【技术实现步骤摘要】
一种用于补偿照明系统，特别是光刻相关的照明系统光瞳均勻性的补偿装置。
技术介绍
光学投影光刻是利用光学投影成像的原理，将掩膜上的集成电路(IC)图形以分步重复或步进扫描曝光的方式将高分辨率的图形转移到涂胶硅片上。随着IC集成度的不断提高，需要转移的图形线条尺寸也越来越细，这就对光刻性能提出了越来越高的要求。光刻照明系统是光学投影光刻机的核心部分之一，光源发出的光束经过照明系统后照射掩膜。对于高分辨率的掩膜，照明系统不仅需要提供高度均勻性的照明光场，而且对场平面内的照明角分布均勻性也有很高的要求，这就要求照明系统出射光瞳面上的光强分布均勻。图Ia至图Id为遮光元件局部遮挡效应的示意图。对于具有一定数值孔径的照明光束1而言，当遮光元件2伸入到照明光束1中，就会在其后的参考面3上产生该遮光元件 2的阴影。由于遮光元件2的挡光作用，阴影处的光强较之无阴影处的光强会有一定的削弱效果。图Ia和图Ib分别示意了遮光元件2到参考面3的距离不同时，遮光元件2在参考面3上形成的局部遮挡效应。其中L和L’均表示遮光元件2到参考面3的距离。D和D’ 均表示遮光元件2在参考面3上形成的...
【技术保护点】
１．一种光瞳均匀性补偿装置，其特征在于，包括侧壁和多个补偿单元，每个补偿单元包括第一驱动器、第一驱动机构、第一遮光组件和第二遮光组件；其中：在侧壁上设置有多个导轨槽；多个补偿单元沿着侧壁外侧均匀分布，且第一遮光组件位于第一驱动器和第二遮光组件之间，第一遮光组件和第二遮光组件的另一端穿过导轨槽并伸入照明系统的照明光束外延中，补偿单元中的第一遮光组件和第二遮光组件在第一驱动器和第一驱动机构的驱动下，沿着导轨槽方向即光轴方向独立运动，改变第一遮光组件和第二遮光组件与光瞳共轭面之间的距离。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：甘大春，张海波，邢廷文，林妩媚，刘学峰，廖志杰，何毅，卢亮，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：90
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