具有改进的耐磨损性的负性工作可成像元件制造技术

用辐射敏感性可成像层制备的负性工作可成像元件，该辐射敏感性可成像层含有表面改性的二氧化硅颗粒例如热解法二氧化硅颗粒和溶胶凝胶二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约１－大约４０重量％的量存在，具有大约１－大约５００ｎｍ的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约０．５－大约１５重量％的源自含１－３０个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。所述表面改性的二氧化硅颗粒的存在提供改进的耐磨性、降低的粘性和各种其它期望的性能。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有改进的耐磨损和耐刮擦性的负性工作可成像元件，和将这些可成 像元件成像和显影以特别提供平版印刷板的方法。
技术介绍
在常规或〃湿〃平版印刷中，在亲水性表面上产生油墨接受区(称为图像区域)。 当这种表面用水润湿并施用油墨时，该亲水区保持水并排斥油墨，油墨接受区接受油墨并 排斥水。然后将油墨转移到其上将要复制图像的材料的表面上。在有些情况下，可以首先将 油墨转移到中间转印布上，它进而用于将油墨转移到其上将要复制图像的材料的表面上。可用于制备平版印刷板的可成像元件通常包括施加在基材的亲水性表面上的可 成像层。这种可成像层包括一种或多种可以分散在适合的粘结剂中的辐射敏感性组分。或 者，所述辐射敏感性组分也可以是粘结剂材料。在成像之后，通过适合的显影剂除去所述可 成像层的成像区或未成像区，从而使基材的基础性亲水性表面露出。如果除去成像区域，则 元件被认为是正性工作的。相反地，如果除去未成像区域，则元件被认为是负性工作的。在 每种情况下，可成像层的保留的区域(即，图像面积)是油墨接受性的，而通过显影过程露 出的亲水表面的区域接受水和水溶液(通常是润版溶液)并排斥油墨。直接数字成像在印刷工业中已变得越来越重要。已开发出与红外激光器一起使 用的用于制备平版印刷板的可成像元件。热可成像的负性工作可成像元件例如描述在WO 2004/074930 (Baumann 等人)和 W 2007/090550 (Strehmel 等人)中。已经出于各种原因将颗粒状材料引入到平版印刷板前体中。例如，已经将有机 聚合物颗粒引入到此类元件中以便改进印刷机可显影性，如美国专利号6，352, 811 (Patel 等人)所述。金属颗粒的纳米糊剂针对美国专利号7，217，502(Ray等人)中的可成像 元件进行了描述。核-壳型颗粒已经包括在成像层中，以致它们在成像时聚结，例如 EPl, 057，622 (Fukino 等)中所述。还已知在各种可成像元件中使用二氧化硅颗粒以改变表面性能或增稠已涂覆的 层。例如，EP1，096，313A1 (Hanabata)描述了在UV敏感性光致抗蚀剂中使用用表面酚基改 性的二氧化硅颗粒，该改性颗粒倾向于附聚并在涂料配方中提供增稠。然而，此类酚基倾向 于抑制自由基光致聚合。待解决的问题可成像元件例如平版印刷板前体通常在以独立元件之间具有隔离纸的多重单元 或堆叠体形式制造后包装和装运。在可成像元件的制造、包装、运输和后续使用期间，最外 层可能由于人或机器处理而被擦伤或磨损。对此类元件的外层的损坏(例如由于刮擦)可 能在所得图像中产生〃孔穴〃或其它缺陷，这是重大的问题。负性工作可成像元件中的另一个问题是可成像层的粘性，这归因于反应性单体和 低聚物的高浓度。这种问题是制造、储存、运输和用户最终应用中的关注，导致不希望的印 刷机面缺陷(压痕)。当此类可成像元件存储在热和潮湿条件中时该问题是尤其明显的，并 且可能产生辊缺陷以及被隔离纸压入外表面的不许可的图案。这些缺陷要求以相当大成本和低效率刮擦可成像元件。此外，用由含水溶剂涂覆的隔氧面涂层制备一些负性工作可成像元件。可能在该 面涂配方和基础可成像层配方之间发生掺混并且可成像层的一些亲水性组分可能迁移到 面涂层中，导致元件敏感性和打印性能降低。仍需要改进负性工作可成像元件的耐磨性和降低粘性以减少各种缺陷，而不会有 所需成像、显影或打印性能的任何损失。专利技术概述本专利技术提供负性工作可成像元件，包括其上具有可成像层的基材，该可成像层包 含可自由基聚合组分，在暴露于成像辐射中时提供自由基的引发剂组合物，辐射吸收性化合物，聚合物粘结剂，和表面改性的二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1-大约40重量％的量存在，具有大约1-大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5-大约15重量％的源自含1_30 个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。