用于冷却涂有半导体的热玻璃片的系统和方法技术方案

用于在真空室（２４）内的冷却站（３６）内冷却涂有半导体的热玻璃片的系统（２０、２０’）和方法。在辐射热吸收器（１１０）的辐射热吸收元件（１１２）之间输送涂有半导体的热玻璃片，用来提供冷却。在一个实施方案中，垂直地输送玻璃片来冷却，而在另一个实施方案中，水平地输送玻璃片。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利技术背景 专利
本专利技术涉及。
技术介绍
半导体设备如光电板先前已由在玻璃片底物上涂覆半导体材料而构造。参见美国 专利5016562 Madan 等人；5248349 Foote 等人；5372646 Foote 等人；5470397 Foote 等 人；和5536333 Foote等人，所有的这些专利都公开了用于在这种涂覆时输送玻璃片的卧 式棍子(horizontal roller)。在进行与本专利技术相关的研究时，所记录的其它已有技术文献包括美国专利 4545327 Campbell 等人；4593644 Hanak ；5288329 Nakamura 等人；6013134 Chu 等人；和 6827788 Takahashi人以及美国公开的专利申请US2007/0137574。专利技术概述本专利技术的目的是提供一种用于冷却涂有半导体的热玻璃片的改进的系统。在实施上述目的时，用于冷却涂有半导体的热玻璃片的本专利技术系统包括限定真空 室的壳体，并且还包括用于输送刚涂有半导体材料的热玻璃片通过真空室的输送器。冷却 站包括具有辐射热吸收元件的辐射热吸收器，该辐射热吸收元件以对立的关系彼此隔开， 涂有半导体的玻璃片在辐射热吸收元件之间输送，以便辐射热吸收元件从其吸收辐射热来 提供冷却。在该系统的一个所公开的实施方案中，输送器具有支持涂有半导体的玻璃片的上 部末端的上部支持物(upper support)，在穿过真空室和在辐射热吸收器的辐射热吸收元 件之间输送时，涂有半导体的玻璃片以垂直的方向从上部支持物向下垂挂。这个实施方案 的辐射热吸收器的辐射热吸收元件具有通常连续的平坦的热吸收表面，该热吸收表面垂直 地延伸，且以隔开和平行的关系互相对立，并且，垂直地定向的涂有半导体的玻璃片在热吸 收表面之间输送，以便进行冷却。在该系统的另一个所公开的实施方案中，输送器包括在真空室内沿着壳体隔开的 卧式辊子，用来穿过真空室和在辐射热吸收器的辐射热吸收元件之间水平地输送涂有半导 体的玻璃片。这个实施方案的辐射热吸收器包括上部热吸收元件和下部热吸收元件，上部 热吸收元件和下部热吸收元件都包括平坦的热吸收表面，且上部热吸收元件具有被隔开在 输送器辊子上面的通常连续的向下地面向的热吸收表面，并且下部热吸收元件包括位于输 送器辊子之间的隔开的部分，并且，隔开的部分具有向上地面向的热吸收表面部分，该热吸 收表面部分被隔开在被输送的涂有半导体的玻璃片的下面。此外，下部热吸收部分如已公 开的一样具有整体的单一的构造，该构造包括下部底座，它的隔开的部分在输送器辊子之 间从下部底座向上凸出。在两个实施方案中，辐射热吸收器可以是石墨或耐火材料，该耐火材料优选地是5α态金刚砂。更具体地，第一个实施方案公开了它的输送器，该输送器设置有支持涂有半导体 的玻璃片的上部末端的上部支持物，在穿过真空室和在辐射热吸收器的辐射热吸收元件之 间输送时，涂有半导体的玻璃片从上部支持物以垂直的方向向下地垂挂，且辐射热吸收器 的辐射热吸收元件由耐火材料制得，并且具有通常连续的平坦的热吸收表面，该热吸收表 面垂直地延伸，且以隔开和平行的关系互相对立，并且，垂直地定向的涂有半导体的玻璃片 在热吸收表面之间输送，以便进行冷却。同样，第二个实施方案如已公开的一样具有它的输送器，该输送器设置有在真空 室内沿着壳体彼此隔开的卧式辊子，用来穿过真空室和在辐射热吸收器的辐射热吸收元件 之间水平地输送涂有半导体的玻璃片，且该辐射热吸收器包括上部热吸收元件和下部热吸 收元件，上部热吸收元件和下部热吸收元件都由耐火材料制得，且包括平坦的热吸收表面， 并且更具体地，上部热吸收元件具有被隔开在输送器辊子上面的通常连续的向下地面向的 热吸收表面，且下部热吸收元件包括位于输送器辊子之间的隔开的部分，并且，隔开的部分 具有向上地面向的热吸收表面部分，该热吸收表面部分被隔开在被输送的涂有半导体的玻 璃片的下面。