一种制备纳米网薄膜的方法技术

本发明专利技术公开了一种制备纳米网薄膜的方法。该方法，是以漂浮在反应溶液表面的 单层胶体晶体为掩膜，在反应溶液表面上通入反应气体，反应气体与反应溶液在气液 界面发生反应，反应产物沉积在未被胶体晶体覆盖的液面上，去除所述胶体晶体后， 得到本发明专利技术提供的纳米网薄膜。该方法操作简单、产量大、试剂廉价、不需任何特殊 仪器、通过室温下的化学反应即可完成，且该方法通用适用于制备多种无机物纳米网。 利用该方法制备得到的纳米网具有规整度高、面积大、方便转移且易于组装成为多层 纳米网等优点，在纳米加工、光学器件及传感和筛分等领域具有潜在的应用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
具有周期性规则纳米孔的半导体、金属或介电质的薄膜，可在亚微米尺度对电 磁波产生散射，因此常常会表现出一些奇特的光学及电学性质；具有规则结构的纳 米网可以作为纳米加工工艺中的图案化掩膜；具有单分散网孔和高孔隙率的纳米/微 米筛网对高性能纳/微过滤有重要价值。目前，制备纳米网的传统方法主要有使用聚焦离子束刻蚀、以PDMS (聚二甲 基硅氧垸)印章图案或电子束平版印刷图案为掩膜的刻蚀技术、激光相干全息印刷 技术以及利用阳极多孔氧化铝薄膜进行化学沉积反应，但这些制作方法很难兼具简 单、高效、廉价、通用的优点。近年来发展起来的胶体球平版印刷技术采用由单分 散胶体颗粒自组装形成的高度有序的单层胶体晶体为图案化的掩膜，与各种刻蚀和 沉积技术相结合，可以得到多种多样的二维有序纳米结构阵列，已发展成一种方法 灵活、简单通用、高效廉价的图案化技术。但由于沉积过程通常起始于负载单层胶 体晶体掩膜的基底，所以通过沉积得到的大多是碗状结构的阵列，而得不到鲜明的 网状结构。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供。本专利技术提供的制备纳米网薄膜的方法，是以漂浮在反应溶液表面的单层胶体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备纳米网薄膜的方法，包括如下步骤：　以漂浮在反应溶液表面的单层胶体晶体为掩膜，在所述反应溶液表面上通入反应气体，所述反应气体与所述反应溶液在气液界面发生反应，反应产物沉积在未被胶体晶体覆盖的液面上，去除所述胶体晶体后，得到所述纳米网薄膜。

【技术特征摘要】
1、一种制备纳米网薄膜的方法，包括如下步骤以漂浮在反应溶液表面的单层胶体晶体为掩膜，在所述反应溶液表面上通入反应气体，所述反应气体与所述反应溶液在气液界面发生反应，反应产物沉积在未被胶体晶体覆盖的液面上，去除所述胶体晶体后，得到所述纳米网薄膜。2、 根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述反应气体与所述反应溶液在 气液界面发生的反应为反应产物为固体的反应。3、 根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于所述反应温度为4-50。C，所述反应时间为4-120小时。4、 根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于所述胶体晶体的粒径为300-1000纳米。5、 根据权利要求l-4任一所述的方法，其特征在于所述胶体晶...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐利民，李澄，洪国松，
申请(专利权)人：齐利民，李澄，洪国松，
类型：发明
国别省市：11