一种去除芯片上硼斑的方法技术

一种去除芯片上硼斑的方法。涉及的是一种电化学去除硼斑的方法。首先，用去离子水配制ZnSO4溶液，溶液质量比为去离子水∶硫酸锌＝5∶0.8-1.2；其次，准备电解槽，直流源的阳极连接钼丝，阴极连接铜棒；然后，将所述芯片置于电解槽底，芯片的P面朝上并接触所述钼丝；接着，开始电解反应，将直流源电压调整至10-20V，电流0.8-1.8A，芯片表面析出气泡，至电流表度数为0时，反应停止，取出芯片；最后，将芯片置入HF溶液浸泡5-10分钟后用清水冲洗，完毕。本发明专利技术用电化学法代替喷砂法去除半导体硅片表面的硼斑最终实现防止产生器件应力，避免造成晶格缺陷，改善二极管电性能力的效果。可以减少对晶片的损伤，可以降低生产成本，提高生产产能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
１．一种去除芯片上硼斑的方法，其特征在于，首先，用去离子水配制ＺｎＳＯ４溶液，溶液质量比为去离子水∶硫酸锌＝５∶０．８－１．２；其次，准备电解槽，直流源的阳极连接钼丝，阴极连接铜棒；然后，将所述芯片置于电解槽底，芯片的Ｐ面朝上并接触所述钼丝；接着，开始电解反应，将直流源电压调整至１０－２０Ｖ，电流０．８－１．８Ａ，芯片表面析出气泡，至电流表度数为０时，反应停止，取出芯片；最后，将芯片置入ＨＦ溶液浸泡５－１０分钟后用清水冲洗，完毕。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：裘立强，游佩武，
申请(专利权)人：扬州杰利半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：32