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本发明涉及一种自支撑分子印迹聚合物膜的制备方法。该方法通过二价金属离子和多孔氧化铝薄膜反应得到多孔氧化铝基层状双氢氧化物；然后通过进一步反应反应得到SBC插层的多孔氧化铝基层状双氢氧化物；最后将其与可聚合单体、聚合交联剂、分子印迹模板剂和有...
该专利属于上海大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海大学授权不得商用。

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