阵列荧光均衡方法技术

技术编号:7151352 阅读:198 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种荧光强度均衡方法。所述方法包括:提供检测装置,所述检测装置具有至少一个结合到联以荧光标记物的分析物的分子探针固定阵列;提供干燥设备,所述干燥设备包括具有开口的第一及第二端的吸引管,所述吸引管的第二端连接到通过所述管提供真空的真空源;将所述吸引管的第一端设置到邻近所述至少一个分子探针固定阵列;以及通过所述吸引管提供真空,以将蒸汽从所述至少一个分子探针固定阵列清除。本发明专利技术申请通过减少信号淬灭因子提供了更可靠的荧光信号强度读取。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及检测点样和阵列荧光强度均衡方法,其通过在对检测点样阵列组件进行可控干燥期间诱导流体蒸汽的均勻清除来实现。
技术介绍
荧光光谱的优点在于测量和分析与荧光量子产率和/或荧光发光体的寿命有关的多种特性。发射的荧光强度是与发射体浓度、激发波长处的吸光系数(吸收率)和发射波长处的量子产率有关的方程。然而,时间分辨和稳态荧光淬灭是荧光强度测量存在显著差异的原因。强度波动的差异和不均勻性与荧光淬灭浓度成比例,其部分是由扩散中的瞬时效应以及荧光团与淬光剂相互作用的特性引起的。时间分辨频域和稳态数据的分析已经显示淬灭速率与发射体与荧光团-淬光剂的距离呈指数关系,这反映了电子迁移和交换的相互作用是很可能的淬灭机理。用于改进由检测点样和微阵列发射的定量荧光信号的检测技术已包含在通过改进检测硬件和修正荧光信号处理来改进检测方法中;举例说明,在由Tamura等人于2004 年提交、标题为 “Methods for displaying micro-array information690,461 号的美国专利中,使用了累积强度的计算机图像数据处理;;在由Caren等人于2004年提交、 标题为“Polynucleotide array fabrication",200420138号的美国专利中,检测干燥后的点样以示出由干燥引起的制造误差的结果;在Anderson等人提交的、标题为“Quality control and normalization methods for protein micro-arrays2006/0063197A1 号的美国专利中,通过比较基于染色校正的缓冲和印刷点样的量/浓度来比较化学发光反应;在由 Montagu 禾口 Webb 提交的、标题为"Reading of fluorescent arrays'\2006127946 号的美国专利中,比较阵列本身的强度校准特性;在由Mohammed和Dzidic提交的、标题为 "Microarray quality control2006058031号的国际申请中,通过检测二维荧光交叉点样样品对印刷点样进行成像,然后与印刷参考图像进行比较。起源于定量荧光检测的现有技术,基于信号能正确反映发射体浓度的假设,侧重于所述信号的最优化精确测量和信号分析前的修正。这种方法在由Ge等人于2007年提交的、标题为"A calibration slide for fluorescence detection instruments and process of preparationM774292号的欧洲专利申请中进行了阐述,该专利技术涉及荧光检测仪器的日常校准,包括微阵列扫描仪,荧光显微镜,荧光光谱和荧光多孔板读数校准。现有的用于改进点样和微阵列之间观测到的荧光强度定量的变异系数(% c. v.) 的技术,主要关注于通过改进荧光信号和图像处理来获得信号强度读数的改进。当使用普通来源的流体印刷时,需要一种方法来改善和设定具有相同成分的点样之间的荧光信号强度的定量均衡对比,并在类似的成分浓度下提供均勻的信号能级。因此需要这样一种方法,其对通过微阵列和点样进行控制下的干燥来诱导水合作用的均一态,以使流体的荧光信号淬灭效应和点样成分(例如微粒)的空间分布最小化,继而通过将信号淬灭流体蒸汽从潮湿阵列和点样内部及其附近以受控和被包含的形式清除,以能够进行相当的定量信号分析。期望提供这样一种流体清除方法,其使用一种新颖的、简单的实施方法清除蒸汽。还需要提供对检测点样信号的均衡,其将淬灭组分减少到一个能够允许使用短的干燥时间提高生物阵列数据的对比分析的相对浓度。需要提供这样一种方法使源荧光量中的任何不均勻性随机化,产生用于检测点样的更均勻照明信号定量。还需要提供这样一种方法使各自相异且扩散的淬灭源最少化,提供接近每个检测点样的相当的荧光信号强度以计算差异系数(cv),使用认可的参考标准来测量和确认该强度。
