属离子和多孔氧化铝薄膜反应得到多孔氧化铝基层状双氢氧化物；然后通过进一步反应反应得到SBC插层的多孔氧化铝基层状双氢氧化物；最后将其与可聚合单体、聚合交联剂、分子印迹模板剂和有机溶剂混合并用超声波分散，加入自由基聚合引发剂进行聚合，反应得到的产物经过洗涤后干燥，获得自支撑分子印迹聚合物膜。本发明专利技术的自支撑分子印迹聚合物膜能够充分发挥无机材料强度高、耐腐蚀、耐高温、比表面积大和有机高分子材料负载信息量大、性能可调的优点，辅以可控/活性自由基聚合，利用活性链增长过程的可控性，能够实现分子印迹材料超细、超薄纳米自支撑结构的可控合成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于聚合物一无机纳米复合材料
，特别是涉及自支撑分子印迹聚合物膜的制备方法。
技术介绍
分子识别是生命体存在的基础，分子印迹技术即模拟了天然细胞和分子的特异选择性识别能力。分子印迹技术多采用热引发或光引发自由基聚合方法制备分子印迹聚合物，这种方法虽然合成条件易于控制，实验装置简单，但存在所得印迹聚合物颗粒较大、形状不均勻、研磨过程中容易破坏聚合物网络等缺点，造成印迹效率不高。分子印迹膜是人工合成的对模板分子具有特异识别性能的新型膜材料，它通常是在已有基膜的基础上，通过表面修饰引入分子印迹皮层，使膜材料具有分子记忆与识别作用。但是在这种结构的分子印迹膜中，基膜往往是柔性的有机膜材料，无法对材料起到自支撑作用。同时，分子印迹皮层与基膜之间的结合力要么是较弱的范德华力，二者的结合不够牢固，要么是通过化学氧化还原或辐照接枝获得的共价键作用，工艺过程较为复杂。层状双氢氧化物(LDH)是指理想组成为η+Αρ_η/ρ·πιΗ20的一类具有层状结构的无机化合物，其中M2+为二价金属离子，包括Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Fe2\ Zn2\ Cu2+、Ti2+、V2+、Cr本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：丁鹏，施利毅，李宗周，宋娜，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：