光学元件制造方法、光学元件技术

本发明专利技术涉及光学元件制造方法、光学元件。本发明专利技术要解决的问题是，准确地划定遮光部、透光部以及移相部。作为解决方法，提供了一种光学元件制造方法，该光学元件具有：对形成在基板上的遮光膜进行构图而成的遮光部；露出基板的一部分表面而成的透光部；以及对所述基板的一部分表面进行蚀刻而成的移相部，其中，该光学元件制造方法具有：准备在基板上依次层叠有遮光膜和第１抗蚀剂膜的光学元件坯体的工序；以及通过对第１抗蚀剂膜进行描绘显影来形成第１抗蚀剂图案的工序，该第１抗蚀剂图案覆盖遮光部的形成预定区域，并且划定移相部的形成预定区域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在基板上形成有具有遮光部、透光部以及移相部的转印图案的透射型 相移掩模等的光学元件及其制造方法。
技术介绍
近年来，公知有在基板(例如石英等透明基板)上形成有具有遮光部、透光部以及 移相部的转印图案的透射型相移掩模等光学元件(例如参照专利文献1)。遮光部是对形成 在基板上的遮光膜进行构图而成的，构成为阻断照射到光学元件上的光。透光部是露出基 板上的一部分表面而成的，构成为透射照射到光学元件上的光。移相部是对露出的基板的 一部分表面进行蚀刻等而成的，构成为使照射到光学元件上的光的相位移动预定量并使其 透射。专利文献1 日本特开2003-330159号公报作为制造上述光学元件的方法，例如考虑图1所例示的方法。首先，准备在基板101上依次形成有遮光膜102、第1抗蚀剂膜103的光学元件坯 体100b (图1(a))。接着，使用光刻技术来形成第1抗蚀剂图案103P，该第1抗蚀剂图案 103p覆盖除了移相部110的形成预定区域110'以外的区域(透光部111的形成预定区域 111'以及遮光部120的形成预定区域120')(图1(b))。接着，将形成的第1抗蚀剂图案 103p作为本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种光学元件制造方法，该光学元件具有：由形成在基板上并被构图后的遮光膜构成的遮光部；露出所述基板的一部分表面而成的透光部；以及对所述基板的一部分表面进行蚀刻而成的移相部，并且该光学元件具有所述移相部与所述透光部邻接的部分，其特征在于，该光学元件制造方法具有：准备在所述基板上依次层叠有所述遮光膜和第１抗蚀剂膜的光学元件坯体的工序；以及对所述第１抗蚀剂膜实施描绘和显影，形成第１抗蚀剂图案的工序，该第１抗蚀剂图案覆盖所述遮光部的形成预定区域，并且划定所述移相部的形成预定区域。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山城一秀，须田秀喜，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]