电子材料用清洁剂制造技术

本发明专利技术提供一种磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料用清洁剂，其可对磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料基板的表面赋予适度的蚀刻性，而不会损及该些基板表面的平坦性，并且该清洁剂藉由使用界面活性剂而使自基板表面脱离的颗粒的分散性提高，而实现优异的颗粒除去性，藉此，提高制造良率以及在短时间内完成清洁率极高的高度清洁。该电子材料用清洁剂含有界面活性剂（Ａ），上述清洁剂的特征在于：在用作清洁液时的有效成分浓度下、２５℃下的ｐＨ值及氧化还原电位（Ｖ）［单位为ｍＶ，ｖｓＳＨＥ］满足下述数式（１）。Ｖ≤－３８．７×ｐＨ值＋５５０????（１）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于一种电子材料用清洁剂，更详细而言，本专利技术是关于一种磁光盘(magneto-optical disk) 基板、平面显示器(flat panel display)基板及光罩(photomask)基板等电子材料用清洁剂。
技术介绍
磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料的清洁技术中，在制造步骤 中残留在基板上的微量的有机物污渍、玻璃屑(glass cullet)以及砥粒(abrasive grain) 等杂质会对电子材料的性能或良率造成较大的影响，因此杂质控制变得极为重要。尤其是 由于作为清洁对象的杂质越来越微粒(颗粒，particle)化，比先前更容易附着、残留在界 面上，故而迫切要求确立高度清洁技术。因此，为了防止由这些颗粒所造成的污染，例如在日本专利特开平11-43791号公 报、日本专利特开2001-276759号公报、以及日本专利特开2002-212597号公报中，提出了 使用界面活性剂来提高颗粒除去性的方法。但是，在磁光盘用基板中的特别是铝基板的制造步骤中，包含在基板表面电镀 作为非磁性层的Ni-P层，然后使用氧化铝浆料(alumina slurry)及硅酸胶(colloidal silica)来进行研磨并进行镜面抛光(mirror finish)的步骤；以及之后视需要使用钻石 浆料(diamond slurry)等来使基板表面纹理化(texturing)的步骤，由此存在如下问题 在这些步骤中，研磨剂或研磨屑牢固地附着在基板表面，无法在清洁步骤中将所附着的研 磨剂或研磨屑充分除去。另外，在磁光盘用基板中的特别是玻璃基板的制造步骤中，包含 以氧化铈来进行研磨并进行镜面抛光的步骤、以及之后视需要使用钻石浆料等来使基板表 面纹理化的步骤，由此存在如下问题在这些步骤中，研磨剂或研磨屑牢固地附着在基板表 面，无法在清洁步骤中将所附着的研磨剂或研磨屑充分除去。另外，在平面显示器基板或光 罩基板的制造步骤中，存在下述问题自素玻璃(mother glass)上视需要切割适当大小的 玻璃基板时所产生的玻璃碎屑(通称玻璃屑)、飞溅于无尘室内(clean room)的加工油等 有机物污渍、或者在对基板表面或端面进行研磨的步骤中所使用的研磨剂或研磨屑等会牢 固地附着在基板表面，无法在清洁步骤中充分除去。由于这些以研磨剂、研磨屑以及有机物污渍为代表的颗粒牢固地附着在基板表 面，故而为了将这些颗粒充分除去，必须对基板或研磨剂表面稍加蚀刻(etching)，使颗粒 分散至液体中，并且尽量使分散在液体中的颗粒不会再次附着于基板表面。其中，在日本 专利特开平11-43791号公报中提出了如下方法，即，使用含有对研磨剂的吸附量大于等于 5mg/m2、且数量平均分子量大于等于100,000的凝集剂以及界面活性剂，并且10vol%水 溶液的表面张力小于等于30dyne/cm的清洁剂组成物，来使作为清洁对象的研磨剂微粒凝 集、粗大化，从而防止微粒再次附着，但是当少许经粗大化的粒子附着在基板表面时有可能 会引起严重的问题。而且，在日本专利特开平11-43791号公报中，对上述清洁剂组成物的 具体成分调配未作说明。另外，日本专利特开2001-276759号公报中所提出的清洁剂是溶解有氟化氢及臭氧(ozone)的清洁液，若利用该清洁剂，则虽可期待藉由蚀刻而将牢固地 附着在基板表面的颗粒除去的效果，但是存在以下问题由于清洁液中含有氟离子而导致 在废水处理上会耗费巨大的成本，而且，由于该清洁液的蚀刻性过强而导致在清洁时会损 害基板的平坦性。另外，藉由使玻璃基板以及研磨粒表面的动电位(zeta potential)为 负(minus)值，可防止颗粒再次附着，但是此防止效果并不充分。除此以外，日本专利特开 2002-212597号公报中所提出的清洁剂中，可藉由使用阴离子性界面活性剂而使防止颗粒 再次附着的效果得到某种程度的改善，但是由于该清洁剂几乎不具有蚀刻性，故而颗粒除 去性不充分，清洁性不充分
