基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种即使在产生故障的情况下也能不停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。基板处理装置（１）包括第１、第２处理区（１４ａ、１４ｂ），该第１、第２处理区包括：用于输送基板（Ｗ）的第１、第２基板输送机构（１４１ａ、１４１ｂ）；分别设于该基板输送机构（１４１ａ、１４１ｂ）左右两侧，进行相同处理的处理单元的列（Ｕ１～Ｕ４）。处理单元的列（Ｕ１、Ｕ３）和另一方侧的处理单元的列（Ｕ２、Ｕ４）分别与共用化的处理流体的供给系统（３ａ、３ｂ）连接。而且，在任一基板输送机构（１４１ａ、１４１ｂ）、处理流体的供给系统（３ａ、３ｂ）产生故障时，仍能用正常工作的基板输送机构（１４１ｂ、１４１ａ）、处理流体的供给系统（３ｂ、３ａ）所对应的处理单元的列（Ｕ１～Ｕ４）来处理基板（Ｗ）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及使用例如输送半导体晶圆等基板的基板输送机构，相对于对上述基板 实施液体处理、表面处理等流体处理的多个处理单元输送基板并对基板进行处理的技术。
技术介绍
在半导体器件等制造工序中，有向半导体晶圆(以下称为晶圆)等基板的表面供 给药液、纯水等处理液而去除附着于基板上的颗粒、污染物质的液体处理。在进行这样的液体处理的一个液体处理装置中，有在旋转夹具上一张一张地载置 基板、一边使基板旋转一边向该基板表面供给处理液而实施液体处理的液体处理装置。在 这种液体处理装置中，例如通过用共用的基板输送机构相对于能够实施同种液体处理的多 个液体处理单元输送基板，一边用多个液体处理单元同时实施液体处理一边连续更换基 板，提高每单位时间的基板的处理张数(生产率)(专利文献1)。本案专利技术人研究进一步提高具有这样的构造的液体处理装置的生产率，作为该方 法，正在研究通过在1台液体处理装置内设有多个采用共用的基板输送机构向多个液体处 理单元输送基板的处理区，增加能同时处理的基板的张数。可是，若这样地增加由1台液体处理装置能够处理的基板张数，则例如在各液体 处理单元、基板输送机构、向液体处理单元供给处理液的供给系统等中产生故障时，由于停 止液体处理装置而产生的损失变大。特别是在像上述那样在液体处理装置内设有多个处理 区的情况下，会无视产生故障的部位以外的区能够继续工作的情况，而仍然使整个装置停 止，会产生机会损失，妨碍液体处理装置高效率地工作。在此，在专利文献2中，记载有如下的涂敷、显影装置，即，在对半导体晶圆进行涂 敷液的涂敷处理、热处理和曝光后的显影处理这样的一连串的处理的涂敷、显影装置中，设 置多条实施该一连串的处理的处理生产线，即使1条处理生产线所包括的设备产生故障的 情况下，剩下的处理生产线也能够继续工作。专利文献1 日本特开2008-34490号公报0020段、图1专利文献2 日本特开2004-87675号公报0040段、0108段、图1 图3在上述专利文献2记载的涂敷、显影装置中，在各处理生产线包括的设备产生故 障的情况下，无论该故障部位在哪都需要停止包括该产生故障的设备的整条处理生产线。 对此，如上所述，在构成采用1个基板输送机构向多个液体处理单元输送基板的液体处理 区、设置多个该液体处理区的情况下，即使在为了使某个液体处理区工作所必需的设备中 产生故障的情况下，也能够以该液体处理区所包括的其他液体处理单元继续液体处理，所 以即使应用专利文献2所记载的技术也有无法使液体处理装置高效率地工作的情况。
技术实现思路
本专利技术是鉴于这样的情况而做成的，提供一种即使在产生故障的情况下、也能不 停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。本专利技术的基板处理装置的特征在于，包括基板搬入区，包括容器载置部，其用于载置收纳有基板的基板收纳容器；交接机 构，其用于相对于载置在该容器载置部的基板收纳容器进行基板的交接，第1处理区，其与该基板搬入区相邻地设置，用于对从该基板搬入区接受的基板 进行处理，其包括第1基板输送机构，其用于沿着直线输送路径输送基板；处理单元的列， 其分别设于该基板输送机构的左右两侧，由利用上述第1基板输送机构进行基板的交接并 且分别利用处理流体对基板进行相同的处理的多个处理单元构成，第2处理区，其与该第1处理区相邻设置，用于对从上述基板搬入区接受的基板进 行处理，其包括第2基板输送机构，其用于沿着直线输送路径输送基板；处理单元的列，其 分别设于该基板输送机构的左右两侧，由利用上述第2基板输送机构进行基板的交接并且 对基板分别进行与上述处理单元相同的处理的多个处理单元构成，一个处理流体供给系统，其被上述第1处理区的左右的处理单元的列中的一列和 上述第2处理区的左右的处理单元的列中的一列共用，另一个处理流体供给系统，其被上述第1处理区的左右的处理单元列中的另一列 和上述第2处理区的左右的处理单元的列中的另一列共用，控制部，其进行如下控制在上述第1处理区和第2处理区中的一个处理区的基板 输送机构产生故障时，使用另一个处理区处理基板，在一个处理流体供给系统和另一个处 理流体供给系统中的任一方产生故障时，使用未产生故障的处理流体的供给系统所对应的 处理单元的列来处理基板。