一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法技术

本发明专利技术公开一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法，涉及集成电路技术领域。本方法根据输入的集成电路物理版图数据，对物理版图按计算节点进行区域划分，对不同计算节点内的区域进行同构分析，确定各计算节点内及相互之间的相同区域分析顺序，按顺序对物理版图区域进行分析和优化，在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。本发明专利技术利用多级区域分割算法对物理版图进行划分，利用同构分析方法对划分后区域进行分析，找出其中相同的区域，让时间顺序上在后的要分析和优化的区域，不用再进行计算，而是直接复用与其完全相同的在先区域计算结果，从而节约时间，提高速度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及集成电路领域，具体涉及一种基于区域分割和区域同构以加速集成电路物理版图分析和优化的方法。
技术介绍
在系统级芯片集成电路设计中，物理版图数据容量从几个GB到几百个GB不等，如此海量的内容，分析和优化(如面向制造的设计、寄生参数提取等)需要耗费大量的时间。现有的海量物理版图的分析和优化一般采用简单的区域分割方法，如图1所示， 先接收集成电路物理版图数据；再对物理版图进行区域划分；将不同的区域交给不同的计算节点；由各计算节点对分配的区域进行分析和优化；然后输出集成电路物理版图分析结果。但是，此方法仅是简单地使用了现在的并行计算技术，并没有针对物理版图本身的特点进行优化，还是需要花费大量时间。如何加快海量物理版图数据的处理过程，最大限度地提高分析和优化海量物理版图数据的速度，就需要建立一种更有效的分析和优化方法。
技术实现思路
为解决现有技术中集成电路物理版图数据处理速度慢、耗时长的问题，本专利技术提供一种针对集成电路物理版图设计的、基于计算机辅助的，利用区域划分、区域同构以及计算复用来提高集成电路物理版图分析和优化速度的方法，包括步骤1 输入集成电路物理版图数据；步骤2 对物理版图进行区域划分；步骤3 将不同的区域交给不同的计算节点；步骤4 各计算节点对分配的区域进行分析和优化；步骤5 输出集成电路物理版图分析结果；所述步骤4具体包括步骤41 对计算节点内的区域再进行多级划分得到更小的区域；步骤42 分别对各计算节点内的区域进行同构分析，确定相同的区域；步骤43 对各计算节点之间的区域进行同构分析，确定相同的区域；步骤44 根据同构步骤42、步骤43的分析结果，确定各计算节点内及相互之间的区域分析顺序；步骤45 按顺序对区域进行分析和优化，在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。本专利技术的另一优选方式所述步骤42、步骤43中同构分析方法如下(1)从未被同构的区域中选定一个计算节点的区域为基本区域，对所述基本区域的一个顶角进行旋转和/或以χ/γ轴做镜像操作，产生多个选定角度状态下的变体图形区域；(2)对各个变体图形区域进行编码，得到变体之后各自的编码值CODEA ；4(3)将用来对比的一个计算节点的区域作为待同构分析的比较区域，对所述比较区域进行编码；(4)把基本区域的变体图形区域的编码值CODEA和比较区域的编码值分别进行比较；(5)若基本区域的任一变体的编码值和比较区域编码值相同，则该两区域为同构的区域，否则该两区域为异构的区域。本专利技术的另一优选方式所述步骤(1)具体包括所述顶角为基本区域最小外接矩形的左下角点，镜像时以最小外接矩形的底边或左边为镜像轴，旋转和/或镜像之后，将最小外接矩形的左下角移植到原基本区域最小外接矩形的左下角点的坐标处，产生这些状态下的八个变体图形区域。本专利技术的另一优选方式所述编码的方法如下(1)选择最靠左侧的图形在其左侧作Y轴的平行线，选择最靠底边的图形在其下侧作平行于Y轴的平行线，以这两条线的交点作为参考点；(2)以固定的间距从参考点处开始，将覆盖待编码的区域内的所有图形的区域在 Y轴方向分为若干个区域带，沿着Y轴方向分别处理这些区域带；(3)在每一区域带内沿X轴方向逆时针扫描，以确定新的未编码的图形；对未编码的图形按如下规则进行编码选择该图形最低的点作为起始点；若同时存在若干个Y值相同的最低点，则选择其中X值最小的点作为起始点；从起始点开始按逆时针遍历图形的顶点得到该图形的顶点坐标值序列；对这些顶点坐标值序列的顶点坐标值以参考点作平移变换，以替换顶点序列中的坐标值从而得到新的顶点坐标值序列，以此作为该图形在区域内的编码值，同时对处理过的图形作标识；(4)以每个计算节点处理区域内图形的顺序，对每一图形的顶点坐标值序列进行排序，从而得到区域的编码值。