【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及对电镀液的状态进行分析的电镀液分析装置。
技术介绍
在制造多层印刷布线板等时,通过电镀处理来形成用于将各导体层(导体图案)彼此连接的柱状导体(通孔、过孔等)的方法得到广泛应用。例如,在下述专利文献中,公开了通过利用硫酸铜镀覆液作为镀覆液(电镀液)的电镀处理来形成柱状导体的印刷布线板的制造方法。在该制造方法中,首先,在布线基板上预先形成的下层布线上通过无电解镀铜处理来形成用作为供电膜的电流薄膜(currentfilm)。接下来,在涂布抗蚀剂并使其干燥后,进行利用柱状导体形成用的掩模的紫外线曝光来进行显影,从而在布线基板上形成柱状导体形成用的镀覆抗蚀剂图案。接下来,进行将布线基板(电流薄膜)用作为阴极的电解镀铜处理。此时,通过在镀覆抗蚀剂图案的开口部内(要形成柱状导体的位置:电流薄膜上)析出的铜来形成柱状导体。接下来,在剥离镀覆抗蚀剂图案、及去除不需要的电流薄膜之后,涂布绝缘材料并使其干燥,从而形成作为层间绝缘层的树脂层。通过将以上的处理反复执行多层化所需要的多次,从而完成多层印刷布线板。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开平10-98268号公报(第3-4页、图1-3)
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题然而,在上述多层印刷布线板的制造方法中,存在以下要解决的问题。即,在现有的制造方法中,通过利用硫酸铜镀覆液作为镀覆液(电镀液)的电镀处理(电解 ...
【技术保护点】
一种电镀液分析装置,包括:测定部,该测定部能执行测定处理,该测定处理中,将电压施加到与分析对象的电镀液接触的参照电极及作用电极之间,并测定流过与该电镀液接触的相对电极及该作用电极之间的电流的电流值;及处理部,该处理部执行控制所述测定部执行所述测定处理以获取测定值的测定值获取处理、以及基于所获取的该测定值来分析所述电镀液的状态的分析处理,其特征在于,所述处理部中,作为所述测定值获取处理,在以使电流密度处于预先规定的电流密度范围内的方式规定的电压值范围内变更第1电压的电压值来执行多次析出溶出处理,该析出溶出处理依次执行处理1A和处理2A,并且在所述分析处理中,基于通过所述测定值获取处理获取的所述测定值来分析所述电镀液的状态,该处理1A中,在整个预先规定的第1时间内将预先规定的电压值的所述第1电压施加到所述参照电极及所述作用电极之间来使金属析出到该作用电极,并测定流过所述相对电极及该作用电极之间的第1电流的电流值作为所述测定值,该处理2A中,在整个预先规定的第2时间内将电压值以预先规定的变化率变化的第2电压施加到所述参照电极及所述作用电极之间,从而使在所述处理1A中析出到该作用电极的所述金属 ...
【技术特征摘要】
2014.11.21 JP 2014-236183;2014.11.21 JP 2014-236181.一种电镀液分析装置,包括:
测定部,该测定部能执行测定处理,该测定处理中,将电压施加到与
分析对象的电镀液接触的参照电极及作用电极之间,并测定流过与该电镀
液接触的相对电极及该作用电极之间的电流的电流值;及
处理部,该处理部执行控制所述测定部执行所述测定处理以获取测定
值的测定值获取处理、以及基于所获取的该测定值来分析所述电镀液的状
态的分析处理,其特征在于,
所述处理部中,作为所述测定值获取处理,在以使电流密度处于预先
规定的电流密度范围内的方式规定的电压值范围内变更第1电压的电压值
来执行多次析出溶出处理,该析出溶出处理依次执行处理1A和处理2A,并
且在所述分析处理中,基于通过所述测定值获取处理获取的所述测定值来
分析所述电镀液的状态,该处理1A中,在整个预先规定的第1时间内将预先
规定的电压值的所述第1电压施加到所述参照电极及所述作用电极之间来
使金属析出到该作用电极,并测定流过所述相对电极及该作用电极之间的
第1电流的电流值作为所述测定值,该处理2A中,在整个预先规定的第2时
间内将电压值以预先规定的变化率变化的第2电压施加到所述参照电极及
所述作用电极之间,从而使在所述处理1A中析出到该作用电极的所述金属
溶出到所述电镀液,并以预先规定的周期测定流过所述相对电极及该作用
电极之间的第2电流的电流值作为所述测定值。
2.如权利要求1所述的电镀液分析装置,其特征在于,
所述处理部执行如下各处理中的至少一个来作为所述分析处理:
处理Aa,该处理Aa中,基于所述第2电流的电流值和在所述处理2A时
有该第2电流流过所述相对电极及所述作用电极之间的第2时间,对各所述
析出溶出处理分别计算该处理2A时施加到所述电镀液的第2电荷,并且,基
