硬涂膜、其制造方法及防反射膜技术

本发明专利技术提供一种硬涂膜，是层合了硬涂层的热塑性膜，具有优异的表面硬度，且抑制干涉图案生成，用作防反射膜时不破坏图像鲜明性，能够抑制画面闪烁或外部光反射、反射光的着色不均。本发明专利技术的硬涂膜的特征在于，在聚酯膜的至少单面层合在表面、及、聚酯膜和硬涂层的界面具有凹凸结构的硬涂层，所述硬涂层表面的３维表面粗糙度参数中，算术平均粗糙度Ｓａ为１５ｎｍ以上、低于１５０ｎｍ，且表面高度分布的峰度Ｓｋｕ为１．５以上、５以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种硬涂膜及其制造方法、以及使用此硬涂膜的防反 射膜。详细而言，本专利技术涉及适于显示器用防反射膜或触摸显示屏用 膜的硬涂膜，其特征在于，耐划痕性优异、干涉图案少、且对表层进行防反射加工时反射光的着色不均极少，特別是具有以下特征作为 防反射膜用于等离子电视的滤光片时，能够赋予防反射效果和透射图 像鲜明度、減少画面闪烁。
技术介绍
双轴取向聚酯膜由于具有机械特性、尺寸稳定性、耐热性、透明 性及电绝缘性等优异的特性，所以被用于磁记录材料、包装材料、电 绝缘材料、各种摄影应用、图版工艺(graphic arts)、光学显示材料 等多种用途。但是，表面硬度不充分，所以有与其它硬物接触、摩4察、 划刮等易损伤表面的缺陷。为了解决上述问题，目前采用层合各种硬 ;余层的方法。由于双轴取向聚酯膜具有高度的结晶取向性，所以直接设置硬涂 层时粘合性不充分，因此，通常采用在聚酯膜上间隔粘合层设置硬涂 层的方法。采用上述方法、或者直接在双轴取向聚酯膜上设置硬涂层的情况 下，硬涂层和作为与硬涂层接触的层的双轴取向聚酯膜面或粘合层面 之间产生面内折射率差，因此，用于光学用途、例如用作防反射膜或 触摸显示屏用膜的基材时，产生与硬涂层厚度不均对应的干涉图案。用于上述用途时，千涉图案的产生显著影响显示器的可见性。为 了改善此现象，进行了如下研究'.提高涂膜厚度的精度或增加硬涂层 的折射率，从而减小与基材膜的折射率差(专利文献l)。另外，还提出了以下方法，即，利用热压法对基材膜的表面进行锤压凸出加工、 赋予表面凹凸，在此面上设置硬涂层的方法(专利文献2);使用硬 涂层形成涂料，在涂布时使基材溶解或者膨润的方法，所述涂料使用溶解基材膜的溶剂(专利文献3);转印形状赋型膜的方法(专利文 献4);向硬涂层中添加粒子形成凹凸结构使光散射的方法(专利文 献5)等。然而，很难使硬涂层或粘合层的折射率与作为普通双轴取 向聚酯膜的面内折射率的1.60 1.65左右相一致，采用现有技术不能 获得满足条件的膜，尚不能达到完全消除干涉图案的程度。另外，均 匀地涂布硬涂层使其厚度达到无千涉图案的程度，是极其困难的。另外，仅采用在基材膜表面利用热压等方法形成凹凸、设置硬涂 层的方法时，尽管干涉图案变得稍难看清，但仍存在不能获得充分的 反射抑制效果的问题。进而，使基材膜溶解或膨润的方法，在为双轴 取向的聚酯膜时，由于耐溶剂性优异，故几乎没有合适的溶剂，唯一 能够使用的邻氯苯酚存在污染操作环境、或不易除去等问题。另外， 在基材膜和硬涂层的界面形成混合层导致雾度增大，用于显示器时存 在透射图像的鲜明度降低的问题，或由于表面的硬涂层变得较平滑， 故不能期待外部光反射的改善效果。并且，普通的硬涂层极其平滑，故存在以下问题在硬涂层上进 行防反射加工时，防反射层表面的反射光强度的波长依赖性变大，可 看到较强的特定颜色，或防反射层的涂布不均导致颜色不均。另外，将赋型膜的凹凸结构转印到硬涂层上的方法可能混入来自 赋型膜的异物，同时凹凸结构的倾斜角增大，易发生画面闪烁。向硬 涂层中添加粒子使硬涂层表面形成凹凸结构的方法，虽然能够呈现防 止干涉图案或反射的效果，但是存在画面闪烁增强、使可见性降低的 问题。专利文献l:特开2002- 241527号公报 专利文献2:特开平8 - 197670号公报 专利文献3:特开2003 - 205563号公氺艮 专利文献4:特开2004 - 341553号公报5专利文献5:特开2003 - 75604号公报
技术实现思路
本专利技术的硬涂膜及使用其的防反射膜解决了上述问题，干涉图案 或表面反射光的着色不均减低，并且用于等离子电视的前面滤色片 时，图像鲜明、且画面不均少，赋予防反射效果。为了实现上述目的，进行了潜心研究，结果，本专利技术具有以下特 征。