本专利技术利用多级区域分割算法对物理版图进行划分，考虑到海量物理版图上局部区域之间有完全相同的区域，它们的分析和优化过程及结果也应该完全相同。因此利用同构分析方法对划分后的图形区域进行相互分析，找出其中相同的区域，编制整个物理版图的计算顺序，使时间顺序上在后分析和优化的相同区域，不用再进行计算，而是直接复用与其完全相同的再先相同区域的计算结果，从而节约时间，提高速度。本方案不但可以在各计算节点内进行同构分析，还可以在各计算节点之间同构分析，使各计算节点的同构信息共享，并支持所有计算结果的复用。本技术方案可有效地、多层次地缩小计算规模和计算结果，利用复用方法大大加快了海量物理版图的分析和优化速度。附图说明图1是现有技术中物理版图的分析和优化处理方法流程图；图2是本专利技术实施例中物理版图的分析和优化处理方法流程图；图3是本专利技术实施例中的编码方法流程图；图4是本专利技术图3中步骤3的细化流程图；图5是本专利技术实施例中同构分析方法的基本区域示意图；图6是本专利技术实施例中同构分析方法的比较区域示意图7是本专利技术实施例中同构分析方法的基本区域的8个等效变体示意图。 具体实施例方式下面结合附图和实施例，对本专利技术技术方案作进一步描述。本专利技术利用多级区域分割算法对物理版图进行划分，以区域同构算法对计算结果进行复用，多层次地缩小计算规模和计算结果复用大大加快了海量物理版图的分析和优化速度。参见图2，本专利技术实施例的集成电路物理版图分析和优化的方法如下步骤201 输入集成电路物理版图数据；即将需要分析和处理的物理版图数据输入计算机。步骤202 对物理版图进行区域划分；划分是利用多级区域分割算法。步骤203 将不同的区域交给不同的计算节点；由单独的计算节点负责一个独立的划分区域。步骤204 各计算节点对分配的区域进行分析和优化；其中的分析包括首先对区域进行同构分析对计算节点内的区域再进行多级划分得到更小的区域；即对每个计算节点内的区域再进行多级划分以得到符合同构分析标准的最小区域。步骤205 分别对各计算节点内的区域进行同构分析，确定相同的区域；利用同构分析确定每个计算节点内的区域是否存在相同区域。步骤206 对各计算节点之间的区域进行同构分析，确定相同的区域；也就是对划分的不同计算节点之间的区域进行横向同构分析，进一步找出相同的区域。步骤207 根据上述计算节点内和计算节点之间的区域同构分析结果，确定各计算节点内及相互之间的区域分析顺序；即确定计算节点内及相互之间各个同构区域位置， 并确定一个分析顺序，顺序的排列需要保证不同计算节点之间，不会同时进行两个相同区域的计算，并记录相同区域各区域先后计算的顺序；步骤208 按顺序对物理版图进行分析和优化，在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果；即按照上步的分析顺序开始对整个物理版图进行分析，在分析的过程中，顺序在前的某个计算节点已经计算过相同区域中的一个区域，则顺序再后的计算节点在计算相同区域的另一个区域时，只需要调用在先计算节点已经计算过的相同区域结果即可，这种复用的方式大大加快了整个物理版图的计算过程。步骤209 最后输出集成电路物理版图分析结果。本方法中对两个区域进行同构分析的方法如下(1)从未被同构的区域中选定一个计算节点的区域为基本区域，对所述基本区域的一个顶角进行旋转和/或以χ/γ轴做镜像操作，产生多个选定角度状态下的变体图形区域；所说的顶角为基本区域最小外接矩形本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法，包括：步骤１：输入集成电路物理版图数据；步骤２：对物理版图进行区域划分；步骤３：将不同的区域交给不同的计算节点；步骤４：各计算节点对分配的区域进行分析和优化；步骤５：输出集成电路物理版图分析结果；其特征在于，所述步骤４具体包括：步骤４１：对计算节点内的区域再进行多级划分得到更小的区域；步骤４２：分别对各计算节点内的区域进行同构分析，确定相同的区域；步骤４３：对各计算节点之间的区域进行同构分析，确定相同的区域；步骤４４：根据同构步骤４２、步骤４３的分析结果，确定各计算节点内及相互之间的区域分析顺序；步骤４５：按顺序对区域进行分析和优化，在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴玉平，陈岚，叶甜春，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：11