上述基板处理装置也可以具有以下的特征。(a)其特征在于，上述控制部进行如下控制在处理单元的任一个产生故障时，停 止使用包括该处理单元在内的处理单元的列，而使用其他的处理单元的列来处理基板。(b)上述第1处理区和第2处理区互相层叠。(c)上述第2处理区相对于第1处理区设在与基板搬入区相反的一侧。(d)该基板处理装置包括基板载置部，其用于在上述第1处理区和第2处理区之间进行基板的交接；第1区间输送机构，为了向第1处理区或上述基板载置部输送从上述基板搬入区 的交接机构接受的基板，第1区间输送机构相对于上述第1基板输送机构独立地设置；第2区间输送机构，为了向第2处理区输送被载置在上述基板载置部的基板，第2 区间输送机构相对于上述第2基板输送机构独立地设置。根据本专利技术，利用各基板输送机构进行基板的交接的处理单元的列的组合与共用 的处理流体的各供给系统所连接的处理单元的列的组合互不相同。因此，即使例如在基板 输送机构的一侧产生故障，也能用另一侧的基板输送机构继续进行基板的处理，在该状态 下，即使还在处理流体的供给系统的一侧产生故障，也剩有使用没有产生故障的基板输送 机构和处理流体的供给系统而能够继续基板的处理的处理单元的列。其结果，相对于故障 的产生，能够提高不停止整个装置地继续进行基板处理的可能性。附图说明图1是本专利技术的实施方式的液体处理装置的横剖俯视图。图2是上述液体处理装置的纵剖侧视图。图3是表示上述液体处理装置的内部结构的立体图。图4是表示搭载于上述液体处理装置上的液体处理单元的结构的说明图图5是表示向上述液体处理单元供给处理液的供给系统的说明图。图6是表示上述液体处理装置的电气结构的说明图。图7是在上述液体处理装置中确定与故障产生部位相对应地停止的液体处理单 元的列的分组表。图8是表示上述液体处理装置的故障产生时的动作的流程的流程图。图9是表示上述液体处理装置的动作的第1说明图。图10是表示上述液体处理装置的动作的第2说明图。图11是表示第2实施方式的液体处理装置的例子的横剖俯视图。图12是上述第2实施方式的液体处理装置的纵剖侧视图。图13是表示上述第2实施方式的液体处理装置的内部结构的立体图。图14是表示上述第2实施方式的液体处理装置的动作的第1说明图图15是表示上述第2实施方式的液体处理装置的动作的第2说明图图16是表示上述第2实施方式的液体处理装置的动作的第3说明图具体实施方式作为本专利技术的基板处理装置的实施方式，一边参照图1 图7 —边说明液体处理 装置1的结构，该液体处理装置1用于进行向作为基板的晶圆W供给作为处理液的药液而 去除附着于基板上的颗粒、污染物质的液体处理。图1是表示液体处理装置1的整体结构 的横剖俯视图，图2是纵剖侧视图，朝向这些图以左侧为前方时，液体处理装置1呈从前方 依次连接有以下部件的构造载置区11，其载置有作为收纳多张晶圆W的基板收纳容器的 FOUP (即前开式晶圆盒，Front-OpeningUnified本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，包括：基板搬入区，其包括：容器载置部，其用于载置基板收纳容器，该基板收纳容器收纳有基板；交接机构，其用于相对于载置在该容器载置部的基板收纳容器进行基板的交接，第１处理区，其与该基板搬入区相邻地设置，用于对从该基板搬入区接受的基板进行处理，其包括：第１基板输送机构，其用于沿着直线输送路径输送基板；处理单元的列，分别设于该第１基板输送机构的左右两侧，由利用上述第１基板输送机构进行基板的交接并且分别利用处理流体对基板进行相同的处理的多个处理单元构成，第２处理区，其与该第１处理区相邻设置，用于对从上述基板搬入区接受的基板进行处理，其包括：第２基板输送机构，其用于沿着直线输送路径输送基板；处理单元的列，分别设于该第２基板输送机构的左右两侧，由利用上述第２基板输送机构进行基板的交接并且对基板分别进行与上述处理单元相同的处理的多个处理单元构成，一个处理流体供给系统，其被上述第１处理区的左右的处理单元的列中的一列和上述第２处理区的左右的处理单元的列中的一列共用，另一个处理流体供给系统，其被上述第１处理区的左右的处理单元的列中的另一列和上述第２处理区的左右的处理单元的列中的另一列共用，控制部，其进行如下控制：在上述第１处理区和第２处理区中的一个处理区的基板输送机构产生故障时，使用另一个处理区处理基板，在一个处理流体供给系统和另一个处理流体供给系统中的任一个产生故障时，使用未产生故障的处理流体的供给系统所对应的处理单元的列来处理基板。...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：南田纯也，上田一成，长野泰博，黑田修，江岛和善，吉田正宽，守田聪，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]