真空蒸馏塔中具有缓冲功能的低塔阻分布器制造技术

一种真空蒸馏塔中具有缓冲功能的低塔阻分布器，其特征在于，分布器为高环形，附贴安装在塔壁内侧；其上端开口，下端有底板，内外壁间形成一个上大下小的环形空间储液的空腔；该空腔处的塔壁上设有物料进口；内壁的上口是塔内气流的通道，上口的直径为塔内径的８０～９０％；分布器内壁和底板上有按工艺要求设计的不同大小、不同长短、不同方向和一定分布规律的孔或喷嘴，使不同流量时喷淋液能均匀地喷洒到塔内各点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种化工物料真空蒸馏塔的器件，具体是涉及一种应用于真空蒸 馏塔的喷淋液分布器，或称喷淋器。
技术介绍
化工物料的真空蒸馏塔由于压力较低，对塔体上下的压力差非常敏感。如果 塔内气体流动的阻力大，使蒸馏塔顶部和底部压差偏大，往往是塔釜温度偏高， 釜液过热变质的主要原因之一。另外，化工物料的真空蒸馏塔由于直径较大，因此对其内部的精馏填料的均 匀喷淋要求就更高。这一均匀的含义不但是指空间上的均匀，而且也指时间上的 均匀，即要求喷淋液体的流量稳定而且不间断。目前， 一般用于喷淋的喷淋液分布器往往设计成树枝状，这将占居蒸馏塔中 过多的截面积，从而增加塔内气体流动的阻力，使蒸馏塔操作指标变坏。而且， 这类分布器的喷淋液在整个塔的截面积上的分布也不容易均匀。此外，由于精馏塔上喷淋的液体物料往往是由活柱泵、隔膜泵、活塞泵等往 复性、周期性的泵注入，或是前置精馏塔的塔釜通过液位调节阀排放而来，因 此，进入液体分布器的物料流量常常是间歇性或不稳定甚至是间断的。目前通用 的液体分布器还无法解决喷淋物料流量不稳定的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种可应用于真空蒸馏塔的 低塔阻、分布均匀且具有流量缓冲功能的的喷淋液分布器(或称喷淋器)。本专利技术中的真空蒸馏塔中具有缓冲功能的低塔阻分布器，为高环形，附贴安装在塔壁内侧；其上端开口，下端有底板，内外壁间形成一个上大下小的环形空 间储液的空腔；该空腔处的塔壁上设有物料进口；内壁的上口是塔内气流的通 道，上口的直径为塔内径的80 90%;分布器内壁和底板上有按工艺要求设计 的不同大小、不同长短、不同方向和一定分布规律的孔或喷嘴，使不同流量时喷 淋液能均匀地喷洒到塔内各点。分布器的高度是真空蒸馏塔内径的0. 5 2倍。该分布器具有较大的容积和高度；当采用周期性排液的泵，例如活柱泵、隔 膜泵、活塞泵等向塔注入物料，或者是前置精馏塔塔釜间歇性或不稳定排液时， 进入分布器中的液体可以在分布器中滞留而流量得到缓冲，使喷淋液流量稳定和 不间断。本专利技术的分布器(参考附图)，具有较大的高度，附贴在蒸馏塔壁内，其外 壁即塔壁，内壁是上小下大的锥台面，内壁的上口是塔内气流的通道，上口的直 径可以设计为塔内径的80 90%，因此气流阻力较小；内外壁间形成上大下小 的环形空间，其上端开口，下端有底板。分布器的内外壁和底板之间构成一个储 液的空腔，该空腔处的塔壁上设有物料进口。分布器的内壁和底板上开有喷淋液孔，内壁的孔上安装有喷嘴，细管状的喷 嘴从上至下逐层环状分布于内壁上。喷嘴的长度按一定规律设计，使分布器在不 同液面高度时都能均匀喷淋到塔的整个面积；喷嘴焊接或螺接于分布器的内壁 上，喷嘴具有向下弯曲的末端。与现有技术相比，本专利技术的有益效果本专利技术的分布器设计成高环形，附贴安装在塔壁内侧，使得塔内气流通道仍 保留着较大的截面积，上升气体流动通畅，阻力较低；分布器的储液空腔具有较 大的容积，可以容纳更多的液体以缓冲流量的变化，使喷淋液流量稳定和不间 断。