【技术实现步骤摘要】
本技术涉及用于三维粒子成像测速仪(Piv)标定过程中的标定靶支撑调节机构。
技术介绍
传统的流速测量仪器，只能进行单点测量，而且是接触式测量，无法对整个区域内的流场进行无扰动测量。PIV技术(Particle Image Velocimetry，简称PIV)克服了以往流场测试中单点测量的局限性，是一种非常有发展前景的无扰动流场测量技术。粒子成像测速仪是通过测量示踪粒子的瞬时速度实现对流场的测量。利用PIV技术测量二维平面上的流速时，需要在测量的二维平面中均勻撒播跟随性、反光性良好且比重与流体相当的示踪粒子，使用摄像设备获取示踪粒子的运动图像。对示踪粒子的运动图像进行分析，就能够获得二维流场的流速分布。流场中某一示踪粒子在二维平面上运动，其在χ、y两个方向上的位移随时间的变化。当测量流体表面的流速时，可以在自然光照条件下进行试验；而对流体内部的二维流场或三维流场进行测量时，就必须使用辅助片光源照明，即通过激光器打出片光源照射到需要测定的截面上去。想要使片光源精确地停留在所需要测量的截面上是一项非常精细的工作，这使得校准片光源到被测截面的工作成为关键。相机标定的实质...
【技术保护点】
１．一种ＰＩＶ标定靶垂直支撑调节机构，其特征在于：所述垂直支撑调节机构包括螺纹调节杆、上支座、下支座和用以安装标定靶的孔板，所述螺纹调节杆穿过所述下支座的螺纹孔，且所述螺纹调节杆的一端与所述上支座固定连接，所述上支座可滑动地安装在下支座，所述孔板固定安装在上支座上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：董志勇，汪洁，张文广，陈圻圻，杨永刚，韩伟，郭志萍，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：实用新型
国别省市：86
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