另外，耐火材料的下部热吸收部分如已公开的一样具有整体的单一的构造，该 构造包括下部耐火材料底座，它的耐火材料的隔开的部分在输送器辊子之间从下部耐火材 料底座向上凸出。本专利技术的另一个目的是提供一种用于冷却涂有半导体的热玻璃片的改进的方法。在实施紧接的上述目的时，用于冷却涂有半导体的热玻璃片的本专利技术的方法是通 过在真空室内将刚涂有半导体材料的热玻璃片输送到一对隔开的辐射热吸收元件之间而 实施的，该辐射热吸收元件接收来自涂覆的玻璃片的辐射热，用来提供冷却。在所述方法的一次实践中，涂有半导体的热玻璃片在垂直地延伸的方向由输送器 在涂覆的玻璃片的上部末端支持着来输送，且被输送到垂直地延伸的辐射热吸收元件之 间，以便进行冷却。在所述方法的另一次实践中，涂有半导体的热玻璃片以水平地延伸的方向在辊子 输送器的辊子上输送到上部辐射热吸收元件和下部辐射热吸收元件之间，且半导体材料向 上朝着上部热吸收元件。在所述方法的这次实践中，涂有半导体的热玻璃片通过上部辐射 热吸收元件从上面来冷却，并且通过下部辐射热吸收元件从下面来冷却，该上部辐射热吸 收元件具有连续的向下地面向的表面，该下部辐射热吸收元件具有在输送机辊子之间向上 地凸出的隔开的部分。在所述方法的两次实践中，辐射热吸收元件可以由耐火材料制得，特别是α态金 刚砂。当结合附图从优选的实施方案的详细描述来看时，本专利技术的目的、特征和优势是 非常明显的。附图简述附图说明图1是依照本专利技术的用于冷却涂有半导体的热玻璃片的系统的一个实施方案的 透视图。图2是说明传动装置和梭子(shuttle)的透视图，所述梭子用来从上部末端垂直 地悬挂玻璃片，并提供其通过系统的输送。图3是局部视图，说明了磁的旋转传动元件支持且旋转地驱动梭子和悬挂在梭子 上的垂直的玻璃片的方式。图4是所述系统的上部示意图，说明了系统的模块构造和一对并排的输送器，所 述输送器垂直地输送玻璃片通过系统的壳体真空室，以便进行半导体沉积。图5是通过上面涂覆了半导体材料的玻璃片的剖视图，并且为了说明的目的放大 了半导体材料的厚度。图6是说明在炉的加热站中的辐射加热器的示意性的平面图，所述炉用来提供被 垂直地输送的玻璃片的辐射加热，以为半导体沉积作准备。图7是说明在沉积站内输送垂直的玻璃片的示意性的上部平面图，半导体材料在 所述沉积站内沉积。图8是说明输送涂有半导体的玻璃片通过冷却站时的示意性的上部平面图，辐射 热吸收器在所述冷却站内提供玻璃片的冷却。图9是正视图，说明了细长的玻璃片以其长轴水平来输送的方式。图10是与图9相似的图，说明了细长的玻璃片以其长轴垂直来输送的方式。图IOa和IOb是所得到的玻璃片的侧视图和端视图，不考虑是否如图9所示或如 图10所示来输送，且说明了所得到的上部末端40在玻璃片的两个表面上都包括夹具标记 (tong mark)44，图11是依据本专利技术的系统的另一个实施方案的上部平面图，该系统冷却涂有半 导体的热玻璃片。图12是沿着图11中的通过系统的冷却站的线12-12的方向得到的剖视图，以说 明在辐射热吸收器的辐射热吸收元件之间在辊子输送器上水平地输送涂有半导体的玻璃 片的方式。优选实施方案的详述参考图1，依据本专利技术的用于冷却涂有半导体的热玻璃的系统20的一个实施方案 通常通过20来说明，且所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于冷却涂有半导体的热玻璃片的系统，包括：壳体，其界定真空室；输送器，其用于输送刚涂有半导体材料的热玻璃片通过所述真空室；以及冷却站，其包括辐射热吸收器，所述辐射热吸收器具有以对立的关系彼此隔开的辐射热吸收元件，所述涂有半导体的玻璃片在所述辐射热吸收元件之间输送，以便所述辐射热吸收元件从所述涂有半导体的玻璃片中吸收辐射热，从而提供冷却。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：詹姆士E海德，加里T法伊科施，
申请(专利权)人：威拉德凯尔西太阳能集团有限责任公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]