分布器在不同高度分布了按预定设计的不同长度的喷嘴，使得喷淋液在不同 流量时都能均匀地喷到塔内各点。附图说明图l是本实施例中分布器安装示意图； 图2是本实施例中喷嘴安装示意图；具体实施方式参考附图，下面进行详细描述本实施例中的分布器(见图l)，包括一个上口比下口小、呈圆锥台面状的 内壁，内壁的上口直径等于塔径的90%左右；分布器内外壁和底板之间构成一 个储液的内腔，上端不封口，内腔处的外壁上设有物料进口；底板上有一系列喷 淋孔喷洒物料；若干喷嘴从上至下逐层环状分布于内壁上，喷嘴的长度按一定规 律分布，使物料在不同流量，即内腔中的液位不同时，均能均匀喷洒到塔的截面 上；喷嘴具有向下弯曲的末端。本专利技术中分布器内壁还可以是上口与下口大小相同，呈圆柱状。 本实施例中，喷嘴是螺接于内壁上的(见图2)，拆卸方便，易于更换。也 可以采用焊接的固定方式。最后，还需要指出的是，以上列举的仅是本专利技术的具体实施例。显然，本发 明不限于以上实施例，还可以有许多变形。本领域的普通技术人员能从本专利技术公 开的内容直接导出或联想到的所有变形，均应认为是本专利技术的保护范围。权利要求1、一种真空蒸馏塔中具有缓冲功能的低塔阻分布器，其特征在于，分布器为高环形，附贴安装在塔壁内侧；其上端开口，下端有底板，内外壁间形成一个上大下小的环形空间储液的空腔；该空腔处的塔壁上设有物料进口；内壁的上口是塔内气流的通道，上口的直径为塔内径的80～90％；分布器内壁和底板上有按工艺要求设计的不同大小、不同长短、不同方向和一定分布规律的孔或喷嘴，使不同流量时喷淋液能均匀地喷洒到塔内各点。2、 根据权利要求1所述的具有缓冲功能的低塔阻分布器，其特征在于， 分布器的高度是真空蒸馏塔内径的0.5-2倍。全文摘要本专利技术涉及一种化工物料真空蒸馏塔的器件，旨在提供一种应用于真空蒸馏塔的喷淋液分布器或称喷淋器。本专利技术中低塔阻分布器为高环形，附贴安装在塔壁内侧；其上端开口，下端有底板，内外壁间形成一个上大下小的环形空间储液的空腔；该空腔处的塔壁上设有物料进口；内壁的上口是塔内气流的通道，上口的直径为塔内径的80～90％；分布器内壁和底板上有按工艺要求设计的不同大小、不同长短、不同方向和一定分布规律的孔或喷嘴。本专利技术的分布器使得塔内气流通道仍保留着较大的截面积，上升气体流动通畅，阻力较低，可以容纳更多的液体以缓冲流量的变化，使喷淋液流量稳定和不间断，喷嘴设计使得喷淋液在不同流量时都能均匀地喷到塔内各点。文档编号B01D3/10GK101219287SQ200710071489公开日2008年7月16日 申请日期2007年9月29日 优先权日2007年9月29日专利技术者吴兆立 申请人:吴兆立本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空蒸馏塔中具有缓冲功能的低塔阻分布器，其特征在于，分布器为高环形，附贴安装在塔壁内侧；其上端开口，下端有底板，内外壁间形成一个上大下小的环形空间储液的空腔；该空腔处的塔壁上设有物料进口；内壁的上口是塔内气流的通道，上口的直径为塔内径的８０～９０％；分布器内壁和底板上有按工艺要求设计的不同大小、不同长短、不同方向和一定分布规律的孔或喷嘴，使不同流量时喷淋液能均匀地喷洒到塔内各点。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴兆立，
申请(专利权)人：吴兆立，
类型：发明
国别省市：86