像素结构及双栅极像素结构制造技术

像素结构及双栅极像素结构；一种像素结构，其包括基板、第一金属层、栅绝缘层、半导体层、第二金属层、保护层、孔洞以及像素电极。第一金属配置于基板上。第一金属层包括扫描线、栅极与共享电极。共享电极具有一预设缺口。栅绝缘层覆盖第一金属层。半导体层配置于栅绝缘层上。第二金属层配置于半导体层上，且第二金属层下方皆有半导体层。保护层覆盖第二金属层。孔洞位于预设缺口内并贯穿保护层而暴露出第二金属层。像素电极配置于保护层上并填入孔洞内。像素电极透过孔洞与第二金属层电性连接。一种双栅极像素结构亦被提出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种像素结构，且特别是有关于一种平面显示器的像素结 构。
技术介绍
在竞争激烈的平面显示器产业中，制造厂商除了致力于研发性能更优越的平面显 示器外，亦不断努力的降低生产制造成本，以提高企业获利并供给消费市场更经济实惠的 平面显示器。以平面显示器中最为普及的薄膜晶体管液晶显示器为例，降低其生产制造成本的 方法有许多种。其中，有一种方法是减少制造像素结构所需使用的光罩数量，以节省相关制 程中人力及制程时间的耗费，进而达到降低生产制造成本的目的。一般而言，减少制造像素结构所需使用的光罩数量的方式是将现有的五道光罩制 程，减为四道光罩制程。图IA至图IH为公知的以四道光罩制作的像素结构的制造流程剖 面示意图。请依序参照图IA至图1H，在使用四道光罩的制程中，首先，在基板100上形成第 一金属层102，并以第一道光罩图案化之。接着，依序全面形成栅绝缘层104、半导体层106 以及第二金属层108于基板100上，之后再涂布一光阻层110于第二金属层108上，如图IA 所示。然后，利用半调式(half tone)或灰调式(gray tone)光罩，也就是第二道光罩 200，将涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种像素结构，其特征在于，包括：一基板；一第一金属层，配置于该基板上，其中该第一金属层包括：一扫描线；一栅极，电性连接该扫描线；一共享电极，与该扫描线分离并具有一预设缺口，其中该预设缺口位于该共享电极的边缘上；一栅绝缘层，配置于该基板上并覆盖该第一金属层；一半导体层，配置于该栅绝缘层上；一第二金属层，配置于该半导体层上，且该第二金属层下方皆有该半导体层，其中该第二金属层包括：一数据线，与该扫描线交错；一源极，电性连接该数据线；一漏极；一储存电极，位于该预设缺口的上方；一保护层，配置于该基板上并覆盖该第二金属层，且该保护层具有一开口以暴露出该漏极；一孔洞，位于该预设缺口内并贯穿该保护层而暴露...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林柏辛，吴纪良，
申请(专利权)人：华映视讯吴江有限公司，中华映管股份有限公司，
类型：发明
国别省市：32