成像方法技术

技术编号:7169860 阅读:254 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
用于组织伤口和包括来自组织伤口的样本的测试基质的组合成像的插接站包括用于将站连接到处理和存储图像的处理器的装置。插接站还合并了用于接纳包括来自组织伤口的样本的测试基质的装置。插接站还包括用于在站中插接传感器的装置,传感器检测从照亮的组织伤口反射的光,使得组织伤口的图像能够从站传送到处理器。用于插接的装置被布置成使得当传感器被插接在站中并且由插接站接纳测试基质时,传感器被定位成检测来自测试基质的反射光的强度并且将检测的反射光的强度传送到处理器以因此允许组织伤口和测试基质的组合成像。用于组织伤口和包括来自组织伤口的样本的测试基质的组合成像的装置包括这样的插接站,连同检测当被照亮时从组织伤口和测试基质反射的光的传感器;以及用于从组织伤口接纳样本的测试基质。对伤口成像的方法包括将在小于50nm的波长范围上的光引导到伤口(9)上。利用对反射光的强度敏感的传感器(5)检测从伤口(9)反射的光。测量反射光的强度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
1.一种用于在组织伤口和包括来自组织伤口的样本的测试基质的组合成像中使用的插接站,所述插接站包括:a)用于将所述站连接到处理和存储图像的处理器的装置;b)用于接纳包括来自组织伤口的样本的测试基质的装置;c)用于在所述站中插接传感器的装置,所述传感器检测从照亮的组织伤口反射的光,使得所述组织伤口的图像能够从所述站传送到所述处理器,其特征在于,所述用于插接的装置被布置成使得当所述传感器被插接在所述站中并且由所述插接站接纳所述测试基质时,所述传感器被定位成检测来自所述测试基质的反射光的强度并且将所检测到的反射光的强度传送到所述处理器,以因此允许所述组织伤口和测试基质的组合成像。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:保罗·戴维斯史蒂夫·爱德华兹
申请(专利权)人:莫洛迪克有限公司
类型:发明
国别省市:GB

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