萘二酮化合物制造技术

技术编号:6272227 阅读:265 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及包含如所示式(I)的化合物的组合物, 其中每个变数定义于说明书中。本发明专利技术还公开了使用这些组合物的方法以治疗 痤疮、牛皮癣及感染性皮肤溃疡。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】萘二酮化合物相关申请本申请主张2006年4月7日提交的美国临时申请No.6(V790259的优先权, 其内容通过引用引入本文。駄舰本专利技术大致涉及用以治疗发炎相关的失调或微生物感染的方法及组合物。 背录技术发炎是身体对损伤、感染、或抗原刺激的防御反应。在某些情况下,发炎 在致病因子移除后仍安然地持续着。例如,其常常和皮肤炎、气喘、及血管生 成相关征兆共存。已经开发了一些用于抑制不欲见的发炎反应的疗法。但是这 些疗法中有许多疗法由于成效不佳或副作用的缘故,并不令人满意。因此仍有 需要一种新疗法,以治疗不欲见的发炎。微生物感染(Microbial infection)是造成发炎的一个主要原因,例如,带 有痤搭杆菌(Propionibacterium acnes)的感染导致青春痘(acne vulgaris)(面 疱(pimples))、皮肤溃疡、及相关性发炎。通常使用抗生素来治疗由痤疮 杆菌或其它微生物所引发的感染。但是因为这些微生物易于产生抗药性,所以 仍然在寻求新的治疗剂,以治疗微生物感染。
技术实现思路
本专利技术涉及用以治疗发炎相关的失调或微生物感染的方法及组合物。 一方面,本专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抑制5-脂氧酶活性的方法,包括将5-脂氧酶与有效量的式(Ⅰ)的化合物接触: *** (Ⅰ), 其中 R↓[1]及R↓[4]每个独立地是H、C↓[1]-C↓[6]烷基或C(O)R↓[a]; R↓[2]、R↓[3]、R↓[5]及R↓[7]每个独立地是H、卤素、氰基、氨硫基、C↓[1]-C↓[6]烷基磺酰基、C↓[1]-C↓[6]芳基磺酰基、C↓[1]-C↓[6]烷基、OR↓[b]、SR↓[b]或NHR↓[b]; R↓[6]为C↓[1]-C↓[6]烷基或C(O)R↓[c];及 R↓[8]及R↓[9]每个独立地是H、卤素、氰、氨硫基、C↓[1]-C↓[6]烷基磺酰基、C↓[1]-C↓[6]芳基磺酰...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:简督宪朱伊文庄武璋李明宗
申请(专利权)人:顺天生物科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71

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