【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
制备通式Ⅰ的化合物的方法： ＊＊＊ 其中，彼此独立， Ｒ↓［１］表示氢或酯、醚或糖残基； Ｒ↓［２］表示氢；并且 Ｒ↓［３］表示氢或糖残基； 或者其被保护的形式，其中基团Ｒ↓［１］和Ｒ↓［３］任何一个或多个彼此独立，被可以除去的保护基的保护，以防止所述基团的不希望的反应， 其包括在合适的溶剂中使用硼氢化物还原剂选择性还原通式Ⅱ的二酮化合物 ＊＊＊ 其中，彼此独立， Ｒ↓［１］表示氢或酯、醚或糖残基；并且 Ｒ↓［３］表示氢或糖残基； 或者其被保护的形式，其中基团Ｒ↓［１］和Ｒ↓［３］任何一个或两个彼此独立，被可以除去的保护基的保护，以防止所述残基的不希望的反应。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：程水红，杜宇国，马百平，李鲁，赵阳，
申请(专利权)人：中国人民解放军军事医学科学院放射与辐射医学研究所，
类型：发明
国别省市：11[]
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