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电 子材料用的清洁剂，该清洁剂可对磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料基 板的表面赋予适度的蚀刻性，而不会损及该等基板表面的平坦性，并且该清洁剂藉由使用 界面活性剂而使自基板表面脱离的颗粒的分散性提高，从而实现了优异的颗粒除去性，藉 此，可提高制造时的良率，并且可实现能够在短时间内完成清洁的效率极高的高度清洁。本专利技术人们为了解决上述课题而进行锐意研究，结果发现，根据清洁剂在使用时 的PH值的不同，存在较佳的氧化还原电位(oxidationreduction potential，0RP)，从而达 成了本专利技术。SP，本专利技术是(第一专利技术)一种电子材料用清洁剂，其含有界面活性剂(A)，该清洁剂的特征在 于，在用作清洁液时的有效成分浓度下、25°C下的pH值及氧化还原电位(V)满足下述数式(1)；V 彡-38. 7 XpH 值+550 (1)(第二专利技术)一种电子材料用清洁液，其含有界面活性剂(A)，该清洁液的特征在 于，有效成分浓度为0.01wt% 15wt% (重量百分比)，25°C下的pH值及氧化还原电位(V) 满足下述数式(1)；V 彡-38. 7 XpH 值+550 (1)(第三专利技术)一种电子材料的清洁方法，其在上述清洁液中对电子材料进行清洁； 以及(第四专利技术)一种电子材料的制造方法，其包含使用上述清洁方法来对电子材料 进行清洁的步骤。本专利技术的清洁剂具有下述优点对在制造磁光盘基板(尤其是磁光盘用玻璃基板 以及经实施M-P电镀的磁光盘用铝基板)、平面显示器基板、及光罩基板等电子材料的步 骤中成为问题的微细颗粒的清洁性优异，可在短时间内高效率地进行清洁，而不会对电子 材料表面造成损伤(damage)。为让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例， 并配合所附图式，作详细说明如下。附图说明无具体实施例方式当电子材料为磁光盘用玻璃基板、平面显示器基板或光罩基板时，本专利技术的第一专利技术的清洁剂在用作清洁液时的有效成分浓度下、25°C下的pH值较好的是1 13，更好的 是1 5或8 13，特别好的是1 4或9 13，最好的是1 3或10 13。当pH值在 该范围内时，清洁剂具有适度的蚀刻性而不会损害基板的平坦性，并且容易发挥出防止微 细颗粒再次附着性优异的效果。同样就效果的观点而言，当电子材料为磁光盘基板用铝基板 时，上述PH值较好的是5 13，更好的是6 12，特别好的是6. 5 11，最好的是7 10。另外，尤其是当被清洁物为后述电子材料的研削步骤或研磨步骤中所使用的氧化 铈时，清洁液较好的是酸性，当被清洁物为氧化铝、硅酸胶或钻石时，清洁液较好的是碱性。本专利技术的清洁剂含有界面活性剂(A)，并且视需要而含有水(较好的是离子交换 水或超纯水，以下的水也与此相同)。本专利技术的清洁剂的有效成分浓度通常为lwt% IOOwt%，较好的是2% 50% (以下，只要无特别说明，则％表示)，当将本专利技术的清洁剂用作清洁液时，通常用水来 加以稀释。而且，本专利技术的清洁剂用作清洁液时的有效成分浓度较好的是0.01% 15%， 更好的是0.05%本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子材料用清洁剂，其含有界面活性剂（Ａ），该清洁剂的特征在于：在用作清洁液时的有效成分浓度下、２５℃下的ｐＨ值及氧化还原电位（Ｖ）［单位为ｍＶ，ｖｓＳＨＥ］满足下述数式（１）：Ｖ≤－３８．７×ｐＨ值＋５５０（１）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木一充，杉山彩代，胜川吉隆，
申请(专利权)人：三洋化成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]