烹调装置制造方法及图纸

为了提供一种烹调装置，该烹调装置具有通过高效地利用烹调装置的后部空间而具有高度和宽度增加的烹调腔。本发明专利技术公开了一种烹调装置，包括：烹调腔；以及部件室，位于烹调腔的后侧并设置有用于烹调腔内的烹调处理的多个部件。通过此结构，烹调装置具有高度和宽度增加的扩展烹调腔。尽管常规烹调装置的烹调腔的更改受其中的圆形转盘的限制，但利用搁物架或盘子代替所述转盘可消除这种限制。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体涉及一种烹调装置，更具体而言，涉及一种使用磁控 管和加热器、并通过将多个部件安装于烹调腔的后部空间而具有在高 度和宽度上扩展的烹调腔的烹调装置。
技术介绍
韩国专利申请公开No. 2005-0083504公开了一种烹调装置的典型实例，该烹调装置具有设置于烹调腔一侧的主要部件，包括磁控管、高压变压器、高压电容器以及冷却风扇。韩国专利申请公开No. 2006-0037003公开了一种烹调装置，该烹调装置具有安装于烹调腔上 侧的主要部件、并将对流加热器组件容纳于该烹调腔的后壁，这些主 要部件包括磁控管、高压变压器以及高压电容器。韩国技术申 请公开No.1999-0010444公开了一种烹调装置，该烹调装置具有设置于烹调腔下面的主要部件和操作板，这些主要部件包括磁控管、高压变压器、高压电容器以及冷却风扇。另外，韩国技术申请公开No. 1998-0016489公开了一种烹调 装置，该烹调装置具有安装于烹调腔侧壁的主要部件，并设置有从该 烹调腔的顶壁开始直到其横向侧的冷却流道，这些主要部件包括磁控 管、高压变压器以及冷却风扇。韩国专利申请公开No. 1998-0053939公开了作为烹调装置典型实 例的微波炉的门，其中，该门设置有用于阻挡微波的门框以及环绕该 门框的阻流盖。韩国专利申请公开No. 1995-0003729公开了一种烹调装置，该烹调装置具有从烹调腔的横向侧开始、经过烹调腔的底侧而到达门的烹调流道。韩国专利申请公开No. 2004-0108050公开了烹调装置中所使用的操作面板的示例，其中，该操作面板设置有使用静电的玻璃触摸键盘。专利技术内容技术问题本专利技术的一个目的是提供一种烹调装置，通过有效地利用该烹调装置的后部空间，该烹调装置具有高度和宽度增加的烹调腔。本专利技术的另一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置使得能有效利用容纳对流加热器组件的烹调装置后部空间。本专利技术的另一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置具有安装于该烹调装置后部空间的诸如磁控管、高压变压器以及高压电容器之类的加热元件，并具备有效地对这些加热元件进行冷却的能力。本专利技术的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置具有安装于该烹调装置后部空间的下部的冷却风扇，借此产生冷却流道，并且该烹调装置具有安装在上述用于冷却的冷却流道上的主要部件。本专利技术的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置利用搁物架或盘子代替转盘，并充分利用烹调装置的后部空间，以便能调节烹调腔的高度、宽度以及深度。技术方案为了实现上述目的和优点，提供了一种烹调装置，包括烹调腔；以及部件室，位于烹调腔后侧并设置有用于烹调腔内的烹调处理的多个部件。通过此结构，该烹调装置具有高度和宽度增加的扩展烹调腔。尽管常规烹调装置的烹调腔的更改受其中的圆形转盘的限制，但利用搁物架或盘子代替转盘可消除这种限制。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括定位于部件室的下面、用以冷却多个部件的至少部分部件的冷却风扇。通过此结构，位于烹调腔后面的多个部件能被更有效地冷却。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括位于部件室的下面、用以冷却多个部件的冷却风扇，该冷却风扇被定位于上述多个部件下面。通过此结构，位于烹调腔后面的多个部件能被有效地冷却。在本专利技术的另一方面中，该多个部件包括磁控管，且烹调腔设置有与该烹调腔顶面处的磁控管连通的端口。通过此结构，能有效地将微波供应至利用盘子代替转盘的烹调装置，且因安装了多个部件而导致备用室有限的后部空间也能被有效利用。在本专利技术的另一方面中，该多个部件包括对流加热器组件、磁控管、高压变压器以及高压电容器中的至少两个。