【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于成像基底上的特征的方法和装置，并且特别涉及一种用于成 像微阵列上的斑点(spot)的方法和装置。
技术介绍
在各种技术应用中，基底上的特征的成像以及分析是一项重要的任务。例如，在生 物化学分析中，根据预定义的图案(pattern)在基底上应用载体物质的小斑点是一种常见 技术。随后，少量的不同细胞(cell)材料被添加到载体物质的斑点，并且通过在某些时间 段之后得到基底上的斑点的图像且通过分析该图像内的特征来监视不同斑点随着时间的 细胞生长。可以通过根据预定义的图案将特征布置在基底上来制造这些特征的成像。通 常，使用专用扫描仪硬件来执行扫描，并且在制备基底期间仅在被登记到注释文件 (annotation file)中的斑点的预定义已知位置处扫描基底。这种常用技术在若干方面都 受到限制。根据基底上的特征的数量，整个基底的扫描需要大量的单次扫描，包括扫描装置 执行对应的大量重复且非常精确的机械移位(displacement)以将基底移动到扫描仪或者 与基底相关的扫描仪的前面。在生物化学应用中，基底可以包含单个基底上的多于3888个 特征，这需要相...
【技术保护点】
１．一种用于成像基底上的特征（２０）的方法，包括：－扫描基底并产生其图像（２１）；－在图像（２１）上覆盖网格模型（２０３）；－使网格模型（２０４）与至少一些特征（２０）在图像（２１）上的位置适配；以及－提取特征（２０）的图像。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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