【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
１．一种光干涉测量方法，其特征在于，包括：将从光源单元出射的光分割成测定光和基准光的步骤；检测所述基准光、与从所述测定光所照射的测定对象反射或背散射后的光发生干涉而得到的干涉光的步骤；驱动设置在所述基准光的光路上的光路长度可变机构、以改变所述基准光的光路长度的步骤；基于随所述基准光的光路长度的变化而变化的所述干涉光、判定基于所述检测出的干涉光的图像是正规像还是翻转像的步骤；以及基于是正规像还是翻转像的判定结果、利用所述检测出的干涉光来测量所述测定对象的步骤。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：壁谷泰宏，古田宽和，滨野诚司，菅田文雄，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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