面向集成电路检测的计算机辅助管理装置及方法和系统制造方法及图纸

技术编号:6884135 阅读:442 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种面向集成电路检测的计算机辅助管理装置,其特征在于,包括如下装置:工作台控制装置,其用于调整工作台的垂直位置以及水平位置;托盘控制装置,其用于调整托盘的水平度;光源控制装置,其用于控制光源使测量区域灰度值落在目标灰度值的容许波动范围内;图像采集装置,其用于放大并采集被观测物图像;尺寸测量装置,其用于根据所述被观测物图像输出几何尺寸信息。还提供相应的方法和系统。本发明专利技术通过采集被测物体图像后生成灰度曲线,然后根据灰度曲线自动确定被检测物图像的发生位置与结束位置,因此避免了因为人工点选位置而导致精度不高的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及面向集成电路的检测系统,具体地,涉及面向集成电路检测的计算机辅助管理装置及方法和系统
技术介绍
线宽检测装置是一种能精密检测的光学测量仪器,主要是专为检测印刷电路板内、外层半成品经显影蚀刻后(上绿油前)线路的上幅及下幅宽度。专用光源照射被测电路板,光学放大后再经CCD进行光电信号转换,将图像信号传至计算机,所成图像在界面显示,然后通过鼠标直接点选测量区域,进行寻边检测并返回测量结果。可扩展应用于IC晶片线宽线距的测量,LCD线路板测量等显微测距场合。但是在现有的线宽检测装置需要人工指出被检测物图像的发生位置与结束位置, 并且精度不高。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷,本专利技术的目的是提供一种的控制方法以及相应的控制装置。根据本专利技术的一个方面,提供一种面向集成电路检测的计算机辅助管理装置,其特征在于,包括如下装置工作台控制装置,其用于调整工作台的垂直位置以及水平位置; 托盘控制装置,其用于调整托盘的水平度;光源控制装置,其用于控制光源使测量区域灰度值落在目标灰度值的容许波动范围内;图像采集装置,其用于放大并采集被观测物图像; 尺寸测量装置,其用于根据所述被观测物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种面向集成电路检测的计算机辅助管理装置,其特征在于,包括如下装置:工作台控制装置,其用于调整工作台的垂直位置以及水平位置;托盘控制装置,其用于调整托盘的水平度;光源控制装置,其用于控制光源使测量区域灰度值落在目标灰度值的容许波动范围内;图像采集装置,其用于放大并采集被观测物图像;尺寸测量装置,其用于根据所述被观测物图像输出几何尺寸信息。

【技术特征摘要】
1.一种面向集成电路检测的计算机辅助管理装置,其特征在于,包括如下装置 工作台控制装置,其用于调整工作台的垂直位置以及水平位置;托盘控制装置,其用于调整托盘的水平度;光源控制装置,其用于控制光源使测量区域灰度值落在目标灰度值的容许波动范围内;图像采集装置,其用于放大并采集被观测物图像;尺寸测量装置,其用于根据所述被观测物图像输出几何尺寸信息。2.根据权利要求1所述的计算机辅助管理,其特征在于,所述尺寸测量装置包括如下装置曲线生成装置,其用于生成所述被观测物图像的灰度曲线图像; 测距点确定装置,其用于根据所述灰度曲线图像确定检测起点位置和检测终点位置; 尺寸测量装置,其用于测量所述检测起点位置与检测终点位置之间的宽度值。3.根据权利要求2所述的计算机辅助管理,其特征在于,所述尺寸测量装置还包括如下装置尺寸补偿装置,其用于根据补偿值对所述宽度进行修正。4.根据权利要求3所述的计算机辅助管理,其特征在于,所述尺寸测量装置用于多次测量所述检测起点位置与检测终点位置之间的宽度,若多次测量所得宽度数据的标准偏差小于第一阈值,则将多次测量所得宽度数据的平均值作为所述宽度值。5.根据权利要求1至4中任一项所述的计算机辅助管理,其特征在于,所述工作台控制装置包括如下装置聚焦行程控制装置,其用于控制工作台沿Z...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨怀军温任华王长青
申请(专利权)人:上海亚尚电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:31

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