α－三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐制造技术

本实用新型专利技术涉及α－三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐，可有效解决α－三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产中对α－三氧化二铝或碳化硅原料的缓冲处理，确保产品质量的问题，其解决的技术方案是，包括有水箱和上水管、下水管，上水管和下水管置于水箱一侧的上、下部，水箱上部有液面控制器，上水管上有上水流量计，下水管上有出水流量计，本实用新型专利技术结构简单，新颖独特，使用安全，清洁卫生，缓冲效果好，有效保证了在α－三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产中对物料缓冲稳压的需要，有效保证了产品质量，节能、环保，经济和社会效益显著。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化工设备，特别是一种a -三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生 产用缓冲稳压罐。二
技术介绍
a -三氧化二铝(a _A1203)、碳化硅(SiC)微米级、纳米级材料是压电晶体生产进 行细微加工用的关键材料，广泛应用于信息产业、国防和航空等领域，包括军用、民用、医疗 和商业各方面都有极其广泛的用途，但由于高纯度的a_Al203、 SiC微米级、纳米级生产难 度大，质量要求高，其对a -三氧化二铝或碳化硅物料的缓冲处理的效果好坏，直接影响到 产品的质量，目前我国多是用进口产品，a_Al203、 SiC微米级、纳米级的缓冲处理还没有成 熟的设备，尤其是出于商业的目的，技术保密和封锁很严，国外采用什么设备难以得知，而 我国依靠进口材料，代价很高，大大限制了我国有关产业的发展，因此，如何有效解决微米、 纳米级a-三氧化二铝、碳化硅颗粒生产中的缓冲处理，是必需认真研究解决的技术难题。三
技术实现思路
针对上述情况，本技术之目的就是提供一种a -三氧化二铝、碳化硅微米级、 纳米级生产用缓冲稳压罐，可有效解决a-三氧化二铝(a-Al^》、碳化硅(SiC)微米级、 纳米级生产中对a-三氧化二铝或碳本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种α－三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐，包括有水箱和上水管、下水管，其特征在于，上水管（２）和下水管（３）置于水箱（１）一侧的上、下部，水箱上部有液面控制器（９），上水管（２）上有上水流量计（７），下水管上有出水流量计（６）。

【技术特征摘要】
一种α-三氧化二铝、碳化硅微米级、纳米级生产用缓冲稳压罐，包括有水箱和上水管、下水管，其特征在于，上水管(2)和下水管(3)置于水箱(1)一侧的上、下部，水箱上部有液面控制器(9)，上水管(2)上有上水流量计(7)，下水管上有出水流量计(6)。2. 根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡育成，
申请(专利权)人：蔡育成，
类型：实用新型
国别省市：41[中国|河南]