粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置制造方法及图纸

技术编号:6648461 阅读:248 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
若想照原样将X射线等放射线治疗装置中的IMRT技术应用到现有的具有摆动系统的粒子射线治疗装置中,则存在必须使用多个团块的问题。本发明专利技术的目的在于解决粒子射线治疗装置中的IMRT的过量照射问题。更具体而言,通过不使用团块而提高深度方向上的照射自由度,从而解决粒子射线治疗装置中的IMRT的过量照射问题。本发明专利技术的目的在于提供一种粒子射线照射装置(58),该粒子射线照射装置(58)包括扫描照射系统(34),并安装于使带电粒子束(1)的照射方向旋转的旋转机架,所述扫描照射系统(34)将由加速器进行了加速的带电粒子束(1)进行扫描,粒子射线照射装置(58)包括柱状照射区生成装置(4),该柱状照射区生成装置(4)扩大带电粒子束(1)的布喇格峰值,来生成柱状的照射区。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
1.一种粒子射线照射装置,包括扫描照射系统,并安装于使带电粒子束的照射方向旋转的旋转机架,所述扫描照射系统将由加速器进行了加速的所述带电粒子束进行扫描,其特征在于,所述粒子射线照射装置包括柱状照射区生成装置,该柱状照射区生成装置扩大所述带电粒子束的布喇格峰值,来生成柱状的照射区。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:岩田高明
申请(专利权)人:三菱电机株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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