即，(1) 一种硬涂膜，在聚酯膜的至少单面层合硬涂层，所述硬涂 层在表面及聚酯膜和硬涂层的界面具有凹凸结构，该硬涂层表面的3维表面粗糙度参数中， 算术平均粗糙度Sa为15nm以上、不足150nm, 且表面高度分布的峰度Sku为1.5以上、5以下；(2) 如权利要求l所述的硬涂膜，在硬涂层和聚酯膜的界面，聚 酯膜面具有凹凸结构，该凹凸结构的凸部的剖面方向的硬涂层表面形(3) 如(1)或(2)所述的硬涂膜，其中，硬涂层是通过热固 化形成的层；(4) 如(1) ~ (3)中任一项所述的硬涂膜，其中，聚酯膜含 有紫外线吸收剂；(5) 如(1) ~ (4)中任一项所述的硬涂膜，其中，硬涂层的 凹凸结构不是由硬涂层及聚酯膜中的粒子形成的；(6) 如(1)、 (3)、 (4)、 (5)中任一项所述的硬涂膜， 在硬涂层和聚酯膜的界面，聚酯膜面具有凹凸结构，该凹凸结构的凸 部的剖面方向的硬涂层表面形状为凸部，且至少 一个方向的在150°C 下30分钟的热收缩率为0.8%以下；(7) 如(1) ~ (6)中任一项所述的硬涂膜，其中，硬涂层表 面的垂直的2个方向各自的算术平均倾斜角Aal、 Aa2的平均值Aa:(Aal + Aa2) / 2为0.2 ~ l.Odeg;(8) 如(1) ~ (7)中任一项所述的硬涂膜，其中，硬涂层表面的3维表面粗糙度参数的算术平均粗糙度Sa ( Sal )和聚酯与硬涂层 界面的Sa(Sa2)之比Sa2/Sal为2以上20以下；(9) 如(1) ~ (8)中任一项所述的硬涂膜，其中，硬涂层的 Sku为1.5以上3以下；(10) 如(1) ~ (9)中任一项所述的^^涂膜，其中，硬涂膜的 雾度不足3%;(11 ) 一种防反射膜，在(1 )所述的硬涂层上形成折射率在1.45 以下的低折射率层、或者间隔折射率在1.55以上的高折射率层形成折 射率在1.45以下的低折射率层而构成；(12) 如(11 )所述的防反射膜，其特征在于，防反射膜在波长 380nm处的透过率为5。/c)以下，且雾度低于4%;(13) —种硬涂膜的制造方法，在聚酯膜制造工序内沿着长度方 向4i伸后涂布硬涂层涂布组合物，然后，连续地导入拉幅机，沿着宽 度方向微微拉伸l.l ~ 1.8倍后，再拉伸2.5 3.5倍，接下来， 一边使硬 涂层热固化， 一边沿宽度方向进行3 ~ 7%的松弛处理；(14) 如权利要求13所述的硬涂膜的制造方法，在所述3~7%的 松弛处理后，进一步在200。C 240。C下沿着长度方向及/或宽度方向 进4亍1.5~ 15%的松弛处理。本专利技术的硬涂膜及防反射膜通过具有上述特征，减少了干涉图 案，且降低了防反射加工后表面反射光的着色不均，因此，在用于显 示器用途等时，可见性优异，进而用于等离子显示器的前面滤色片时 具有防反射效果、可见性优异，且图像鲜明、能够防止画面闪烁。具体实施例方式本专利技术为在聚酯膜的至少单面层合硬涂层的硬涂膜及使用其的 防反射膜，其特征在于，在该硬涂层表面、及、聚酯膜和硬涂层的界 面具有凹凸结构，该硬涂层表面的3维表面粗糙度参数中，算术平均 粗糙度Sa为15nm以上、低于150nm,并且表面高度分布的峰度Sku为1.5以上、5以下。作为本专利技术中的基材聚酯膜的聚酯，可以举出聚对 苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二曱酸乙二醇酯、聚对苯二曱酸丙二醇酯、 聚对苯二曱酸丁二醇酯及聚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硬涂膜，　在聚酯膜的至少单面层合硬涂层，所述硬涂层在表面及聚酯膜和硬涂层的界面具有凹凸结构，　所述硬涂层表面的３维表面粗糙度参数中，　算术平均粗糙度Ｓａ为１５ｎｍ以上、低于１５０ｎｍ，　且表面高度分布的峰度Ｓｋｕ 为１．５以上、５以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2006-10-6 274832/20061、一种硬涂膜，在聚酯膜的至少单面层合硬涂层，所述硬涂层在表面及聚酯膜和硬涂层的界面具有凹凸结构，所述硬涂层表面的3维表面粗糙度参数中，算术平均粗糙度Sa为15nm以上、低于150nm，且表面高度分布的峰度Sku为1.5以上、5以下。2、 如权利要求l所述的硬涂膜，其中，在硬涂层和聚酯膜的界面，于聚酯膜面具有凹凸结构，所述凹凸结构的凸部的剖面方向的硬涂层表面形状为凹部。3、 如权利要求l所述的硬涂膜，其中，硬涂层是通过热固化形成的层。4、 如权利要求l所述的硬涂膜，其中，聚酯膜含有紫外线吸收剂。5、 如权利要求l所述的硬涂膜，其中，硬涂层的凹凸结构并不是由硬涂层及聚酯膜中的粒子形成的。6、 如权利要求l所述的硬涂膜，其中，在硬涂层和聚酯膜的界面，聚酯膜面具有凹凸结构，所述凹凸结构的凸部的剖面方向的硬涂层表面形状为凸部，且至少一个方向的150匸30分钟的热收缩率为0.8%以下。7、 如权利要求l所迷的硬涂膜，其中，硬涂层表面的相垂直的2个方向各自的算术平均斜度Aal、 Aa2的平均值Aa^ (Aal+Aa2)/2为0.2~...

【专利技术属性】
技术研发人员：小岛聪史，三村尚，阿部悠，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]