V形沉淀池制造技术

技术编号:6166618 阅读:263 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种V形沉淀池,其包括池体和设于池体内的斜板墙,所述斜板墙由间隔排列的斜板构成,所述斜板墙将所述池体沿水平方向分割出分别位于斜板墙两侧的原水区和清水区,所述斜板墙的斜板低端位于原水区侧,高端位于清水区侧。该V形沉淀池具有充分利用池容空间、有效提高沉淀面积、对原水水量变化适应性强、沉淀负荷高以及无需专门集水设备的V形沉淀池、投资和运行费用低的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于固液分离
,涉及一种水处理设备技术的改进,尤其涉及一种新型V形沉淀池技术。
技术介绍
混凝沉淀工艺是目前给水处理、中水处理和部分污水处理的核心工艺,它承担着水处理中95%以上的负荷,已有150余年的历史。目前国内外现有的常规净水工艺设备主要包括平流沉淀池、斜管沉淀池、机械加速澄清池等等。目前这些工艺主要存在占地大,药剂消耗量大,运行费用高,负荷差等缺点。各种工艺设备的主要特点分别为(1)平流沉淀池传统的平流沉淀池优点是构造简单,工作安全可靠、操作管理方便、施工较简单;缺点是占地面积大、机械排泥设备维护较复杂、土建费用高、处理效率低,要想降低滤前水的浊度就要较大地加大沉淀池的长度。(2)斜管沉淀池斜管沉淀池占地面积较小、沉淀效率高,但需要耗用较多的斜管材料、老化后需定期更换、增加运行费用、对原水水质变化的适应性较差,排泥效果较差,斜管易积泥、很难排净。(3)小间距斜板沉淀池小间距斜板沉淀池是在浅池理论基础上衍生出来的沉淀设备。在实际生产应用中,由于斜板沉淀池清水区与斜板区过流断面的不同所造成的流速差异和沉淀池清水区矾花的沉淀现象,斜板间距过小,易在斜板上表面形成覆本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种V形沉淀池,其包括池体和设于池体内的斜板墙,所述斜板墙由间隔排列的斜板构成,其特征在于:所述斜板墙将所述池体沿水平方向分割出分别位于斜板墙两侧的原水区和清水区,所述斜板墙的斜板低端位于原水区侧,高端位于清水区侧。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐立群张丽刘希邈范志伟
申请(专利权)人:上海立源水处理技术有限责任公司南通立源水业科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:31

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