本发明专利技术公开了一种玻璃镀膜用ZnSn溅射靶材的制造方法，该方法以锌金属块和锡金属块为原料，经铸造模型烘烤，合金熔炼，浇铸，铸锭冷却，然后机加工成成品，合金成分wt％为：Zn?50-95％，Sn?5-50％；在熔炼过程中浇铸温度在液相线以上40℃～80℃，铸造模型烘烤温度在100℃～250℃。本发明专利技术工艺参数易于控制、微观组织均匀、成品无疏松气孔裂纹等缺陷、成品率高。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及合金的制备工艺，具体地说是一种SiSn溅射靶材的制造方法。
技术介绍
节约能源、保护环境是21世纪的主旋律，各国财政均把节能减排作为重点支持的方向。大面积镀膜玻璃作为居室建筑节能减排的一个重要途径，得到世界各国的大力支持。 大面积镀膜玻璃需要的靶材有很多种类，ZnSn溅射靶材便是其中的一种。目前，制造玻璃镀膜用SiSn平面溅射靶材的方法主要有两种1、普通铸造法该方法是将原料加热熔炼，采用板型模型进行铸造，得到一个厚度比所需产品厚度稍大的锭坯，然后将毛坯机加工成成品。该方法的优点是工艺流程较短，技术简单。该方法的缺点是产品成品率低，产品内部的疏松、缩孔无法完全消除。2、压力铸造法该方法是将原料加热熔炼，待合金完全熔化后，采用压力铸造机进行压力铸造，自然冷却，最后将铸锭机加工成成品。该方法的优点是产品较第一种方法成材率高，无疏松、缩孔等铸造缺陷。该方法的缺点是对压力铸造设备能力的要求非常高，一次性投资太大。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的问题，本专利技术的目的是提供一种工艺参数易于控制、微观组织均勻、成品无疏松气孔裂纹等缺陷、成品率高的玻璃镀膜用SiSn溅射靶材的制造方法。为实现上述目的，本专利技术所提供的技术方案为一种玻璃镀膜用SiSn溅射靶材的制造方法，包括以下步骤(1)首先进行配料，按照SiSn合金中Si、Sn重量百分比Si 50 95%、Sn5 50% 称取Si金属块和Sn金属块；(2)然后对铸造模型进行烘烤，将其加热至100°C 250°C，待浇铸时使用；(3)将步骤⑴中的金属块进行冶炼，精炼时间为5 10分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上40 80°C时进行浇铸；(4)浇铸完成后冷却20-40分钟，然后取出铸锭空冷至室温；(5)对冷却至室温的铸锭按照尺寸要求进行机加工，将其加工成符合尺寸精度的 ZnSn溅射靶材。所述Si金属块的纯度(元素重量百分比)在99. 95%以上，所述Sn金属块的纯度也在99. 95%以上。所述铸造模型为顶部浇铸式铸造模型，这样可以使产品微观组织分布均勻、无疏松气孔裂纹等缺陷。有益效果本专利技术工艺参数容易控制，微观组织分布均勻，晶粒细小；无疏松气孔裂纹等缺陷，材料完全密实；铸锭表面无冷隔，喷溅，合金液体完全充满精密铸造模型，产品成材率高。具体实施例方式下面结合具体实施例，进一步阐明本专利技术，本实施例在以本专利技术技术方案为前提下进行实施，应理解这些实施例仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围。实施例一一种玻璃镀膜用SiSn溅射靶材的制造方法，包括以下步骤(1)首先进行配料，选取纯度为99. 95%的Si金属块以及纯度为99. 95%的Sn金属块，按照SiSn合金中Zn、Sn重量百分比Si 95%, Sn 5%称取Si金属块和Sn金属块；(2)然后对顶部浇铸式铸造模型用电阻炉进行加热烘烤，将其加热至250°C，待浇铸时使用；(3)将步骤(1)中的金属块进行冶炼，精炼时间为6分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上80°C时进行浇铸；(4)浇铸完成后冷却40分钟，然后取出铸锭空冷至室温；(5)对冷却至室温的铸锭按照400 X 120 X IOmm进行机加工，将其加工成符合尺寸精度的SiSn溅射靶材。实施例二 一种玻璃镀膜用SiSn溅射靶材的制造方法，包括以下步骤(1)首先进行配料，选取纯度为99. 96%的Si金属块以及纯度为99. 97%的Sn金属块，按照SiSn合金中Zn、Sn重量百分比Si 90%, Sn 10%称取Si金属块和Sn金属块；(2)然后对顶部浇铸式铸造模型用感应炉进行加热烘烤，将其加热至200°C，待浇铸时使用；(3)将步骤(1)中的金属块进行冶炼，精炼时间为7分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上70°C时进行浇铸；(4)浇铸完成后冷却35分钟，然后取出铸锭空冷至室温；(5)对冷却至室温的铸锭按照310 X 120 X IOmm进行机加工，将其加工成符合尺寸精度的SiSn溅射靶材。