【技术实现步骤摘要】
本专利技术是用于微光学器件加工的多光束并行直写装置，特别是一种。
技术介绍
随着半导体制造业的发展，微光学器件制造的光刻技术受到越来越多的重视。经过近几十年的发展，在光刻领域，主要发展起来了投影光刻，纳米压印光刻，电子束直写光刻，空间调制光光刻，激光直写光刻等几种技术。其中，激光直写技术由于其无需掩膜，结构相对简单，造价低和对环境要求较低等优点，在微电子，微光学和科学研究等领域得到广泛的应用。由于激光直写装置的诸多优点，国际上诸如意大利，德国，俄罗斯等国家先后都对它进行了相关方面的研究。中国在激光直写技术方面起步比较晚，但是也取得了一定的成绩，长春光机所，浙江大学，苏州大学和哈尔滨工业大学都进行了相关方面的研究。但是，现在困扰激光直写装置进一步发展的原因主要是刻写速度和精度都不高， 刻写速度慢。为了能够刻写大尺寸的光学器件，人们先后专利技术了基于波带片阵列的无掩膜光刻技术，基于微透镜阵列的无掩膜光刻技术，基于掩模板的投影扫描光刻技术。其中，波带片的衍射效率较低，需要设计适合于刻写和检测焦距两种类型的波带片，影响调焦的精确和实时性；微透镜阵列和针孔阵列的对准误差较...
【技术保护点】
１．一种多光束激光并行直写光栅的装置，包括刻写光路、探测光路和控制模块三部分，其特征在于：所述的刻写光路包括蓝光激光器（５），沿蓝光激光器（５）输出光束方向，是同轴的小孔光阑（６）、扩束透镜组（７）、达曼光栅（８）、４Ｆ透镜组（９）、方形光衰减片（１０）、光谱分光镜（１７），在该光谱分光镜（１７）的反射方向是显微物镜（１９），光束经过显微物镜（１９）后聚焦在精密水平台（２１）上的待刻写的光栅模板（２０）上；所述的探测光路包括红光激光器（１４），在红光激光器（１４）出射的线偏振平行光束经偏振分光棱镜（１５）反射后垂直向下依次经四分之一波片（１６）后变为圆偏振光，再经过光谱分光...
【技术特征摘要】
1.一种多光束激光并行直写光栅的装置，包括刻写光路、探测光路和控制模块三部分， 其特征在于所述的刻写光路包括蓝光激光器(5)，沿蓝光激光器(5)输出光束方向，是同轴的小孔光阑(6)、扩束透镜组(7)、达曼光栅(8)、4F透镜组(9)、方形光衰减片(10)、光谱分光镜 (17)，在该光谱分光镜(17)的反射方向是显微物镜(19)，光束经过显微物镜(19)后聚焦在精密水平台(21)上的待刻写的光栅模板(20)上；所述的探测光路包括红光激光器(14)，在红光激光器(14)出射的线偏振平行光束经偏振分光棱镜(15)反射后垂直向下依次经四分之一波片(16)后变为圆偏振光，再经过光谱分光镜(17)和显微物镜(19)，与所述的蓝光光束重合并聚焦在待刻写的光栅模板(20) 上，经待刻写的光栅模板(20)反射后，再依次透过光谱分光棱镜(17)和四分之一波片(16) 后，成为与入射光束偏振方向相垂直的线偏振光，透过所述的偏振分光棱镜(15)，再经过滤波片(13)、消象散透镜组(12)，由信号采集传感器(11)采集；所述的控制模块包括计算机(1 )，所述的信号采集传感器(11)的输出端经数据采集卡 (3 )与计算机(1)的输入端相连，该计算机(1)的一个输出端经PZT控制器(4 )与精密压电纳米定位仪(18)的控制端相连，所述的计算机(1)根据所述数据采集卡(3)输入的信号采集传感器...
【专利技术属性】
技术研发人员：麻健勇，曹武刚，周常河，朱锋，曹红超，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31
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