于所述作用电极的电极面积及所述第1电流的电流值,对各所述析出溶出处
理分别计算第1电流密度,基于计算得到的各所述第2电荷及各所述第1电流
密度,分析为所述电镀液处于如下状态:在所述第2电荷越多的所述析出溶
\t出处理时的所述第1电流密度的条件下进行镀覆处理时,每单位时间对镀覆
对象物析出的所述金属的量越多,在该第2电荷越少的所述析出溶出处理时
的所述第1电流密度的条件下进行镀覆处理时,每该单位时间对该镀覆对象
物析出的所述金属的量越少;
处理Ba,该处理Ba中,基于所述第1电流的电流值及所述第1时间,对
各所述析出溶出处理分别计算所述处理1A时施加到所述电镀液的第1电荷,
基于所述第2电流的电流值和所述第2时间,对各所述析出溶出处理分别计
算所述第2电荷,且对各所述析出溶出处理分别计算所述第1电荷及所述第2
电荷之差,并且,基于所述作用电极的电极面积及所述第1电流的电流值,
对各所述析出溶出处理分别计算所述第1电流密度,基于计算得到的各所述
第1电荷、各所述第2电荷及各所述第1电流密度,分析为所述电镀液处于如
下状态:在所述两电荷之差越小的所述析出溶出处理时的所述第1电流密度
的条件下进行镀覆处理时,对所述金属析出到镀覆对象物无贡献的电荷越
少,在该两电荷之差越大的所述析出溶出处理时的所述第1电流密度的条件
下进行镀覆处理时,对该金属析出到该镀覆对象物无贡献的电荷越多;
处理Ca,该处理Ca中,基于所述第2电流的电流值及所述第2时间,对
各所述析出溶出处理分别计算所述第2电荷,且基于各该第2电荷对各所述
析出溶出处理分别计算在各所述处理1A时析出到所述作用电极的所述金属
的金属量,并且,基于所述作用电极的电极面积及所述第1电流的电流值,
对各所述析出溶出处理分别计算所述第1电流密度,基于计算得到的各所述
金属量及各所述第1电流密度,确定能使预先规定的金属量以上的所述金属
析出到所述作用电极的该第1电流密度的电流密度下限值,分析为所述电镀
液处于如下状态:在低于所述电流密度下限值的所述第1电流密度的条件下
进行镀覆处理时无法使所述预先规定的金属量以上的所述金属析出到镀覆
对象物;
处理Da,该处理Da中,基于所述第2电流的电流值及所述第2时间,对
各所述析出溶出处理分别计算所述第2电荷,且基于各该第2电荷对各所述
析出溶出处理分别计算在各所述处理1A时析出到所述作用电极的所述金属
的金属量,并且,基于所述作用电极的电极面积及所述第1电流的电流值,
\t对各所述析出溶出处理分别计算所述第1电流密度,基于计算得到的各所述
金属量及各所述第1电流密度,确定能使预先规定的金属量以上的所述金属
析出到所述作用电极的该第1电流密度的电流密度上限值,分析为所述电镀
液处于如下状态:在超过所述电流密度上限值的所述第1电流密度的条件下
进行镀覆处理时无法使所述预先规定的金属量以上的所述金属析出到镀覆
对象物;
处理Ea,该处理Ea中,基于各所述析出溶出处理的所述第2电流的电流
值,在该第2电流的电流值为预先规定的基准电流值以上时,分析为所述电
镀液中包含杂质;及
处理Fa,该处理Fa中,基于所述第1电流的电流值及所述第1时间,对
各所述析出溶出处理分别计算所述第1电荷,基于所述第2电流的电流值及
该电流值在所述第2时间内的变化状态,对各所述析出溶出处理分别计算所
述第2电荷中对所述金属的溶出有贡献的第3电荷,且基于所述作用电极的
电极面积及所述第1电流的电流值,对各所述析出溶出处理分别计算所述第
1电流密度,并且,基于各所述第1电流密度、各所述第1电荷及各所述第3
电荷,分析为所述电镀液处于如下状态:在该第3电荷与该第1电荷的比率
越大的所述析出溶出处理时的所述第1电流密度的条件下进行镀覆处理时,
对所述金属析出到镀覆对象物有贡献的电荷越多,在该第3电荷与该第1电
荷的比率越小的所述析出溶出处理时的所述第1电流密度的条件下进行镀
覆处理时,对所述金属析出到该镀覆对象物有贡献的电荷越少。
3.如权利要求1或2所述的电镀液分析装置,其特征在于,
所述处理部中,
作为所述测定值获取处理,分别执行测定值获取处理1a和测定值获取
处理2a,该测定值获取处理1a使用了由与所述电镀液的不溶性为预先规定
的水平以上的第1材料来至少形成电极面的第1电极作为所述作用电极,该
测定值获取处理2a使用了由与通过所述镀覆处理使所述金属析出的镀覆对
象物相同的第2材料来至少形成电极面、且该电极面的面积与所述第1电极
的所述电极面的面积相等的所述第2电极作为所述作用电极,且所述处理1A
时的所述第1时间和所述第1电压的电压值、所述处理2A时的所述第...
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