线内基板检查装置的光学系统校正方法及线内基板检查装置制造方法及图纸

本发明专利技术是有关于一种可不使制造线停止而实施装入至制造线内的线内基板检查装置的光学系统的校正作业。本发明专利技术是在检查平台或搬送运送机等的检查区域以外的位置设置用以实施光学系统的校正作业的校正作业（维护）区域，该检查平台具有从上游制造线向下游制造线交接基板的功能，使光学系统的移动行程可移动至所述校正作业区域为止，可在检查区域之外进行光学系统的校正作业。在校正作业区域中，使用以与实际的基板的移动相同的状态而移动的附带标准粒子的基板来进行检查，借此来正确地进行光学系统的校正作业。使附带标准粒子的基板的高度与检查区域内的基板的高度一致，从而可正确地进行校正作业。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种使用激光来对用以制造显示用面板(panel)等的玻璃(glass)基 板或塑胶(plastic)基板等的缺陷进行检测的线内(in line)基板检查装置的光学系统校 正方法及线内基板检查装置，特别是涉及一种适合于检查装置的光学系统的维护作业的线 内基板检查装置的光学系统校正方法及线内基板检查装置，该检查装置装入至玻璃基板或 塑胶基板等的制造线内，或者装入至使用有这些基板的显示用面板基板的制造线内。
技术介绍
用作显示用面板的液晶显示(display)装置的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor, TFT)基板或彩色滤光片(color filter)基板、等离子显示面板(plasma display panel)用基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示面板用基板等的 制造是以如下的方式进行，即，借由光微影(photolithography)技术，在玻璃基板或塑胶 基板等的基板上形成图案(pattern)。此时，若在基板上存在损伤或异物等的缺陷，则无法 良好地形成图案，从而成为引起不良的原因。因此，使用基板检查装置来对基板的损伤或异 物等的缺陷进行检查。基板检查装置将激光等的检查光照射至基板，并接收来自基板的反射光或散射 光，以对基板的损伤或异物等的缺陷进行检测。由于借由检查光来对基板进行扫描，因此， 整个基板的检查会耗费时间。因此，先前，在玻璃基板或塑胶基板等的制造线内，或者在使 用有这些基板的显示用面板基板的制造线内，实时(real time)地对基板的缺陷进行检查。 对于以所述方式在制造线内实时地进行检查的基板检查装置而言，对于光学系统的定期性 的激光功率(power)的管理、以及检测灵敏度的调整作业等的校正作业不可或缺。先前， 基板检查装置的光学系统的校正作业，是将涂布有标准粒子的基准样品(sample)基板搭 载在检查平台(stage)上，借此来实施光学系统的校正作业。在此种校正作业中，为了实施 光学系统的校正作业，必须由作业者利用手来将附带标准粒子的基板放置在检查平台上。 作为以所述方式搭载基准样品基板并进行校正的技术，专利文献1所揭示的技术已为人所 知。专利文献1 日本专利特开2003-59994号公报专利文献1所揭示的技术是对半导体的晶片(wafer)进行检查的装置的管理方法 的技术，该技术的目的在于在连续地对多个被检查样品进行测定的检查途中，从预先安置 (set)的标准样品专用盒(cassette)中自动地供给标准样品，以进行测定，并对该标准样 品的测定结果与校正基准及管理基准进行核对，从而对检查装置进行管理。由于显示用面板用的基板的尺寸(size)与晶片的尺寸相比显得非常大，因此，非 常难以像专利文献1所揭示的技术那样，准备标准样品，将该标准样品安装于专用盒，并预 先搭载在检查装置内。因此，先前的显示用面板等的基板检查装置中的光学系统的校正作业，是借由人手来将附带标准粒子的基板搭载至用以搬送基板的检查平台上，使该检查平台向光学系统 的正下方移动，从而实施光学系统的校正作业。由于基板的大型化，如上所述的作业变得困 难，另外，在对基准样品进行操作时，会对作业者施加极大的负担。此外，对于如上所述的方 法而言，在实施光学系统的校正作业期间会占据用以搬送基板的检查平台，因此，致使在制 造线上流动的基板停滞在检查装置的上游，从而对基板检查装置的实时性造成影响。