【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻领域,且特别涉及一种光学元件的轴向定位保持装置。
技术介绍
先进光刻机曝光设备中的投影光学系统需要越来越小的波相差和畸变,同时在这种投影光学系统的曝光设备中,可以实时并容易地对由各种环境及其它因素导致的相差和畸变的变化进行补偿。这就需要在曝光设备中设置补偿机构以及定位保持机构。为了解决这一类问题,一般采用设置一个或几个镜片位置可调的方式进行轴向或径向的补偿。在对径向进行补偿的时候,期望可调镜片在轴向的位置保持不变或变化非常微小。美国专利US20040214483A1中的柔性连杆机构,虽然能够方便的调节镜片在径向上的位置,但该结构较为复杂,且安装操作不方便,镜片轴向位置的调节和确定也不方便。
技术实现思路
本专利技术提出一种光学元件的轴向定位保持装置,该装置结构简单,易于加工,安装操作方便快捷,定位精确,稳定可靠。为了达到上述目的,本专利技术提出一种光学元件的轴向定位保持装置,包括透镜,可调镜座,安装基座和多个挠性柱,所述透镜装设于所述可调镜座上,所述可调镜座和所述安装基座分别具有相对应的多个第一连接孔和第二连接孔,所述多个挠性柱通过所述多个第一连 ...
【技术保护点】
1.一种光学元件的轴向定位保持装置,其特征在于,包括透镜,可调镜座,安装基座和多个挠性柱,所述透镜装设于所述可调镜座上,所述可调镜座和所述安装基座分别具有相对应的多个第一连接孔和第二连接孔,所述多个挠性柱通过所述多个第一连接孔和第二连接孔将所述可调镜座和所述安装基座连接在一起;其中,所述挠性柱包括沿轴向延伸的主体部分、其上端的螺纹圆柱端和下端的安装座,所述主体部分与上端螺纹圆柱端和下端安装座分别通过过渡部分相连接,所述过渡部分包括第一挠性部分、第二挠性部分和两者之间的圆柱部分,第一挠性部分和第二挠性部分的每一挠性部分由所述挠性柱的主体部分的两侧各自沿径向方向向内铣去后所得到 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:崔建波,王洪尊,刘宝会,
申请(专利权)人:上海微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:31
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