SEM成像方法技术

本发明专利技术涉及SEM成像方法。一种使用扫描电镜法研究样品的方法，包含以下步骤：－在多个（N个）测量会话中使用探测电子束照射样品的表面（S），每个测量会话具有相关联的束参数（P）值，该束参数值选自于一系列这样的值且在测量会话之间不同；－在每个测量会话期间检测样品发射的激励辐射，将被测对象（M）与其关联且记录用于每次测量会话的该被测对象的值，因而允许数据对（Pi,Mi）的数据集（D）的汇编，其中1≤i≤N，其中：－采用统计盲源分离技术来自动处理数据集（D）且空间地将其分解为成像对(Qk,Lk)的结果集（R），其中具有值Qk的成像量（Q）与参考表面S的离散深度水平Lk相关。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种使用扫描电镜法(SEM)研究样品的方法，包含以下步骤一在多个(N个)测量会话(measurement session)中使用探测电子束照射样品的表面 (S)，每个测量会话具有相关联的束参数(P)值，该束参数值选自于一系列这样的值且在测量会话之间不同；一在每个测量会话期间检测样品发射的激励辐射，将被测对象(M)与其关联且记录用于每次测量会话的该被测对象的值，因而允许数据对(Pi, Mi)的数据集(D)的汇编，其中1 < i < N。
技术介绍
开篇段落中提及的方法从美国专利US 5，412，210获知，且其利用这种洞察改变 SEM中的一次束能量导致被研究样品内的更深穿透。原则上，这种方法可以用于产生样品中感兴趣区域的三维(3D)断层照片。迄今为止，采用该方法的尝试涉及使用不断增加的一次束能量采集两个或更多图像，调节图像之间的对比度，以及然后从较高能量图像减去较低能量图像以揭示样品中的掩埋层。这种已知方法的缺点在于，所述图像间对比度调节(其是关键步骤)仅可以使用关于样品的组成和几何形状的知识来执行。因此，该技术的先验应用倾向于将其自身限制为晶片缺陷检查和其本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．　一种使用扫描电镜法研究样品的方法，包含以下步骤：－在多个（Ｎ个）测量会话中使用探测电子束来照射样品的表面（Ｓ），每个测量会话具有相关联的束参数（Ｐ）值，该束参数值选自一系列这样的值且在测量会话之间不同；－在每个测量会话期间检测样品发射的激励辐射，将被测对象（Ｍ）与其关联且记录用于每次测量会话的该被测对象的值，因而允许数据对（Ｐｉ，　Ｍｉ）的数据集（Ｄ）的汇编，其中１　≤　ｉ　≤　Ｎ，其特征在于：－采用统计盲源分离技术来自动处理数据集（Ｄ）且空间地将其分解为成像对（Ｑｋ，Ｌｋ）的结果集（Ｒ），其中具有值Ｑｋ的成像量（Ｑ）与参考表面Ｓ的离散深度水平Ｌｋ相关联。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：F布戈尔贝尔，CS库伊曼，BH利赫，EGT博施，
申请(专利权)人：F布戈尔贝尔，CS库伊曼，BH利赫，EGT博施，
类型：发明
国别省市：US