制备配体官能化基底的方法技术

技术编号:7137840 阅读:196 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了配体官能化基底、制备配体官能化基底的方法以及使用官能化基底的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及配体官能化基底以及用于制备该基底的方法。该官能化基底可用于从 生物样品中选择性结合和除去生物材料,例如病毒。
技术介绍
靶标生物材料,例如病毒和生物大分子(包括活细胞的组分或产物,例如蛋白质、 碳水化合物、脂质和核酸)的检测、定量、分离和纯化一直以来都是研究人员的目标。从诊 断上来讲,检测和定量是重要的,例如,作为各种生理状况(例如疾病)的指示。对于治疗 和在生物医学研究中,生物大分子的分离和纯化是重要的。生物大分子例如酶(其为特殊 的一类能催化化学反应的蛋白质)找工业上也是有用的;已对酶进行了分离、纯化,然后用 于制备甜味剂、抗生素和多种有机化合物(例如乙醇、乙酸、赖氨酸、天冬氨酸和生物有用 的产品,例如抗体和类固醇)。在其体内天然状态下,这些生物大分子的结构和相应的生物活性一般来讲保持在 相当窄的PH和离子强度范围内。因此,任何分离和纯化操作必须考虑这些因素以便所得的 处理后的生物大分子具有效力。根据溶质在流动相(其可以是气体或液体)和固定相之间的交换,可对生物产物 混合物进行色谱分离和纯化操作。溶液混合物中各种溶质实现分离,是由于改变了各溶质 与固定相的结合相互作用;当受到流动相的离解和置换作用时,与相互作用不太强的溶质 相比,较强的结合相互作用一般导致保留时间较长,从而可以实现分离和纯化。大多数当前的捕获或纯化色谱法是通过常规的柱色谱技术实现的。这些技术在下 游纯化中具有严重的瓶颈问题,因为使用这种技术的通过量比较低。缓解这些问题的尝试 包括增加色谱柱的直径,但这继而由于有效且可重复性装柱的困难而面临挑战。较大的色 谱柱直径还会增加难以解决的沟流发生率。另外,在常规的色谱柱中,当检测到所需要产物 的漏过量高于某一水平时,所述吸收操作会被停止。这会引起吸附介质的动态吸附或有效 吸附容量将显著小于总吸附或静态吸附容量。鉴于一些色谱树脂成本较高,这种有效性的 缩减会导致严重的经济后果。聚合物树脂被广泛用于各种目标化合物的分离和纯化。例如,可根据离子基团的 存在、根据靶标化合物的大小、根据疏水相互作用、根据亲和相互作用或根据共价键的形成 而将聚合物树脂用于纯化或分离靶标化合物。在本领域中,需要对病毒具有增强亲和力的 聚合物基底,以使得能从生物样品选择性除去病毒。在本领域中还需要配体官能化膜,该膜 可克服扩散和结合的限制,并且可以在高通过量和较低压降下操作。
技术实现思路
本专利技术涉及配体官能化基底(优选多孔基底)和制备该基底的方法。更具体地 讲,该官能化基底包括基础基底(优选多孔基础基底),其已被改性以提供具有结合中性或 带负电的生物材料(例如病毒)的必要亲和力的接枝配体基团。可将该配体官能化基底描述为基底与下式I配体单体的接枝反应产物本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种制造配体官能化基底的方法,所述方法包括以下步骤:  1)提供基础基底;  2)用溶液涂覆所述基底,所述溶液包含(a)至少一种具有丙烯酰基团和光引发剂基团的接枝单体;(b)一种或多种由下式表示的配体单体:  ***  其中  R↑[1]为H或C↓[1]-C↓[4]烷基,  R↑[2]为二价亚烷基,其可任选地含有酯、酰胺、氨基甲酸酯或脲连接基团;  各R↑[3]独立地为H或C↓[1]-C↓[4]烷基,  R↑[4]为H、C↓[1]-C↓[4]烷基或-N(R↑[3])↓[2];以及  X↑[1]为-O-或-NR↑[3]-,(c)可任选地,一种或多种具有至少一个丙烯酰基团和至少一个另外的烯键式不饱和的可自由基聚合基团的单体;以及(d)可任选地,一种或多种亲水性单体;  3)使所述带涂层的基础基底暴露于电离辐射,以形成第一官能化基底,所述第一官能化基底包含接枝的光引发剂基团,该接枝的光引发剂基团附接至所述基础基底的表面,以及  4)使包含接枝的光引发剂基团的所述基础基底暴露于紫外线辐射中,以使剩余的烯键式不饱和的可自由基聚合基团交联。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US61/057,5172008年5月30日1.一种制造配体官能化基底的方法,所述方法包括以下步骤1)提供基础基底;2)用溶液涂覆所述基底,所述溶液包含(a)至少一种具有丙烯酰基团和光引发剂基团 的接枝单体;(b) 一种或多种由下式表示的配体单体2.根据权利要求1所述的方法,其中所述基底是具有间隙表面和外表面的多孔基底。3.根据权利要求2所述的方法,其中所述接触步骤包括使所述多孔基础基底吸收所述 溶液。4.根据权利要求1所述的方法,其中所述电离辐射是Y或电子束辐射。5.根据权利要求1所述的方法,包括以下步骤1)提供基础基底;2)用第一溶液涂覆所述基础基底,所述第一溶液包含(a)至少一种具有丙烯酰基团 和光引发剂基团的接枝单体;(b)可任选地,一种或多种配体单体;(c)可任选地,一种或多 种具有至少一个丙烯酰基团和至少一个另外的烯键式不饱和的可自由基聚合基团的单体; 以及(d)可任选地,一种或多种亲水性单体;3)使所述带涂层的基础基底暴露于电离辐射,以形成第一官能化基底,所述第一官能 化基底包括具有接枝的光引发剂基团的所述基础基底,该接枝的光引发剂基团附接到所述 基础基底的表面;4)用第二溶液涂覆具有接枝的光引发剂基团的所述基础基底,所述第二溶液包含 (b) 一种或多种所述配体单体;(c)可任选地,一种或多种具有至少一个丙烯酸酯基团和至 少一个另外的烯键式不饱和的可自由基聚合基团的单体;以及(d)可任选地,一种或多种 亲水性单体;5)使所述包含接枝的光引发剂基团的基础基底暴露于紫外线辐射中,以使剩余的烯键 式不饱和的可自由基聚合基团聚合。6.根据权利要求5所述的方法,其中所述基底是具有间隙表面和外表面的多孔基底。7.根据权利要求6所述的方法,其中所述接触步骤包括使所述多孔基础基底吸收所述 溶液。8.根据权利要求1所述的方法,其中所述具有两个或更多个可自由基聚合基团的单体 (c)包含用于接枝到所述多孔基础基底上的第一丙烯酰基团以及用于随后的紫外线聚合的 第二甲基丙烯酰基团。9.根据权利要求6所述的方法,其中所述单体c)由下...

【专利技术属性】
技术研发人员:凯瑟琳·A·博托夫
申请(专利权)人:三M创新有限公司
类型:发明
国别省市:US

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