两嵌段共聚物直接组装纳米结构的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种两嵌段共聚物直接组装纳米结构的装置。它包括一个具有化学表面图形的导电模板、聚苯乙烯－聚甲基丙烯酸甲酯ＰＳ－ｂ－ＰＭＭＡ两嵌段共聚物、导电化的基底和直流电场，其中两嵌段共聚物ＰＳ－ｂ－ＰＭＭＡ置于导电模板和基底之间，导电模板与直流电场的阳极连接，基底则与直流电场的阴极连接。本实用新型专利技术能够实现大面积、长程有序Ｓｕｂ－１０ｎｍ结构的制造，特别适合高密度和周期性阵列纳米孔、纳米柱以及层状等纳米结构的制造。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及属于纳米结构制造领域，尤其涉及一种模板和电场诱导两嵌段共聚物直接组装纳米结构的装置。
技术介绍
纳米结构制造是纳米技术研究和应用的基础和关键，目前纳米结构的制造主要通过两种途径：一种是“自上而下（Top-down）”方法（例如电子束直写、光学光刻、聚焦粒子束、刻蚀、纳米压印、软光刻等），另一种是“自下而上(Bottom-up)”方法（例如扫描探针显微加工、蘸笔纳米光刻、生物分子自组装、模板辅助自组装等）。嵌段共聚物自组装是近年发展起来的一种自下而上构造纳米结构新方法。嵌段共聚物（Block Copolymers)又叫镶嵌共聚物，是由不同结构单元组成的均聚链段，通过共价键相互结合成主链的共聚物。不同的均聚链段可以为两种或两种以上，每链段只含一种结构单元，各链段的长短没有严格的限制。因为嵌段共聚物由热力学上互不相容的链段通过化学键连接而成，这种结构特点导致嵌段共聚物不具有共混物的宏观相分离行为，只能发生微观相分离，在介观尺度上形成丰富多彩的有序相形态。这些微观有序相形态具有良好的可调控性及相对容易的制备方法，通过改变嵌段共聚物的组成、链长、施加外场或改变制备方法等可以使嵌段共本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种两嵌段共聚物直接组装纳米结构的装置，其特征是，它包括一个具有化学表面图形的导电模板、聚苯乙烯－聚甲基丙烯酸甲酯ＰＳ－ｂ－ＰＭＭＡ两嵌段共聚物、导电化的基底和直流电场，其中两嵌段共聚物ＰＳ－ｂ－ＰＭＭＡ置于导电模板和基底之间，导电模板与直流电场的阳极连接，基底则与直流电场的阴极连接。

【技术特征摘要】
1.一种两嵌段共聚物直接组装纳米结构的装置，其特征是，它包括一个具有化学表面图形的导电模板、聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯PS-b-PMMA两嵌段共聚物、导电化的基底和直流电场，其中两嵌段共聚物PS-b-PMMA置于导电模板和基底之间，导电模板与直流电场的阳极连接，基底则与直流电场的阴极连接。2.如权利要求1所述的两嵌段共聚物直接...

【专利技术属性】
技术研发人员：兰红波，丁玉成，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：实用新型
国别省市：88[中国|济南]