由此可见，上述现有的线内基板检查装置的光学系统校正方法，显然仍存在有不 便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋 求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般方法及产品又没有适切 的方法及结构能够解决上述问题此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种 新的线内基板检查装置的光学系统校正方法及线内基板检查装置，实属当前重要研发课题 之一，亦成为当前业界极需改进的目标。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种新的线内基板检查装置的光学系统校正方法及线内 基板检查装置，能够不使制造线停止而实施装入在制造线内的检查装置的光学系统的校正 作业，非常适于实用。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。为达到上述目 的，依据本专利技术的线内基板检查装置的光学系统校正方法的第1特征在于一边使基板依 次从上游制造线向下游制造线移动，一边借由所述基板移动单元来使包括投光系统及受光 系统的光学系统向与移动中的基板正交的方向移动，照射检查光，并且接收来自所述基板 的反射光或散射光，基于所接收的来自所述基板的反射光或散射光来对所述基板的缺陷进 行检查，在所述线内基板检查装置的光学系统校正方法中，在对所述基板进行检查的检查 区域(area)以外的位置设置校正作业区域，并使所述光学系统可移动至所述校正作业区 域，在所述基板的移动过程中，在所述校正作业区域内进行所述光学系统的校正作业。本专利技术是在检查平台或搬送运送机(conveyer)等的检查区域以外的位置设置用 以实施光学系统的校正作业的校正作业(维护(maintenance))区域，该检查平台具有从上 游制造线向下游制造线交接基板的功能，使光学系统的移动行程(stroke)可移动至所述 校正作业区域为止，借此，可在检查区域之外进行光学系统的校正作业，从而可不使制造线 停止而进行校正作业。本专利技术的目的及解决其技术问题还采用以下的技术方案来实现。为达到上述目 的，依据本专利技术的线内基板检查装置的光学系统校正方法的第2特征在于一边使基板依 次从上游制造线向下游制造线移动，一边使具有投光系统及受光系统的光学系统向与基板 移动方向正交的方向移动，针对每个基板，将检查光所扫描的基板的扫描区域予以变更，该 检查光来自投光系统且在与基板移动方向正交的方向上具有规定的宽度，将在与基板移动 方向正交的方向上具有规定的宽度的检查光从投光系统照射至基板，根据受光系统所接收 的光的强度来对扫描区域的基板的缺陷进行检测，针对每个扫描区域而将检测出的扫描区 域的基板的缺陷的数据(data)予以记忆，并针对每个基板，根据新检测出的扫描区域的基 板的缺陷的数据，来对所记忆的相同扫描区域的基板的缺陷的数据进行更新，根据多个扫 描区域的基板的缺陷的数据来制作1块基板的缺陷的数据，在所述线内基板检查方法中，在对所述基板进行检查的检查区域以外的位置设置校正作业区域，并使所述光学系统可移 动至所述校正作业区域，在所述基板的移动过程中，在所述校正作业区域内进行所述光学 系统的校正作业。本专利技术是一种线内基板检查装置，针对每个基板而取得不同的扫描区域的缺陷的 数据，且针对每个扫描区域而将该缺陷的数据予以记忆，并针对每个基板，根据新检测出的 扫描区域的基板的缺陷的数据，来对所记忆的相同扫描区域的基板的缺陷的数据进行更 新，根据多个扫描区域的基板的缺陷的数据来制作1块基板的缺陷的数据，更迅速地对线 内的基板的缺陷进行检查，在该线内基板检查装置中，设置用以实施光学系统的校正作业 的校正作业(维护)区域，使光学系统的移动行程可移动至该校正作业区域为止，借此，可 在检查区域之外实施光学系统的校正作业，从而可不使制造线停止而进行校正作业。本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线内基板检查装置的光学系统校正方法，一边使基板依次从上游制造线向下游制造线移动，一边借由所述基板移动单元来使包括投光系统及受光系统的光学系统向与移动中的基板正交的方向移动，照射检查光，并且接收来自所述基板的反射光或散射光，基于所接收的来自所述基板的反射光或散射光来对所述基板的缺陷进行检查，其特征在于，在对所述基板进行检查的检查区域以外的位置设置校正作业区域，并使所述光学系统可移动至所述校正作业区域，在所述基板的移动过程中，在所述校正作业区域内进行所述光学系统的校正作业。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：铃木伸治，
申请(专利权)人：株式会社日立高科技，
类型：发明
国别省市：JP[日本]