单元掩模、掩模组件和制造显示设备的方法技术

本发明专利技术涉及单元掩膜、掩膜组件和制造显示设备的方法。所述掩模组件包括：框架，包括开口部件；和单元掩模，其在沿一个方向施加拉力的状态下布置在所述开口上并且使所述单元掩模中的每一个的两个端部由所述框架支撑，所述单元掩模中的每一个包括：图案开口部件，沿所述一个方向布置；以及第一槽，布置成与所述图案部件相邻并且在所述图案开口部件与所述单元掩模的边缘之间，并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。

【技术实现步骤摘要】

所描述的技术总体涉及掩模。更为具体地，所描述的技术总体涉及包括支撑多个单元掩模的框架的掩模组件。
技术介绍
平板显示器的示例包括有机发光显示器、液晶显示器、等离子体显示面板等。为了制造有机发光显示器，应该形成具有特定图案的电极、有机发射层等等。用于形成电极和有机发射层等等的方法可以适用于利用掩模组件的沉积方法。更具体地说，有机发光显示器包括像素，并且各个像素包括有机发光二极管。这些像素是用于显示图像的基本单元。这些像素在基板上并且被排列成矩阵形式。有机发光二极管具有顺序形成的阳极(即第一电极)和阴极(即第二电极)。有机发射层被包括在阳极与阴极之间。每层发射每个像素的光(红、绿和蓝等等)。形成有机发射层的有机材料非常易受到潮气和氧等等的侵蚀，所以在形成有机发射层的工艺期间以及在形成有机发射层之后它们应该与潮气完全隔离。因此，难以利用一般的平版印刷工艺执行图案化。同样，有机发射层和第二电极等等利用掩模来形成。该掩模具有图案开口部件，用于仅通过与形成的每个图案相对应的部分透过沉积材料。近来已经使用一种掩模组件，包括框架，包括开口部件；以及与该开口部件相对应的多个呈带状的单元掩模，其两个端部固定到该框架。相关技术的掩模组件通过向该单元掩模施加拉力而固定到该框架。因此，形成在单元掩模中的图案开口部件的形状可能会由于施加到掩模单元的拉力而变形。在
技术介绍
部分中公开的以上信息仅用于加强所描述的技术的背景的理解，因此其可能包含并不构成本国内本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
所描述的技术致力于提供根据本专利技术的各方面的抑制由于施加到单元掩模的拉力而造成的形成在单元掩模中的图案开口部件的变形的掩模和具有该掩模的掩模组件。根据示例性实施例，掩模组件包括框架，包括开口部件；和多个单元掩模，布置在所述开口部件上，并且在沿一个方向施加拉力的状态下使所述多个单元掩模中的每一个单元掩模的两个端部由所述框架支撑，所述多个单元掩模中的每一个单元掩模包括沿所述一个方向布置的多个图案开口部件；以及第一槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与该单元掩模的边缘之间，并且形成为从该单元掩模的表面被压低。根据本专利技术的一方面，所述第一槽在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到与所述第一槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。根据本专利技术的一方面，所述第一槽在所述单元掩模的表面上可以具有半圆形形状。所述单元掩模可以进一步包括第二槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在两个相邻图案开口部件之间，并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。根据本专利技术的一方面，所述第二槽在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到与所述第二槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。根据本专利技术的一方面，所述第二槽在所述单元掩模的表面上可以具有半圆形形状或锥形形状。根据本专利技术一方面，所述第一槽的数目为复数，并且其中所述单元掩模可以进一步包括第三槽，布置在两个相邻第一槽之间并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。根据本专利技术的一方面，所述第三槽可以具有多边形形状。根据本专利技术的一方面，所述单元掩模可以进一步包括虚拟图案，布置在位于沿所述一个方向布置的多个图案开口部件的最外侧处的图案开口部件与所述单元掩模的靠近该最外侧的端部之间。根据本专利技术的一方面，所述虚拟图案在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到与所述虚拟图案相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。根据本专利技术的一方面，所述虚拟图案可以透过所述单元掩模。根据本专利技术的一方面，所述虚拟图案可以形成为从所述单元掩模的表面被压低。根据本专利技术的一方面，所述虚拟图案可以对应于所述框架。根据本专利技术的一方面，所述多个图案开口部件可以具有条型或点型。根据另一示例性实施例，一种具有在沿一个方向施加拉力的状态下由框架支撑的彼此相对的两个端部的单元掩模包括单元掩模主体部件，具有沿所述一个方向延伸的带状；沿所述一个方向布置的多个图案开口部件；和第一槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与该单元掩模主体部件的边缘之间， 并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低。根据本专利技术的一方面，所述第一槽在所述单元掩模主体部件的表面上可以具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述第一槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。根据本专利技术的一方面，所述单元掩模可以进一步包括第二槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在所述多个图案开口部件中的两个相邻图案开口部件之间，并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低。根据本专利技术的一方面，所述第二槽在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述第二槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。根据本专利技术一方面，所述单元掩模进一步包括第三槽，布置在两个相邻第一槽之间，并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低，其中所述第一槽的数目是复数。根据本专利技术的一方面，所述单元掩模可以进一步包括虚拟图案，布置在多个图案开口部件中位于最外侧处的图案开口部件与所述单元掩模的靠近该最外侧的端部之间。根据本专利技术的一方面，所述虚拟图案在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述虚拟图案相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。根据本专利技术的一方面，所述多个图案开口部件可以具有条型或点型。根据实施例，提供了抑制由于施加到所述单元掩模而引起的形成在单元掩模中的图案开口部件的变形的掩模以及具有该掩模的掩模组件。本专利技术的其它方面和/或优点将部分地记载在以下的描述中，并且部分地从以下描述中显而易见，或者可以通过实践本专利技术而获知。附图说明 本专利技术的这些和/或其它方面和优点将从以下结合附图对实施例的描述中变得明显并且更易于理解，附图中 图1是示出根据示例性实施例的掩模组件的分解透视图； 图2是示出根据图1的示例性实施例的掩模组件的俯视图； 图3是示出包括在根据图1的示例性实施例的掩模组件中的单元掩模的俯视图； 图4是沿图3的线IV-IV截取的横截面视图； 图5是示出包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模的俯视图； 图6是示出包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模的俯视图； 图7A至图9是用于说明证实图案开口部件的变形由于分散了施加到包括在根据每个示例性实施例的每个掩模组件中的每个单元掩模的图案开口部件的拉力而得到抑制的实验的图； 图10是示出包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模的俯视图； 图11是示出包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模的俯视图；以及 图12是沿图11的线XII-XII截取的横截面视图。具体实施例方式现在将详细参考本专利技术的当前实施例，这些实施例的示例在附图中示出，附图中的相同标记始终表示相同的元件。为了说明本专利技术，下面参照附图说明这些实施例。在下文中，将参照图1至图4描述根据示例性实施例的掩模组件。图1是示出掩模组件的分解透视图。图2是示出掩模组件的俯视图。如图1和2所示，掩模包括框架100 和多个单元掩模200。框架100固定并支撑多个单元掩模200中每个单元掩模的两个端部，并且包括使单元掩模2本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种掩模组件，包括：框架，包括开口部件；和多个单元掩模，布置在所述开口部件上，并且在沿一个方向施加拉力的状态下使所述多个单元掩模中的每一个单元掩模的两个端部由所述框架支撑，所述多个单元掩模中的每一个单元掩模包括：沿所述一个方向布置的多个图案开口部件；和第一槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与该单元掩模的边缘之间，并且形成为从该单元掩模的表面被压低。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：洪宰敏，金京汉，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：KR