【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种使用气体团簇离子束(GCIB) 来辐射衬底的具有多喷嘴的系统， 以及一种使用此多喷嘴GCIB系统来辐射衬底以在衬底上掺杂、生长、沉积、或改性层的方法。
技术介绍
气体团簇离子束(GCIB)用于在衬底上掺杂、蚀刻、清洁、平滑、以及生长或沉积层。为了此讨论的目的，气体团簇是在标准温度与压力条件下为气态的材料的纳米尺寸的聚集体。此种气体团簇可由包括数个到数千个或更多的分子的聚集体所组成，这些聚集体松散地结合在一起。气体团簇通过电子轰击而离子化，此允许气体团簇形成可控制能量的引导束。此种团簇离子的每一个通常携带正电荷，该正电荷由电荷的数值与表示团簇离子的电荷状态的大于或等于一的整数的乘积给定。较大尺寸的团簇离子通常最为有用，因为其每个团簇离子携带大量能量的能力，而每个单独分子仅具有适度能量。离子团簇在与衬底撞击时产生崩解。特定崩解的离子团簇中的每一个单独分子仅携带总团簇能量的一小部分。因此，大离子团簇的撞击效果是显著的，但受限于极浅的表面区域。这使气体团簇离子对多种表面修改处理是有效的，但不具有产生较深的次表面损伤的倾向，该倾向是常规离子束处理的特征。...
【技术保护点】
１．一种用于气体团簇离子束（ＧＣＩＢ）系统的喷嘴和分离器组件，其包括：气体分离器，至少两个喷嘴的组，其用于形成和喷射气体团簇束，所述至少两个喷嘴的组被设置成相互紧靠，从而将从所述至少两个喷嘴的组喷射出的气体团簇束至少部分地合并成单一气体团簇束，并将所述单一气体团簇束引导到所述气体分离器中，第一气体供应器，其与第一喷嘴子组流体连通，所述第一喷嘴子组包括所述至少两个喷嘴的组中的至少一个喷嘴，第二气体供应器，其与第二喷嘴子组流体连通，所述第二喷嘴子组不同于所述第一喷嘴子组，且包括所述至少两个喷嘴的组中的至少一个喷嘴，其中所述第一气体供应器被配置成供应第一气体混合物，所述第二气体供...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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