一种具有双硬化层的光学薄膜制造技术

一种具有双硬化层的光学薄膜，它包括透明基材和涂覆在透明基材上下两个表面的第一硬化层和第二硬化层，其中第二硬化层的表面具有凹坑，凹坑所占的面积之和与所述硬化层的面积之比为２：１００～９９：１００。本实用新型专利技术通过设置在硬化层表面的凹坑，达到光学薄膜需要添加颗粒时才能具有的效果，降低了摩擦系数，提高了薄膜的表面爽滑性，解决了薄膜表面因颗粒聚集引起的瑕疵点问题，并同时保持的薄膜的高透光率，可广泛应用触摸屏领域。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种具有双硬化层的光学薄膜
本技术涉及一种光学薄膜，特别涉及一种具有双硬化层的光学薄膜。技术背景在各种光学机器或荧光屏、液晶显示器等显示装置领域，通常以聚酯薄膜为支持 体，在其一面涂敷硬化层，在它的另一面蒸镀一层导电材料，以实现触控导电功能。为了提 高触摸屏的导电性能，有人在蒸镀导电材料之前在支持体表面先涂敷一层硬化层，以增加 支持体表面的致密性，从而达到在不增加导电材料厚度的情况下降低表面方阻，提高导电 性能。然而，带有双面涂层的聚酯薄膜在蒸镀导电材料之前通常是收卷后成卷存放的，由于 它的两个表面都有涂层，并且这两个涂层都过于致密，薄膜在收卷时会紧密接触，导致薄膜 在收卷过程中发涩，产生相对位移的阻力较大，聚集在薄膜卷之间的空气不容易释放出来， 在存放的过程中造成薄膜表面出现水印，这些水印在后期加工过程中一直存在，最终影响 显示屏幕的外观。为了改善这种薄膜的发涩性，有人提出，在薄膜的一个涂层加入颗粒，使 颗粒突出在涂层的表面，提高其爽滑性，此种方法虽能解决发涩现象，但是，颗粒的加入会 降低薄膜的光线透过率，另外，加入的颗粒在涂层固化前容易聚集，产生堆积团，影响光学 膜的表观均一性，这些缺陷反映在显示装置上就是视野中的瑕疵点。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种具有双硬化层的光学薄膜。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案一种具有双硬化层的光学薄膜，它包括透明基材和涂覆在透明基材上下两个表面 的第一硬化层和第二硬化层，其中第二硬化层的表面具有凹坑，凹坑所占的面积之和与所 述硬化层的面积之比为2 :100 99 :100。上述光学薄膜中，所述凹坑的最大几何尺寸在0. 01 μ m 10 μ m。上述光学薄膜中，所述凹坑随机排列在硬化层的表面。与现有技术相比，本技术提供的光学薄膜的双硬化层中不含有颗粒，而是通 过设置在硬化层表面的凹坑，将凹坑所占的面积之和与所述硬化层的面积之比控制在2 100 99 100的范围内，有效地解决了含有双面硬化层的光学薄膜在收卷过程出现发涩、 存放过程中容易造成表面出现水印的问题，避免了薄膜表面因颗粒聚集而造起的瑕疵点问 题，同时还保持的薄膜的高透光率。附图说明图1是本技术结构剖面示意图。图中各标号表示为1、透明基材；2、第一硬化层；3、第二硬化层；4、凹坑。具体实施方式以下结合附图和实施例对本技术作进一步详细说明，但本技术的保护并 不局限于以下实施例。实施例1如图1所示，本技术的光学薄膜包括一个透明基材1，该透明基材为厚度 30 400微米的聚对苯二甲酸乙二醇酯层；一个第一硬化层2，该硬化层由丙烯酸树脂、光 引发剂和丁酮溶剂混合制备的硬化涂布液在透明基材上的一面涂覆、固化而成；一个具有 凹坑4的第二硬化层3，该硬化层由丙烯酸树脂0、光引发剂和丁酮溶剂混合制备的硬化涂 布液涂覆在透明基材的另一面，经过预处理，然后经紫外光照射而成，凹坑的最大几何尺寸 在0. 01 μ m,凹坑随机排列在硬化层的表面，凹坑所占的面积之和与硬化层的面积之比为 2:100。实施例2凹坑的最大几何尺寸在0. 5 μ m，凹坑随机排列在硬化层的表面，凹坑所占的面积 之和与硬化层的面积之比为18:100。其余同实施例1。实施例3凹坑的最大几何尺寸在1. 0 μ m，凹坑随机排列在硬化层的表面，凹坑所占的面积 之和与硬化层的面积之比为40:100。其余同实施例1。实施例4凹坑的最大几何尺寸在3. 0 μ m，凹坑随机排列在硬化层的表面，凹坑所占的面积 之和与硬化层的面积之比为55:100。其余同实施例1。实施例5凹坑的最大几何尺寸在5. 0 μ m，凹坑紧密排列在硬化层的表面，凹坑所占的面积 之和与硬化层的面积之比为70:100。其余同实施例1。实施例6凹坑的最大几何尺寸在7. 0 μ m，凹坑紧密排列在硬化层的表面，凹坑所占的面积 之和与硬化层的面积之比为85:100。其余同实施例1。实施例7凹坑的最大几何尺寸在10. 0 μ m,凹坑紧密排列在硬化层的表面，凹坑所占的面积 之和与硬化层的面积之比为99:100。其余同实施例1。权利要求1.一种具有双硬化层的光学薄膜，它包括透明基材(1)和涂覆在透明基材上下两个表 面的第一硬化层(2)和第二硬化层(3)，其特征在于，其中第二硬化层(3)的表面具有凹坑 (4)，凹坑所占的面积之和与所述硬化层的面积之比为2 100 99 :100。2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述凹坑的最大几何尺寸在 0. 01 μ m ~ 10 μ m。3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其特征在于，所述凹坑随机排列在硬化层的表专利摘要一种具有双硬化层的光学薄膜，它包括透明基材和涂覆在透明基材上下两个表面的第一硬化层和第二硬化层，其中第二硬化层的表面具有凹坑，凹坑所占的面积之和与所述硬化层的面积之比为2100～99100。本技术通过设置在硬化层表面的凹坑，达到光学薄膜需要添加颗粒时才能具有的效果，降低了摩擦系数，提高了薄膜的表面爽滑性，解决了薄膜表面因颗粒聚集引起的瑕疵点问题，并同时保持的薄膜的高透光率，可广泛应用触摸屏领域。文档编号G02B1/10GK201819997SQ20102056844公开日2011年5月4日 申请日期2010年10月20日 优先权日2010年10月20日专利技术者王旭亮, 申跃生, 赵保良, 霍新莉, 高青 申请人:中国乐凯胶片集团公司, 保定乐凯薄膜有限责任公司, 合肥乐凯科技产业有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有双硬化层的光学薄膜，它包括透明基材（１）和涂覆在透明基材上下两个表面的第一硬化层（２）和第二硬化层（３），其特征在于，其中第二硬化层（３）的表面具有凹坑（４），凹坑所占的面积之和与所述硬化层的面积之比为２：１００～９９：１００。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：霍新莉，赵保良，王旭亮，申跃生，高青，
申请(专利权)人：中国乐凯胶片集团公司，合肥乐凯科技产业有限公司，保定乐凯薄膜有限责任公司，
类型：实用新型
国别省市：13[中国|河北]