【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
电镀槽保护盖，其特征在于，其为凹槽，凹槽的槽底为斜面，所述成斜面的槽底具有一高端和一低端，在所述的低端具有一贯通槽底的通孔，在通孔处安装有可将凹槽内的液体排出的排液管。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吕海波，黄利松，
申请(专利权)人：上海新阳半导体材料股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]
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