技术实现思路
本专利技术是一种荧光强度均衡方法,优选通过将淬灭组分减少到能够提高检测数据对比分析的相对浓度。所述方法包括干燥检测装置,以清除结合到联以荧光标记物的分析物的至少一个分子探针固定阵列附近的蒸汽。根据本专利技术的一个方面,提供了一种荧光强度均衡的方法,包括以下步骤提供检测装置,所述检测装置具有至少一个结合到联以荧光标记物的分析物的分子探针固定阵列;提供干燥设备,所述干燥设备包括具有开口的第一及第二端的吸引管,所述吸引管的第二端连接到真空源,以通过所述管提供真空;将所述吸引管的第一端设置到所述至少一个分子探针固定阵列附近;以及通过所述吸引管提供真空,所述真空用于将蒸汽从所述至少一个分子探针固定阵列清除。附图说明通过下面对附图中示出的本专利技术优选实施方式的具体描述,本专利技术与上述和其他目的及优点将被很好地理解,其中图1为本专利技术干燥设备的优选实施方式的透视图;图2为与本专利技术结合使用的检测装置的顶部立视图;图3为在不同温度下进行干燥时,干燥时间与相对湿度的对比曲线图;图4为示出了在将由真空诱导的连续气流调节到超过3. Omm距离和4. Omm距离的点样高度时,在4分钟内IgA,IgG及IgM的免疫球蛋白点的点样差异系数(% cv)的柱状图。具体实施例方式如图1所示,干燥设备1具有框架2。框架2可连接到使框架沿XYZ平面的三个维度移动的致动器(未显示)。致动器作为移动装置可以是本领域中公知的多种致动器中的一种。优选致动器为美国伯腾(BioTek)仪器有限公司的Elx405型微型板清洗机。干燥设备包括附接到框架2的壳4。多个吸引管10设置在壳内。在可替换的实施方式中,干燥机可具有少到只有1个的管。每个管10限定一长度,并且沿第一开口端6和第二开口端8之间的长度限定一纵向孔12。如图3所示,所述纵向孔12优选为锥形,其中所述第一开口端6具有比所述第二开口端8更大的直径。吸引管10的长度可以改变。在优选实施方式中,所述长度足以保持约18的高宽比,所述高宽比由基于3. 5度倾斜角的约为1.7的开口直径高宽比获得。邻近于基板的第一开口端6处的吸引管10的壁厚优选为约400 μ m。第一开口端6的直径为约5mm。第二开口端6具有约2mm的直径,其为优选直径,以允许稳定的气流通过所有吸引管10流入到真空头部,所述头部通过设定跨越基板表面区域的流动通路来调整,该表面区域由包含可清除的流体负载检测装置的周长和壁高比所限定。干燥设备1包括向每个吸引管的第二开口端8提供真空的装置。用于提供真空的装置可以是本领域中公知的各种这类装置中的一种。在优选实施方式中,真空装置是美国 VacuuBrand 公司的 ME 4C NT Vario 型真空泵。优选地,优选实施方式中的干燥设备1用于干燥检测装置,特别是如图4中所示的检测装置50的类型。检测装置50具有多个凹孔52。每个所述凹孔52由交叉的壁M分隔;在板上提供有效的上部构造,从而形成单个的凹孔或者分离的多个凹孔。由于每个凹陷部分可具有以例如蛋白质点微阵列格式形式印制在板上的试样,因此多个凹陷部分具有容许在同一板上处理多个物体的额外优势。基于对由特别地与分子探针固定阵列发生反应的被标记目标分子处获取的荧光信号的检测,分析来自被印刷在检测装置上的微阵列的数据本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种荧光强度均衡方法,包括下述步骤:提供检测装置,所述检测装置具有至少一个结合到联以荧光标记物的分析物的分子探针固定阵列;提供干燥设备,所述干燥设备包括具有开口的第一及第二端的吸引管,所述吸引管的第二端连接到通过所述管提供真空的真空源;将所述吸引管的第一端设置到邻近所述至少一个分子探针固定阵列;以及通过所述吸引管提供真空,以将蒸汽从所述至少一个分子探针固定阵列清除。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:彼得·李
申请(专利权)人:SQI诊断系统有限责任公司
类型:发明
国别省市:CA

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