实施例三一种玻璃镀膜用SiSn溅射靶材的制造方法，包括以下步骤(1)首先进行配料，选取纯度为99. 97%的Si金属块以及纯度为99. 97%的Sn金属块，按照SiSn合金中Zn、Sn重量百分比Si 85%, Sn 15%称取Si金属块和Sn金属块；(2)然后对顶部浇铸式铸造模型用感应炉进行加热烘烤，将其加热至180°C，待浇铸时使用；(3)将步骤⑴中的金属块进行冶炼，精炼时间为8分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上60°C时进行浇铸；(4)浇铸完成后冷却30分钟，然后取出铸锭空冷至室温；(5)对冷却至室温的铸锭按照310 X 120 X IOmm进行机加工，将其加工成符合尺寸精度的SiSn溅射靶材。实施例四一种玻璃镀膜用SiSn溅射靶材的制造方法，包括以下步骤4(1)首先进行配料，选取纯度为99. 98%的Si金属块以及纯度为99. 96%的Sn金属块，按照SiSn合金中Zn、Sn重量百分比Si 80%, Sn 20%称取Si金属块和Sn金属块；(2)然后对顶部浇铸式铸造模型用感应炉进行加热烘烤，将其加热至150°C，待浇铸时使用；(3)将步骤(1)中的金属块进行冶炼，精炼时间为5分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上50°C时进行浇铸；(4)浇铸完成后冷却25分钟，然后取出铸锭空冷至室温；(5)对冷却至室温的铸锭按照310 X 120 X IOmm进行机加工，将其加工成符合尺寸精度的SiSn溅射靶材。实施例五一种玻璃镀膜用SiSn溅射靶材的制造方法，包括以下步骤(1)首先进行配料，选取纯度为99. 95%的Si金属块以及纯度为99. 97%的Sn金属块，按照SiSn合金中Zn、Sn重量百分比Si 60%, Sn 40%称取Si金属块和Sn金属块；(2)然后对顶部浇铸式铸造模型用感应炉进行加热烘烤，将其加热至120°C，待浇铸时使用；(3)将步骤(1)中的金属块进行冶炼，精炼时间为6分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上40°C时进行浇铸；(4)浇铸完成后冷却20分钟，然后取出铸锭空冷至室温；(5)对冷却至室温的铸锭按照310 X 120 X IOmm进行机加工，将其加工成符合尺寸精度的SiSn溅射靶材。实施例六一种玻璃镀膜用SiSn溅射靶材的制造方法，包括以下步骤(1)首先进行配料，选取纯度为99. 98%的Si金属块以及纯度为99. 98%的Sn金属块，按照SiSn合金中Zn、Sn重量百分比Si 50%, Sn 50%称取Si金属块和Sn金属块；(2)然后对顶部浇铸式铸造模型用感应炉进行加热烘烤，将其加热至100°C，待浇铸时使用；(3)将步骤⑴中的金属块进行冶炼，精炼时间为10分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上50°C时进行浇铸；(4)浇铸完成后冷却25分钟，然后取出铸锭空冷至室温；(5)对冷却至室温的铸锭按照310 X 120 X IOmm进行机加工，将其加工成符合尺寸精度的SiSn溅射靶材。本专利技术六个实施例所用原料与工艺步骤、工艺参数和现有技术对比例如表1所示，本专利技术六个实施例与现有技术对比例产品的缺陷情况和成品率对比如表2所示，其中编号1-6为本专利技术实施例一至六，编号7-9为现有技术中压力铸造法的对比例，编号10-12 为现有技术中普通铸本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种玻璃镀膜用ＺｎＳｎ溅射靶材的制造方法，其特征在于包括以下步骤：（１）首先进行配料，按照ＺｎＳｎ合金中Ｚｎ、Ｓｎ重量百分比Ｚｎ ５０～９５％、Ｓｎ５～５０％称取Ｚｎ金属块和Ｓｎ金属块；（２）然后对铸造模型进行烘烤，将其加热至１００℃～２５０℃，待浇铸时使用；（３）将步骤（１）中的金属块进行冶炼，精炼时间为５～１０分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上４０～８０℃时进行浇铸；（４）浇铸完成后冷却２０～４０分钟，然后取出铸锭空冷至室温；（５）对冷却至室温的铸锭按照尺寸要求进行机加工，将其加工成符合尺寸精度的ＺｎＳｎ溅射靶材材。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：马步洋，王浩冰，
申请(专利权)人：江苏美特林科特殊合金有限公司，
类型：发明
国别省市：84
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。