测量涂层层厚度的系统和方法技术方案

本发明专利技术涉及测量沉积在基板(2)上的涂层层(7)厚度的系统和方法。在涂层从涂层辊(3)转移到基板(2)之前和之后测量涂层辊(3)上的涂层层(4，8)的厚度中从而间接测量基板(2)上的涂层层(7)的厚度。为测量涂层辊(3)上的涂层层(4，8)的厚度，使用两个指向涂层辊(3)上的各自层(4，8)的传感器(9，10)。所述传感器(9，10)有IR辐射体和IR探测器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及基板上涂层的辐射测量系统和包含测量涂层厚度步骤的基板上的液态膜涂覆方法。本专利技术也涉及到该系统和方法的使用。本专利技术的系统可以使用如W002/42077中所描述的测量原理。
技术介绍
众所周知，不同的液体，如涂料，吸收不同的、具体的IR(红外线)辐射波段。这个认知用于辐射测量，该辐射测量使用了红外区中辐射波长的吸收。既然要分析射线通过所述膜时能量的变化，那么就要使用被测流体的主要或其他吸收波段。此测量的重要条件是接收流体的基板反射选定波长范围内的辐射的主要部分。因此，通过指导顶辐射朝向膜， 如基板上的涂层层，有可能确定该涂层层的厚度。如果接收涂层的基板有低反射，那么直接测量该基板上的涂层是困难的并且在某些情况下甚至是不可能的。另外，基板具有不平表面或者具有其它相当大差异的表面，也使得直接测量该基板上的涂层可能会有问题。
技术实现思路
鉴于上述情况，需要一种在不可能直接测量涂层层或直接测量涂层层有问题的情况下测量涂层层厚度的方法。因此，此方法可以称为间接测量涂层层厚度的方法。尽管目前首选波长在红外光谱的辐射测量，但是根据本专利技术的最广泛范围也可以使用其它传感器技术。这本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：马茨·本特马尔，列夫·克龙瓦尔，
申请(专利权)人：利乐拉瓦尔集团及财务有限公司，
类型：发明
国别省市：