用于对多金属装置处理的含有葡糖酸的光致抗蚀剂清洗组合物制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种微电子光致抗蚀剂清洗组合物，其适合用于清洗多金属微电子装置，当存在运用水的后续冲洗步骤时，清洗不会产生实质性的或显著的电偶腐蚀。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
１．一种用于清洗多金属微电子装置的半水基、碱性清洗组合物，所述组合物由以下组成：（ａ）约１０％～约３５％的水；（ｂ）约５％～约１５％的至少一种烷醇胺；（ｃ）约１０％～约５０％的选自Ｎ－甲基吡咯烷酮或Ｎ－甲基吡咯烷酮与环丁砜混合物的溶剂；（ｄ）约２％～约１０％的葡糖酸或通过在水中的水解作用产生葡糖酸的化合物；（ｅ）约１％～约８％的至少一种式ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ２ＣＨ２ＯＨ代表的寡甘醇，其中，ｎ为１或大于１；和（ｆ）任选约１０％～约４０％的至少一种二甘醇单烷基醚，其中烷基含有１～４个碳原子；其中百分比为基于组合物总重量的重量百分比，且当烷醇胺的百分比等于或小于６％时，组合物中的Ｎ－甲基吡咯烷酮溶剂等于或大于２０％，且当烷醇胺的百分比等于或大于９％时，Ｎ－甲基吡咯烷酮的量可以等于或小于２０％。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：稻冈诚二，
申请(专利权)人：安万托特性材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US