通过此结构，能将大体积部件布置于烹调腔的后面，借此使得烹调装置具有高度和宽度增加的扩展烹调腔。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括沿着部件室的宽度方向而定位、用以冷却多个部件的冷却风扇。通过此结构，位于烹调腔后面的多个部件能被有效地冷却。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括冷却风扇，该冷却风扇位于部件室内、用以冷却多个部件并产生用于冷却多个部件中的至少两个的多个分开的强制流。通过此结构，可对因体积很大而被分散定位的需要冷却处理的各部件进行有效、高效以及选择性的冷却。8在本专利技术的另一方面中，该多个部件包括对流加热器组件、磁控管、高压变压器以及高压电容器中的至少两个；且该装置还包括冷却风扇，该冷却风扇位于部件室内、用以冷却该多个部件并产生用于冷却该多个部件中的至少两个的多个分开的强制流。在本专利技术的另一方面中，提供了一种烹调装置，包括烹调腔，在其横向侧处设置有气流入，口；风扇，位于烹调腔的后侧处并产生气流；以及气流导向件，该气流导向件将从风扇产生的气流导向至气流入口。通过此结构，能通过利用位于烹调腔后侧处的风扇而更有效地将气流导入该烹调腔。在本专利技术的另一方面中，气流导向件从烹调腔的后侧朝着气流入口延伸。在本专利技术的另一方面中，提供了一种烹调装置，包括烹调腔；部件室，位于烹调腔的后面，并具有包括磁控管、以及对流加热器组件、高压变压器和高压电容器中的至少一个的多个部件；冷却风扇，位于部件室的下侧、用以冷却该多个部件中的至少部分部件并产生流；以及将该流导向至磁控管的流导向件。通过此结构，磁控管能被有效地冷却。在本专利技术的另一方面中，提供了一种烹调装置，包括烹调腔；以及冷却风扇，沿着烹调腔的宽度方向而定位于该烹调腔的后面。通过此结构，沿着烹调腔的宽度方向而定位的多个部件能被有效地冷却。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括多个部件，这些部件位于烹调腔后面的冷却风扇上方，并设置有对流加热器组件、磁控管、高压变压器以及高压电容器中的至少两个。在本专利技术的另一方面中，提供了一种烹调装置，包括烹调腔；位于该烹调腔上方的上部空间；位于该烹调腔后方的后部空间；覆盖该烹调腔和上部空间的门；以及冷却风扇，位于后部空间的下面并产生流。通过此结构，将在烹调腔中的烹调处理所必需的部件布置在上部空间和后部空间内、并有效地冷却这些部件是可能的。在本专利技术的另一方面中，上述门设置有与上部空间连通的开口。通过此结构，能利用冷却风扇对该门进行冷却。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括设置于上部空间并加热烹调腔的加热器。通过此结构，有效地利用上部空间、并由冷却风扇有效地冷却该上部空间是可能的。在本专利技术的另一方面中，提供了一种烹调装置，包括烹调腔；位于该烹调腔上方的上部空间；位于该烹调腔后方的后部空间；覆盖该烹调腔和上部空间的门；以及控制面板，位于门的覆盖上部空间的区域。由于控制面板安装于上述门处，而必需的部件定位于上部空间和后部空间内，因此烹调腔能在高度和宽度上扩展。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括位于后部空间的下侧、并产生流的冷却风扇。通过此结构，后部空间、上部空间和/或上述门能被有效地冷却。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括形成跨过后部空间的分隔壁，该分隔壁与其上方的后部空间连通，并防止流从分隔壁上方的后部空间运动到冷却风扇。通过此结构，形成朝向后部空间、上部空间和/或上述门的气流是可能的。这里要注意的一件事是这种分隔壁可具有能阻挡至少部分反向流动的结构。在本专利技术的另一方面中，该烹调装置包括位于上部空间、并与控制面板协作的中继衬底(relay substrate)。通过此结构，能有效地将具10有大本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种烹调装置，包括：　烹调腔；以及　部件室，所述部件室位于所述烹调腔的后侧并设置有用于所述烹调腔内的烹调处理的多个部件。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：金寿焕，
申请(专利权)人：LG电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]