具有被膜的片材及其制造方法技术

技术编号:7165280 阅读:282 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供防止低聚物在膜表面析出的简易的方法。通过以1500mJ/cm2以上的曝光量对膜基材(11)照射紫外线,使膜基材(11)的至少一部分改性,而形成被膜(12),从而防止低聚物在膜基材(11)表面析出。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
关于聚酯膜,可以作为LCD构件的棱镜片材、透镜片材、扩散板、反射板、触摸面板等的基膜,防反射用或显示器防爆用的基膜等,已在各种光学用途中广泛使用。这些光学用途中为了获得明亮、清晰的图像,作为光学用膜使用的基膜,从其使用形式出发,透明性良好并且不存在对图像产生影响的异物、损伤等缺陷已变得必要。但是,近年来,随着其用途的多样化,膜的加工条件、使用条件多样化,对聚酯膜进行加热处理时,产生了作为该膜的非交联成分的称为低聚物的聚合物(环状三聚体)在膜表面析出的问题。低聚物在膜表面的析出严重的情况下,产生膜加工时低聚物在工序内附着污染,不能用于需要高度透明性的用途等各种问题。目前为止,作为防止低聚物在膜表面析出的方法,提出了各种方案。例如专利文献 1中公开了如下技术在电阻膜方式的透明触摸面板中,在与固定电极支承体对向配置、上面形成了硬涂层的可动电极膜的下面介由透明的收缩性树脂层形成可动电极。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开平7-13695号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题对于上述的以往手法,通过在可动电极膜的下面形成透明的收缩性树脂层,从而防止可动电极膜的非交联成分即低聚物向可动电极侧析出,成为白化状态而失去透明性, 外观和视认性恶化。再有,由于在可动电极膜的上面形成了硬涂层,因此通过该硬涂层防止低聚物从可动电极膜内部向可动电极膜的上面侧析出。但是,对于上述以往手法,为了形成收缩性树脂层,必须调合规定的涂料,将其涂布在可动电极膜的下面并干燥,如果需要照射紫外线等使其固化,担心工序增加,生产率变差。因此,希望开发能够提高生产率的技术。本专利技术要解决的课题在于,提供能够用简易的方法防止低聚物在膜表面析出的具有被膜的片材的制造方法和使用了该方法的具有被膜的片材。此外,其目的还在于提供包含该片材的层叠体和包含该层叠体的触摸面板。用于解决问题的手段本专利技术通过以下的解决手段解决上述课题。应予说明,以下的解决手段中,对表示本专利技术的实施方式的附图标注对应的符号进行说明,但该符号只是为了使本专利技术的理解变得容易,不意在限定本专利技术。本专利技术涉及的片材(10)的制造方法,是制造具有将膜基材(11)的至少一部分改性而成的被膜(12)的片材的方法,其特征在于,对膜基材(11)照射紫外线,形成被膜(12)。上述专利技术中,可以以1500mJ/cm2以上的曝光量照射紫外线。上述专利技术中,可以分多次照射紫外线。上述专利技术中,作为紫外线,可使用发光波长范围为200 450nm,在360 370nm处具有峰输出特性的光线。上述专利技术中,作为紫外线,可使用波长范围为200 450nm且在360 370nm处和 250 320nm处具有峰输出特性的光线。上述专利技术中,作为膜基材(11),可以使用透明聚酯膜。S卩,可通过对膜基材(11)照射紫外线,使膜基材(11)的至少一部分改性,形成被膜(12),从而能够防止低聚物的向膜基材(11)表面的析出。本专利技术涉及的片材(10),其特征在于,具有将膜基材(11)的至少一部分改性而成的被膜(12),被膜(12)通过对膜基材(11)照射紫外线而形成。上述专利技术中,被膜(12)可以使马氏硬度(Martens硬度)为200N/mm2以上,使压入弹性模量为4300MPa以下,使厚度为0. 1 μ m以上。上述专利技术中,马氏硬度和压入弹性模量的值可以在最大试验荷重为ImN的条件下测定。本专利技术涉及的层叠体00)在上述任一片材(10)的表面具有被赋予了各种功能的功能层(22,24).