【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及蒸镀源,和使用该蒸镀源的装置。
技术介绍
历来,对于蒸镀装置的蒸发容器(坩埚),使用石墨制的容器。由于石墨制的坩埚 需要某种程度的壁厚,所以坩埚变重,热容变大。因此,坩埚的温度响应性差,难以正确地控制坩埚内的蒸镀材料的温度。另外,在 作为蒸镀材料而将有机材料填充于坩埚的情况下,根据有机材料的种类,存在有机材料渗 入坩埚的情况。专利文献1 日本专利申请特开2005-97730号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术是为了解决上述课题而完成的,其目的在于提供一种温度响应性高,且蒸 镀材料难以渗入蒸发容器的蒸镀源。用于解决课题的方案为了解决上述课题,本专利技术是蒸镀源,其构成为具有环状的加热装置;以及被插 入上述加热装置,并配置有机材料蒸发容器,当上述加热装置发热时,上述有机材料被加 热,从上述蒸发容器释放上述有机材料的蒸气,其中,上述蒸发容器是由铜、铜/铍合金、Ti 或Ta的任一种金属材料构成,侧壁与底壁被成形为0. 3mm以上0. 7mm以下的厚度。本专利技术是蒸镀源,其中,构成为在上述加热装置的周围配置有水冷护罩,上述加热 装置的外周 ...
【技术保护点】
一种蒸镀源,其构成为,具有:环状的加热装置;以及被插入上述加热装置,并配置有机材料的蒸发容器,当上述加热装置发热时,上述有机材料被加热,从上述蒸发容器释放上述有机材料的蒸气,其中,上述蒸发容器是由铜、铜/铍合金、Ti或Ta的任一种金属材料构成,侧壁与底壁被成形为0.3mm以上0.7mm以下的厚度。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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