粒子射线治疗装置及粒子射线治疗装置的调整方法制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于获得一种照射自由度较高、能够减小照射到正常组织的照射量的粒子射线治疗装置。包括：扫描电磁铁（２），该扫描电磁铁（２）对所提供的带电粒子束Ｂｅｃ进行扫描输出，使其整形为基于治疗计划的三维的照射形状；以及偏转电磁铁（４、５），该偏转电磁铁（４、５）切换所述带电粒子束Ｂｅｃ的轨道，以使得由扫描电磁铁（２）进行了扫描后输出的带电粒子束Ｂｅｃ经过从扫描电磁铁（２）到等中心Ｃ之间设定的多条轨道（７ａ、７ｂ、７ｃ）中的、所选择的一条轨道，而到达等中心Ｃ。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
电磁铁到等中心之间设定的多条射束轨道中的、所选择的一条射束轨道，而到达所述等中心。１．一种粒子射线治疗装置，包括：扫描电磁铁，该扫描电磁铁对所提供的带电粒子束进行扫描，使其整形为基于治疗计划的三维的照射形状；以及偏转电磁铁，该偏转电磁铁切换所述带电粒子束的轨道，以使得由所述扫描电磁铁进行了扫描后的带电粒子束经过从所述扫描

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：原田久，
申请(专利权)人：三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP