扇出高密度封装结构制造技术

本发明专利技术涉及扇出高密度封装结构，包括保护层；再布线金属层，所述再布线金属层嵌于保护层中；至少一组布线封装层；顶部封装层；设置于保护层底部开口中的金属下方的连接球。与现有技术相比，本发明专利技术请求保护的扇出高密度封装结构，可以形成包含整体系统功能而非单一的芯片功能的最终封装产品，降低了系统内电阻、电感以及芯片间的干扰因素。此外，可以形成更为复杂的多层互联结构，实现集成度更高的圆片系统级封装。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半 导体技术，尤其涉及一种扇出高密度封装结构。
技术介绍
随着集成电路技术的不断发展，电子产品越来越向小型化、智能化、高性能以及高可靠性方向发展。而集成电路封装不仅直接影响着集成电路、电子模块乃至整机的性能，而且还制约着整个电子系统的小型化、低成本和可靠性。在集成电路晶片尺寸逐步缩小，集成度不断提高的情况下，电子工业对集成电路封装技术提出了越来越高的要求。在公告号为CN1747156C的中国专利中就公开了一种封装载板。所述封装载板包括载板，所述载板包括一表面；位于所述载板表面上的接球垫；形成于所述载板表面上的防焊层，所述防焊层包括至少一开口，所述开口露出所述接球垫；所述封装载板还包括一图案化金属补强层，所述图案化金属补强层沿着所述防焊层开口的侧壁形成于所述接球垫上。按照上述方法所封装制造的最终产品仅具有单一的芯片功能，然而，随着半导体产品轻薄短小的趋势以及产品系统功能需求的不断提高，如何进一步提高系统级封装的集成性成为本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是如何实现具有多层结构的扇出系统级封装。为解决上述技术问题，本专利技术提供扇出高密度封装结构，包括保护层，所述保护层包括底部保护层、中间保护层和上保护层，其中底部保护层和上保护层中均设有开口 ；再布线金属层，所述再布线金属层嵌于保护层中，其中，再布线金属层的部分金属设于底部保护层和上保护层的开口中；至少一组布线封装层，所述布线封装层位于上保护层上，包括依次位于上保护层上的正贴装层、布线封料层、布线层；顶部封装层，所述顶部封装层位于布线封装层上，包括依次位于布线封装层上的倒贴装层、底部填充、顶部封料层；设置于底部保护层开口中的金属下方的连接球。可选地，所述扇出高密度封装结构包括第一布线封装层，所述第一布线封装层包括依次位于保护层上的第一正贴装层、第一布线封料层、第一布线层。可选地，所述第一正贴装层中各个器件的功能面朝上。可选地，所述第一布线封料层填充于第一正贴装层各个器件之间，并裸露出所述第一贴装层各个器件的连接件。可选地，所述第一布线层包括贯穿第一布线封料层且与上保护层开口中的金属导通的第一纵向布线，以及与所述第一纵向布线连通、覆盖于第一布线封料层上且互联第一正贴装层中器件的第一横向布线。可选地，所述倒贴装层中各个器件的功能面朝下。可选地，所述顶部封料层填充于倒贴装层各个器件之间并将倒贴装层包覆密封。可选地，所述保护层为聚酰亚胺或苯并环丁烯。可选地，所述贴装层中包括芯片，所述芯片为单颗或多颗。可选地，所述贴装层还包括无源器件，所述无源器件为电容、电阻或电感中的一种或多种。与现有技术相比，本专利技术请求保护的扇出高密度封装结构，将芯片和无源器件进行整合后再一并封装，可以形成包含整体系统功能而非单一的芯片功能的最终封装产品； 同时，多层封装层间透过布线层更实现了三维立体角度的高密度系统互联，相比现有的系统级封装，多层布线结构充分利用了芯片本身的厚度，在满足半导体封装轻薄短小趋势要求以及更复杂的系统功能整合要求的同时，更好地降低了系统内电阻、电感以及芯片间的干扰因素，结构强度以及产品可靠性得到很好地加强。附图说明 图1为本专利技术扇出高密度封装结构一个实施例的示意图。 具体实施例方式在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广，因此本专利技术不受下面公开的具体实施的限制。其次，本专利技术利用示意图进行详细描述，在详述本专利技术实施例时，为便于说明，所述示意图只是实例，其在此不应限制本专利技术保护的范围。本专利技术提供一种扇出高密度封装结构，包括保护层，所述保护层包括底部保护层、中间保护层和上保护层，其中底部保护层和上保护层中均设有开口 ；再布线金属层，所述再布线金属层嵌于保护层中，其中，再布线金属层的部分金属设于底部保护层和上保护层的开口中；至少一组布线封装层，所述布线封装层位于上保护层上，包括依次位于上保护层上的正贴装层、布线封料层、布线层；顶部封装层，所述顶部封装层位于布线封装层上，包括依次位于布线封装层上的倒贴装层、底部填充、顶部封料层；设置于底部保护层开口中的金属下方的连接球。下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。参考图1，示出了本专利技术扇出高密度封装结构一实施方式的示意图，本实施例中， 所述一种扇出高密度封装结构以保护层、再布线金属层、两组布线封装层和顶部封装层为例，但是本专利技术不限制与此，所述一种扇出高密度封装结构包括保护层101、嵌于保护层 101中的再布线金属层102、位于保护层101上的第一布线封装层、位于第一布线封装层上的第二布线封装层、位于第二布线封装层上的顶部封装层、设置于保护层101下方的连接球113。其中，保护层101预先设置在载板上，所述载板作为保护层101及其上层结构的承载基础。载板可以是硅质晶圆或玻璃材质，这种材质易剥离、抗腐蚀能力强，可以进行重复利用。 具体地，在保护层101和载板间设有剥离膜，所述剥离膜可以是UV胶，这种材料可以将保护层101牢牢粘附在载板上，而在整个扇出高密度封装结构形成后，UV胶经紫外线照射后粘性降低，以便将载板从结构体中剥离。保护层101包括底部保护层、中间保护层和上保护层，其中 底部保护层和上保护层中均设有开口。所述保护层101为聚酰亚胺或苯并环丁烯等材质，这种材质的特点是通过光刻显影技术可以形成设计想要的图形和图形开口。再布线金属层102嵌于保护层101中，其中，再布线金属层102的部分金属设于底部保护层和上保护层的开口中，设于底部保护层开口中的金属用以系统功能的输出植球 (植入连接球113)，设于上保护层开口中的金属用于与封装层间的导通互联，再布线金属层102在中间保护层的绝缘保护作用下走线以便对整个封装结构形成系统线路整理。第一布线封装层中包括依次位于保护层101上的第一正贴装层103、第一布线封料层104、第一布线层105。其中，所述第一正贴装层103包括多种半导体器件，本实施例中，所述第一正贴装层103 包括芯片和无源器件，具体地，芯片和无源器件按照功能面朝上的方式通过贴附于保护层 101的上保护层上，所述第一正贴装层103的功能面，是指第一正贴装层103中的芯片和无源器件的焊盘所在表面。在本专利技术的一个优选的实施例中，设置于保护层101之上的第一正贴装层103及后续提及的贴装层都可以包含一个或多个相同或不同芯片，还可以包括一个或多个相同或不同的无源器件。这些芯片和无源器件各自成为一个系统级封装产品的一部分，各自完成实现系统级功能中的一个或多个单独的功能。在本专利技术的一个优选的实施例中，第一正贴装层103中的芯片与无源器件的组合是根据系统功能来配置的。因此，在一个或一组芯片的周围，可能有相同或不同的另外的一个或一组芯片，或者相同或不同的电容、电阻或电感等无源器件；类似的，在一个无源器件的周围，可能有相同或不同的其他的无源器件，或者一个或多个相同或不同芯片。第一布线封料层104用于绝缘和隔离第一正贴装层103的各个器件，同时，还用于绝缘和隔离不同封装层。所述第一布线封料层104填充于第一正贴装层103的各器件之间， 并且，部分第一布线封料层104覆盖本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．扇出高密度封装结构，其特征在于，包括：保护层，所述保护层包括底部保护层、中间保护层和上保护层，其中底部保护层和上保护层中均设有开口；再布线金属层，所述再布线金属层嵌于保护层中，其中，再布线金属层的部分金属设于底部保护层和上保护层的开口中；至少一组布线封装层，所述布线封装层位于上保护层上，包括依次位于上保护层上的正贴装层、布线封料层、布线层；顶部封装层，所述顶部封装层位于布线封装层上，包括依次位于布线封装层上的倒贴装层、底部填充、顶部封料层；设置于底部保护层开口中的金属下方的连接球。

【技术特征摘要】
1.扇出高密度封装结构，其特征在于，包括保护层，所述保护层包括底部保护层、中间保护层和上保护层，其中底部保护层和上保护层中均设有开口；再布线金属层，所述再布线金属层嵌于保护层中，其中，再布线金属层的部分金属设于底部保护层和上保护层的开口中；至少一组布线封装层，所述布线封装层位于上保护层上，包括依次位于上保护层上的正贴装层、布线封料层、布线层；顶部封装层，所述顶部封装层位于布线封装层上，包括依次位于布线封装层上的倒贴装层、底部填充、顶部封料层；设置于底部保护层开口中的金属下方的连接球。2.如权利要求1所述的扇出高密度封装结构，其特征在于，所述扇出高密度封装结构包括第一布线封装层，所述第一布线封装层包括依次位于保护层上的第一正贴装层、第一布线封料层、第一布线层。3.如权利要求2所述的扇出高密度封装结构，其特征在于，所述第一正贴装层中各个器件的功能面朝上。4.如权利要求2所述的扇出高密度封装结构，其特征在于，所述第一布线封料层填充于第...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶玉娟，石磊，
申请(专利权)人：南通富士通微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：32