【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及离子真空镀膜方法。
技术介绍
离子真空镀膜方法与装置--------采用磁控柱状弧源多弧离子镀膜，其装置是在镀膜室中央安装旋磁控柱状弧源(管状)。由镀膜室、工件转架、磁控柱状弧源、进气(镀不同材料时需要通入不同的工作气体)系统、弧源电源、工件加热源、引弧系统、真空系统、工件偏压电源组成。柱弧源由管状金属材料作靶材、管内安装数根条形永磁体，永磁体在靶管内(包括旋转和往返运动)运动。弧斑呈线状沿柱弧靶全长分布，并沿柱弧靶面扫描。从而提供在高真空条件下的将弧源由管状金属材料的靶材和气体材料以离子方式镀膜至工件上。如CN96218605. 8提出一种旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机，在镀膜室中央安装旋转磁控柱状弧源。主要由镀膜室、工件转架、旋转磁控柱状弧源、进气系统、弧源电源、 烘烤加热源、引弧针系统、真空系统、工件偏压电源组成。柱弧源由管状金属材料作靶材、管内安装数根条形永磁体，永磁体在靶管内作旋转运动。弧斑呈线状沿柱弧靶全长分布，并沿柱弧靶面扫描。旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机有立式结构、卧式结构、箱式结构。现有公开的镀钛方法产生的多弧离子粒子粗，有雾...
【技术保护点】
１．一种离子真空镀钛组合物的方法，其特征是靶材为钛材，靶材的两端均施加独立工作的弧源电源，每个弧源电源分别进行电压高低或弧源电流大小的控制，即弧源电源电压高低或弧源电流大小的的变化分别施加于靶材的两端，根据两端施加的弧源电源电压的高低或弧源电源电流大小的控制，离子引弧能够均匀或任意方式移动，控制靶材每处引弧的离子量。
【技术特征摘要】
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