在一些实施方案中，本专利技术的负性工作、红外辐射敏感性平版印刷板前体包括含 铝基材，该含铝基材在其上具有可成像层和任选的布置在该可成像层上的面涂层，该可成 像层包含可自由基聚合组分，在暴露到成像红外辐射中时提供自由基的引发剂组合物，辐射吸收性化合物，聚合物粘结剂，和表面改性的二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约5-大约20重量％的量存在，具有大约2-大约SOnm的平均粒度，具有表面羟基，大约100-大约250m2/g的BET表面积，并具有大约 0. 5-大约5重量％的源自表面疏水性基团的碳含量，所述表面疏水性基团基本上由含1-10 个碳原子的烷基或苯基构成。在一些实施方案中，本专利技术的平版印刷板前体具有亲水性含铝基材并且可以排列 在多个平版印刷板前体的堆叠体中，每个独立平版印刷板前体之间具有隔离纸。本专利技术还提供图像的提供方法，包括A)将本专利技术的负性工作可成像元件成像，以提供具有曝光区域和未曝光区域的成 像元件，和B)将该成像元件显影以仅主要除去该非曝光区域。本专利技术的负性工作可成像元件包括具有单一可成像层作为最外层的那些以及具 有在可成像层上的最外面涂层的那些。本专利技术提供当洗掉任何面涂层时(因此，清洁剂预冲洗溶液在冲洗机中)具有改 进的耐磨性、降低的粘性和减少的涂层降解的负性工作可成像元件。此外，已经观察到用本 专利技术在打印期间具有改进的耐水性和耐久性(更高的运转寿命)。改进的耐磨性和减小的 粘性减少来自辊子接触的缺陷和来自隔离纸的印痕。这些优点是通过将本文描述的表面改性二氧化硅颗粒(热解法二氧化硅颗粒或 溶胶凝胶二氧化硅颗粒)引入到可成像元件的可成像层中而达到的。观察到的另一个优点是涂料配方的粘度几乎不受所述表面改性二氧化硅颗粒的 存在影响并因此可以使用标准涂覆技术。具有不显著的表面改性或没有表面改性的二氧化 硅颗粒引起涂料配方中相当大的粘度提高，而导致涂覆和干燥复杂化。专利技术详述定义除了文中另有说明以外，否则当在本文中使用时，术语"可成像元件"、“负性工 作可成像元件"和"平版印刷板前体"意味着参考本专利技术的实施方案。此外，除了文中另有说明以外，否则本文描述的各种组分例如"表面改性的二氧 化硅颗粒"、“聚合物粘结剂"、“辐射吸收性化合物"和类似的术语还涉及这些组分的 混合物。因此，冠词"一个"或"一种"的使用不一定意味着仅涉及单一组分。“单层"可成像元件是指本专利技术的可成像元件仅具有为提供图像所需的单层。表 面改性的二氧化硅颗粒(下面限定)将位于可以是最外层的这种单一可成像层中。然而， 此类元件可以在基材的任一侧上并且在可成像层下面包括额外的非成像层。所谓的"多层"可成像元件是指本专利技术的可成像元件具有可成像层和布置在该 层上的面涂层。然而，此类元件可以在基材的任一侧上包括额外的非成像层。表面改性的 二氧化硅颗粒(下面限定)一般在可成像层中而不在面涂层中。术语在显影期间"主要除去非曝光区域"是指通过显影剂选择性地且优先地除 去可成像层的非曝光区域和任何下方层的相应区域，但不除去曝光区域。除非另有说明，否则百分率是指重量百分率。对于任何关于聚合物的术语的定义说明，请参考International Union of Pure and Applied Chemistry(" IUPAC")出版的"Glossary of Basic Terms in本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种负性工作可成像元件，包括其上具有可成像层的基材，该可成像层包含：可自由基聚合组分，在暴露于成像辐射中时提供自由基的引发剂组合物，辐射吸收性化合物，聚合物粘结剂，和表面改性的二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约１－大约４０重量％的量存在，具有大约１－大约５００ｎｍ的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约０．５－大约１５重量％的源自含１－３０个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：G豪克，C萨瓦里亚豪克，U德瓦斯，H鲍曼，B施特勒默尔，C辛普森，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]