上述专利技术中,功能层(22、24)可包含例如在片材(10)的被膜(12)侧层叠的粘合层、在片材(10)的与被膜(1 相反的一侧层叠的硬涂层等。本专利技术涉及的触摸面板( 具有在第1透明基板(52 上形成有第1透明导电膜(524)的第1电极基板(52)、和以与第1透明导电膜(524)间隔规定的间隙而对向的方式在第2透明基板( 上形成有第2透明导电膜(544)的第2电极基板(54)。而且,第 1透明基板(52 和第2透明基板(542)中任一方的可动侧电极基板包含层叠体00)。专利技术的效果根据上述专利技术,通过对膜基材照射紫外线,使该膜基材的至少一部分改性,形成被膜。通过形成的被膜,防止低聚物从膜基材的内部析出。即,根据上述专利技术,与以往手法相比,不具有另外的涂料的调合、涂布及其他工序等使生产率恶化的要因,能够用简易的方法防止低聚物向膜表面的析出。附图说明图1为表示本实施方式涉及的片材的截面图。图2为表示具有图1的片材的层叠体的一例的截面图。图3为表示具有图1的片材的层叠体的另一例的截面图。图4为表示具有图2的层叠体的触摸面板的截面图。图5为紫外线照射前的膜a截面的SEM图像。图6为紫外线照射后(Ipass)的膜a截面的SEM图像。图7为紫外线照射后Opass)的膜a截面的SEM图像。图8为紫外线照射后(3paSS)的膜a截面的SEM图像。4图9为紫外线照射后(lOpass)的膜a截面的SEM图像。图10为紫外线照射后QOpass)的膜a截面的SEM图像。图11为紫外线照射前的膜b截面的SEM图像。图12为紫外线照射后(3paSS)的膜b截面的SEM图像。具体实施例方式以下基于附图对上述专利技术的一个实施方式进行说明。《片材》如图1所示,本实施方式涉及的片材10,具有例如透明聚酯膜等膜基材11。本实施方式中,将膜基材11表面的至少一部分改性,在其上形成了被膜12。该被膜12在本实施方式中具有防止低聚物从膜基材11的内部向膜基材11表面析出的功能。就本实施方式的被膜12而言,第一,对其表面硬度进行了适当调节。具体而言,将马氏硬度(HM)调节得比特定的值大,将压入弹性模量(EIT)调节得比特定的值小。马氏硬度(HM),表示由采用维氏压子压入被膜12的表面时的试验荷重与压入表面积求出的被膜12的硬度(凹陷难度),成为被膜12的表面的硬度的指标。本实施方式中,被膜12的HM的值,因膜基材的材质而异,因此不能一概而论,优选调节到200N/mm2以上,更优选调节到210N/mm2以上。本专利技术人等发现,通过将被膜12的HM调节到规定值以上,难以损伤,同时能够有效地防止低聚物从膜基材11的内部向外部析出。另一方面,如果考虑膜基材11劣化所引起的片材10的平面性,希望将被膜12的HM调节到优选350N/mm2 以下,更优选300N/mm2以下。应予说明,本实施方式中HM的值,是在温度20度和相对湿度60%的气氛下,采用超微小硬度试验装置(FISCHER测试仪器公司、商品名FISCHERSC0PE HM2000),采用根据 IS0-14577-1的方法对被膜12的表面的硬度进行测定的值。不过,是最大试验荷重lmN下测定的值。压入弹性模量(EIT)相当于杨氏模量,表示被膜12的挠曲容易度(柔软性),成为被膜12的脆性的指标。本实施方式中,将被膜12的EIT调节为优选4300MPa以下、更优选 4200MPa以下、进一步优选4100MPa以下。通过将被膜12的EIT调节为规定值以下,能够制成即使折曲也不产生开裂等的柔软性优异的片材10。另一方面,如果被膜12的EIT过小, 难以与上述的HM的适合范围兼顾,同时防低聚物析出性也倾向于下降。因此,希望将被膜 12的EIT调本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种片材的制造方法,是制造具有将膜基材的至少一部分改性而成的被膜的片材的方法,其特征在于,对所述膜基材照射紫外线,形成所述被膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:金京春
申请(专利权)人:木本股份有限公司
类型:发明
国别省市:JP

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